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透明导电ZnO:Al(ZAO)薄膜的结构及光电特性研究 总被引:11,自引:0,他引:11
ZAO薄膜是一种n型氧化物半导体材料,由于其大的载流子浓度和光学禁带宽度而表现出优良的光电特性。本实验采用射频磁控溅射工艺在无机玻璃衬底上制备ZAO薄膜,靶材为ZAO(3wt%Al2O3)陶瓷靶。系统研究了各工艺参数,如工作气压、射频功率、衬底温度和热处理条件对其结构和光电特性的影响。X射线衍射谱表明ZAO薄膜的(002)衍射峰的位置与纯ZnO晶体相比向低角度方向移动,薄膜中各晶粒具有六角纤锌矿晶体结构且呈c轴择优取向。原位制备的ZAO薄膜经热处理后电阻率降至7 5×10-4Ω·cm,可见光透过率在85%以上。 相似文献
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文章对涂布纸和涂布板纸的分类和用途进行了介绍;对各种涂布方式及其特点,各种涂布纸的生产技术问题进行了论述与探讨;对与涂布方式和技术相关的设备、化学品进行了阐述;对生产涂布纸带来的环境问题提出了相应的对策;对涂布纸的发展趋势进行了展望。涂布纸仍是造纸工业重要的经济增长点,具有很大的技术研究和开发的空间。 相似文献
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