不同调制周期TiAlSiN/Mo2N多层膜的微观结构、力学和摩擦性能研究

采用射频磁控溅射制备不同调制周期的TiAlSiN/Mo2N多层膜。利用X射线衍射,扫描电镜,能量弥散X射线谱,纳米压痕仪及摩擦试验机对薄膜的成分,相结构,力学及室温摩擦性能进行分析。结果表明,不同调制周期的TiAlSiN/Mo2N多层膜为fcc与hcp混合结构,不同调制周期的TiAlSiN/Mo2N多层膜硬度均大于单层TiAlSiN和Mo2N薄膜,且TiAlSiN/Mo2N多层膜的硬度与弹性模量随调制周期的影响不大,硬度稳定在29 GPa左右,室温条件下,以Al2O3为摩擦副的TiAlSiN/Mo2N多层膜平均摩擦系数平均摩擦系数均低于单层TiAlSiN、Mo2N薄膜,且随调制周期的增大逐渐降低,其最低平均摩擦系数为0.42,对应调制周期为12 nm。     

船用柴油机油底壳失效分析

本文运用宏观、微观金相及ＳＥＭ等方法，并结合油底壳的受力条件，对６１０６Ａ船用柴油机油底壳开裂原因进行分析。结果表明：开裂的原因是材质，既存裂纹及受力状态等综合因素所致。作者对开裂过程进行探讨并提出了防止措施。     

TaN/NbN纳米多层膜的力学性能与耐磨性

采用反应溅射在多靶溅射仪上制备了调制周期小于 73 .2nm的一系列TaN/NbN纳米多层膜和TaN ,NbN单层薄膜 ,并采用透射电子显微镜、显微硬度计和凹坑研磨仪研究了薄膜的微结构、力学性能和耐磨性。结果表明 ,具有成分周期变化的TaN/NbN纳米多层膜在其调制周期为 2 3～ 17 0nm范围内产生硬度异常升高的超硬效应 ,最高硬度达到HK 5 1 0GPa ;磨损实验表明 ,TaN/NbN纳米多层膜耐磨性远高于TaN和NbN单层膜 ,其主要原因是调制结构中大量界面的存在 ,提高了薄膜的韧性。     

磁控溅射NbSiN复合膜的微结构和性能

用磁控溅射方法制备了一系列不同Si含量的NbSiN复合薄膜。采用色散能谱仪、X射线衍射仪、纳米压痕仪、高温摩擦磨损仪表征复合膜的成分、微结构、力学性能以及室温和高温摩擦磨损性能。实验结果表明:NbSiN复合膜中只存在面心立方NbN结构,且呈(200)择优取向;Si的加入使复合膜硬度得到提高,Si含量为20.29%(原子分数)时硬度达到最大值32.1GPa,随着Si含量的进一步增加,复合膜的硬度逐步降低。室温和高温摩擦磨损实验结果表明,在室温时,NbSiN复合膜的平均摩擦因数在0.60～0.68之间,波动不大;而在650℃时,随着Si含量的增加,复合膜的平均摩擦因数从0.57降至0.42;650℃时的平均摩擦因数低于室温下的平均摩擦因数与氧化物的生成有关。     

关系数据库理论的与或图等价性分析

关系数据库有着严密的数学基础,但同时也过于抽象,使理论与应用存在较大差距。文章将图论引入关系数据库,利用与或图的形式来表达关系数据库,同时对基于与或图的关系数据库和传统的关系数据库做关系模式、函数依赖理论、规范理论的等价性分析,并由此提出了一种新的更加直观、深刻的关系数据库描述工具,用以实现关系数据库的计算机设计、维护和修改的程序化。     

TiSiN-Ag磁控溅射薄膜的微结构和性能

为了研究Ag元素对Ti Si N薄膜结构及性能的影响,通过磁控溅射法制备了不同Ag含量的Ti Si N-Ag薄膜,采用EDS,XRD,XPS,TEM,CSM纳米压痕仪,UMT-2摩擦磨损仪和BRUKER三维形貌仪对薄膜的成分、微结构、力学性能和摩擦磨损性能进行了研究。结果表明:Ti Si N-Ag薄膜是由面心立方Ti N相、非晶Si3N4相和面心立方单质Ag相组成,单质Ag相的存在阻碍Ti N晶粒的生长;随Ag原子分数的增加,单质Ag相增加,导致Ti Si NAg薄膜的硬度和弹性模量逐渐下降;单质Ag相具有润滑作用,使薄膜硬度降低,磨痕中的硬质颗粒减少,摩擦系数从0.70降至0.39,磨损率也逐渐降低。     

深度剖析动力之源新一代主板的处理器供电技术解析

主板目前有两种主要的供电方式：线性电源和开关电源,当需要为功耗相对较大的元器件,例如CPU、内存和芯片组等供电时,设计者均采用了开关电源供电方式。其中内存和芯片组都是采用了单相供电,而CPU由于功耗巨大．所以必须采用多相供电才能保证其稳定工作,此文将重点为大家解析当前主板的CPU供电技术。     

Si_3N_4/CrN nanostructured multilayers grown by RF reactive magnetron sputtering

1　INTRODUCTIONInrecentyears ,ceramicsuperhardnesscomposi tionally modulatedmultilayerfilmshavebeenactivelyinvestigated[18] .Theresearchresultsshowthatmul tilayerscancombinethepropertiesoftheconstituentmaterialsandhavemoreexcellent propertiesthanthoseofthesingle layerfilm .Alargenumberofin ternalinterfaceswhichare paralleltothesubstratesurfacecanretardcrackpropagationandprovidebar rierstodislocationmovement.Multilayerswithopti mizedinterfaceareasseemtobemostpromisingwithrespecttoanoptimum…     

NbN／TaN超晶格薄膜的界面结构

当调制周期在某一范围时,一些陶瓷超晶格薄膜会出现硬度大大上升的超模量或超硬度效应,从而引起人们的关注[1]。从已研究的超晶格薄膜体系来看,产生超硬效应的超晶格薄膜都具有以相同晶体结构外延生长的界面结构特征[2]。本文研究发现,在由不同晶体结构类型形成共格界面的NbN/TaN超晶格薄膜中,也存在超硬度效应。NbN/TaN超晶格薄膜在SPC-350磁控溅射仪上制备。溅射靶材Nb(99.99%)和Ta(99.99%)分别安装在直流阴极和射频阴极上。真空室背底真空度为4.0×10-4Pa,采用Ar-N2混合气体进行反应溅射镀膜,Ar分压为3.4×10-1Pa,N2分压为0.4×1…