CrSiN-Ag薄膜的制备及性能

为拓宽氮化物薄膜的应用范围、研究Ag元素的加入对CrSiN-Ag薄膜性能的影响,采用射频磁控溅射在单晶硅Si(100)和304不锈钢上制备了不同Ag含量的CrSiN-Ag薄膜,利用能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、纳米压痕仪、摩擦磨损仪和三维形貌仪等对薄膜的成分、微观结构、力学和不同温度下的摩擦磨损性能进行表征。结果表明:CrSiN-Ag薄膜呈面心立方(fcc)结构,Ag以晶态的形式存在于CrSiN薄膜中;随着Ag含量的增加,CrSiN-Ag薄膜的硬度先升高后逐渐降低,当Ag含量增加到6.84%(原子分数)时硬度最大,为26.55 GPa。室温时,CrSiN-Ag薄膜的摩擦系数随着Ag含量的增加而减小,磨损率随着Ag含量的增加先减小后增大;当Ag含量为6.84%时,CrSiN-Ag薄膜的高温摩擦系数随着温度的升高先增加后减小,磨损率随着温度的升高而增加。     

本底真空度对磁控溅射制备Ru薄膜微观结构、膜基结合力及耐蚀性能的影响

采用射频磁控溅射法在功率用半导体散热片Mo上制备了不同本底真空度的Ru薄膜,利用能谱仪、X射线衍射仪、纳米划痕仪及电化学工作站等仪器研究了本底真空度对Ru薄膜化学成分、微观结构、膜基结合力及耐蚀性能的影响。结果表明,随着本底真空度的降低,Ru薄膜中氧含量逐渐降低,当本底真空度为6.0×10-4Pa时,薄膜中氧含量为0%(原子分数);当本底真空度为6.0×10-2Pa时,薄膜两相共存,即hcp-Ru+fcc-RuO_2,此时,薄膜中RuO_2的相对质量分数约为13.7%;随着本底真空度的降低,薄膜中fcc-RuO_2相对质量分数逐渐减少,当本底真空度为6.0×10-4Pa时,薄膜中fcc-RuO_2相消失,为hcp-Ru单一相结构;受RuO_2相的影响,薄膜晶粒尺寸及膜基结合力随本底真空度的降低而逐渐增加。研究表明,在3.5%Na Cl溶液,本底真空度为6.0×10-4Pa的Ru薄膜耐蚀性能优于Mo衬底。     

进一步加强500 kV系统调度运行管理

总结了华东500 kV电网自1987年投运至今14年来的运行调度的实践经验,突出了网调作为统一调度的管理机构在保证500 kV电网14年安全运行的作用.     

Ti-Si-Al-N纳米复合膜的组织与性能

采用磁控反应溅射法制备了一系列Al含量不同的Ti-Si-Al-N纳米复合薄膜,采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜及配套能量色散谱仪研究了Al含量对薄膜组织结构、硬度及高温抗氧化性的影响.结果表明:Ti-Si-Al-N薄膜点阵常数随Al含量的增加呈下降趋势;Al含量增加到6.48at%时出现h-AIN相,此时薄膜具有最高的硬度,约33GPa;薄膜的抗氧化温度提高到约900℃,但Al含量较高易导致薄膜晶粒在高温下长大.     

TiN／NbN纳米多层膜的界面结构与超硬度效应

由于存在超模量和超硬度效应,纳米多层膜的力学性能成为近年来薄膜研究的热点之一。金属/金属、金属/陶瓷、和陶瓷/陶瓷组成的纳米多层膜都得到了研究。陶瓷/陶瓷体系因表现出更高的硬度值而受到重视,并发现了一些具有超硬效应的多层膜体系[1,2]。本文制备了NbN/TiN纳米多层膜,并研究了其界面微结构与超硬度效应。TiN/NbN纳米多层膜在日本ANELVA公司生产的SPC-350多靶磁控溅射仪上采用反应溅射法制备。溅射气体为氩气和氮气的混和气体。硅基片在Ti靶和Nb靶前交替停留不同时间,得到具有一定调制比(lNbN∶lTiN=1.5∶1)和调制周期(Λ…     

等离子氮化与物理气相沉积TiN复合镀研究现状

物理气相沉积（ＰＶＤ）ＴｉＮ镀层已获广泛应用。为进一步改善ＴｉＮ镀层的性能,近年来致力于复合处理的研究,其中等离子氮化（ＰＮ）＋ＰＶＤ ＴｉＮ复合镀层的性能尤为优良,本文综述了其工艺、组织和性能之间的关系。     

磁控溅射法制备ZrMoN复合膜的显微结构和摩擦性能

采用磁控溅射法在单晶硅(100)和304不锈钢基底上沉积不同Mo含量的Zr1-xMoxN(x=0.05,0.14,0.42,0.52)复合膜,采用X射线衍射仪、纳米压痕仪(CSM)、摩擦磨损试验机、扫描电镜和能谱仪研究复合膜的显微结构、力学性能及摩擦性能。结果表明:Zr1-xMoxN复合膜以fcc(Zr,Mo)N结构为主,随x增大,薄膜中会出现fcc Mo2N相。复合膜的硬度从28.1 GPa(ZrN)增加至29.6 GPa(x=0.05),x继续增加,硬度逐渐降低。室温下,薄膜的摩擦因数由0.69(ZrN)降低至0.44(x=0.14),x继续增加摩擦因数略有增加。当温度高于100℃时,Zr0.58Mo0.42N复合膜的摩擦因数随温度升高先升高后降低,在300℃时达到最大。并讨论了ZrMoN复合膜Magnéli相的作用和自适应机制。     

V含量对(Nb,V)N复合膜微结构、力学性能与摩擦性能的影响

采用JGP-450复合型高真空多靶磁控溅射设备制备(Nb1-x,Vx)N(x=0,0.08,0.12,0.16,0.19)复合膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、纳米压痕仪及摩擦磨损仪等对复合膜的微结构、力学性能与摩擦性能进行表征。结果表明:NbN薄膜的择优取向为(200),在NbN薄膜中添加元素V后,薄膜的择优取向转变为(111),但x增大到0.19时薄膜又呈(200)择优取向;随V元素含量增加,(Nb,V)N复合膜的硬度和弹性模量均先增大后减小,x=0.12时,显微硬度和弹性模量都达到最大,分别为26.88 GPa和328.24 GPa;随温度从室温升高到700℃,(Nb0.88,V0.12)N复合膜的摩擦因数逐渐降低。(Nb0.88,V0.12)N复合薄膜具有良好的综合性能。     

W含量对(V,W)N复合膜显微结构与性能的影响

采用JGP-450复合型高真空多靶磁控溅射设备,制备不同W含量的(V,W)N复合膜。利用X射线衍射仪、扫描电镜、纳米压痕仪及摩擦磨损仪分别对(V,W)N复合膜的显微结构、力学性能及摩擦性能进行表征。结果表明:(V,W)N复合膜主要由面心立方结构VN相和六方结构V2N相组成;(V,W)N复合膜的显微硬度呈先增大后减小的趋势,而摩擦因数与之相反,当W含量x(W)为26.67%时,(V,W)N复合膜显微硬度达到最大值25.1 GPa,同时平均摩擦因数达到最小值0.323 8,并讨论了W含量对性能的影响机理。     

喷射成形50Si50Al合金的组织与性能

采用双喷嘴扫描喷射成形工艺制备了大规格50Si50Al电子封装材料的锭坯,经热等静压后尺寸达到φ400 mm×700 mm.采用扫描电镜和金相显微镜研究了合金的显微组织演变,利用热膨胀仪及万能拉伸试验机检测了合金的热膨胀系数、抗弯强度、抗拉强度.结果表明:利用喷射成形及热等静压制取的Si-Al合金,得到硅相呈均匀弥散分布的组织,部分为骨架状,部分为颗粒状,富Al相围绕Si相间隙呈网络分布.沉积态由于气体滞留及凝固收缩存在三类孔洞,分别为气体滞留型、凝固收缩型及间质性孔洞.50Si50Al合金的这种特殊结构有效地降低了合金的热膨胀系数,室温至200℃的实测值与Turner模型吻合较好.