Neopact直接电镀工艺的过程控制

本在Neopact直接电镀工艺应用的基础上,摸索出了各参数对溶液性能的影响规律、总结出了其过程控制行之有效的方法。该工艺稳定可靠、控制容易,可以取代传统化学沉铜工艺、投入规模生产。     

粘胶长丝浸洗设备和工艺的开发

开发出用于粘胶长丝丝饼后处理的浸洗设备,介绍了浸洗设备的组成及工艺效果。与丝饼后处理淋洗工艺、压洗工艺相比较,浸洗工艺的处理时间短、效率高,脱盐水、蒸汽、电能的消耗少,丝饼的后处理质量均一。     

不同聚丁二烯橡胶RPA动态性能分析

采用RPA2000橡胶加工分析仪,对所测胶样进行了不同温度、频率、应变的扫描对比。研究结果表明：在RPA动态力学性能扫描测试生胶及混炼胶性能的试验中,弹性模量G’和损耗因子tanδ均随温度的升高,分别显示出降低和增大的规律,温度的适当提高可以改善其加工性。在RPA动态力学性能扫描测试硫化胶性能试验中,BR9000显示了较好的动态性能,是一种理想的轮胎胶料胶种。     

斜切小胎胎面切刀的设计

目前在小胎(力车胎和自行车外胎)胎面在运输带上切断的方法一般都采用电刷旋转电热刀和气泵(或电磁铁)直动电热刀来切断,切头断面与胎面胶条垂直。为了改善胎面接头的质量和为方便成型工操作,我厂设计了一种可切成斜面的半旋转电热刀。这     

铀在三种溶液中的动电位极化和电化学阻抗谱研究

用动电位极化和电化学阻抗谱（EIS）研究铀在0.5 mol/L H2SO4溶液、1 mol/L NaOH溶液和1 mol/L Na2SO4溶液中的腐蚀电化学行为。结果显示,铀在H2SO4溶液和Na2SO4溶液中的动电位极化曲线有类似的极化趋势,而在NaOH溶液中则有明显的钝化现象。EIS谱均有明显的容抗弧特征。利用软件对电化学阻抗谱进行拟合,得到了3种溶液中铀的电化学阻抗谱等效电路,拟合的阻抗谱与实验测得的阻抗谱拟合得比较好,拟合方差在10-3数量级。     

喷沙钻孔——一种微孔加工新方法

随着电子产品的日益缩微化,从高性能的计算机到通讯设施、摄录像机、MCM等,印制板对高密度的要求与日俱增。为满足这些要求,新型微孔互连技术正得以研究,并被越来越多公司所采用。如IBM公司在笔记本电脑上的应用;索尼及胜利公司在数字化摄录像机上的应用。如今,微孔可通过激光钻孔、等离子体蚀刻或光成像三种技术制造。其中光成像技术对PCB制造商最具吸引力,因为     

铀表面磁控溅射镍镀层的电化学腐蚀行为研究

采用磁控溅射离子镀膜技术在贫铀表面制备金属镍镀层,利用电化学测试技术研究了镍镀层在Cl^-溶液中的电化学腐蚀行为。结果表明：在含50 μg/g Cl^-的KCl溶液中,镍镀层的腐蚀电位-100.8 mV高于贫铀的腐蚀电位-641.2 mV,相对于贫铀是阴极性镀层,对贫铀的保护基于对腐蚀介质的物理屏障;镀镍贫铀样品的极化电阻和电化学阻抗幅值远大于贫铀,其腐蚀电流远小于贫铀;约70 h的连续腐蚀实验中镍镀层未出现镀层破裂、剥落现象,且腐蚀电位、电流保持稳定。说明镍镀层对贫铀基体具有良好的防腐蚀性能。     

贫铀表面钛镀层的抗腐蚀性能研究

利用电化学测试技术、扫描电镜(SEM)及X射线能谱(EDS)对贫铀表面钛镀层的抗腐蚀性能进行了研究。结果表明:在50μg/gCl-的KCl溶液中,钛镀层的腐蚀电位远高于贫铀的腐蚀电位,钛镀层对贫铀是阴极性镀层,对贫铀的保护是基于其对腐蚀介质的物理屏障作用;贫铀表面完整钛镀层的极化电阻和电化学阻抗幅值远大于贫铀,腐蚀电流远小于贫铀,完整钛镀层对贫铀具有良好的抗腐蚀保护作用;贫铀表面钛镀层的腐蚀特征为局部腐蚀,由孔蚀向电偶腐蚀转变;破坏的钛镀层将加速铀基体的腐蚀。     

铀表面纳米铌镀层的组织结构与界面特性

采用磁控溅射离子镀技术在贫铀表面以不同偏压制备了铌镀层,利用X射线衍射仪和扫描电镜对镀层的组织结构进行了表征,利用扫描电镜与俄歇电子能谱仪对镀层与基体的界面特性进行了研究。结果表明：铌镀层平整致密,但存在靶材飞溅颗粒形成的镀层缺陷,铌镀层为体心立方结构,存在择优取向、内应力以及晶粒细化等特性且为纳米镀层;铌镀层沿基体表面的法线方向生长且为典型的柱状结构,其表面为均匀的条状颗粒组织;铌镀层与铀基体结合紧密,且存在“伪扩散层”。     

ZrB2体材及薄膜制备技术研究

采用冷等静压成型结合高温烧结的方法制备ZrB2体材,并用磁控溅射方法在UO2芯块表面制备出ZrB2薄膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜、X射线能谱对烧结体及膜层的物相、形貌和成分进行了表征。采用热循环冲击的方法测试膜基结合性能。结果表明,所制体材能够满足磁控溅射制备ZrB2薄膜的需求。体材和膜层均为单相ZrB2,ZrB2薄膜生长均匀、致密且与基体有着良好的结合性能,膜层可以承受80℃到600℃快速升降温5次的热循环而仍然与基体紧密结合。