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釆用原位沉淀法将CeO2纳米颗粒附着在Bi24 O31 Br10纳米薄片上制备CeO2/Bi24 O31 Br10复合半导体.利用SEM、XRD、HR-TEM、UV-Vis DRS、PL等技术对其进行表征.结果表明,CeO2呈现纳米棒状颗粒分布在Bi24 O31 Br10纳米片表面,形成异质结构;与CeO2复合后,Bi24 O31 Br10的UV-Vis吸收边发生了红移,增强了Bi24 O31 Br10对可见光的响应强度,同时改善了Bi24 O31 Br10的吸附性能.以氙灯作光源,酸性品红(AF)为模拟污染物,考察其光催化降解性能,光催化60 min时CeO2/Bi24 O31 Br10对AF的降解率达到97.6%,HPLC分析结果表明,AF最终降解成H2 O和CO2.CeO2/Bi24 O31 Br10复合半导体具有良好的光催化稳定性,四次重复使用后,光催化60 min时CeO2/Bi24 O31 Br10对AF的降解率依然高达91.7%.光催化降解AF的机理探究结果表明,·O2-是光催化降解AF的主要活性物种. 相似文献
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采用原位沉淀法制备了Ag3PO4/g-C3N4复合材料,利用XRD、SEM、TEM、UV-Vis DRS和PL等技术对其进行表征。结果显示,g-C3N4呈现二维片状结构,Ag3PO4为立方晶相的类球状结构,且均匀分布在g-C3N4表面。以亚甲基蓝(MB)为模拟污染物,考察g-C3N4与Ag3PO4的不同摩尔比对MB降解率的影响。结果表明,在Ag3PO4/g-C3N4的摩尔比为1:0.7时,Ag3PO4/g-C3N4复合材料的光催化活性最佳,可见光照30 min后MB降解率即达到100%。光催化剂稳定性较好,重复使用5次,MB降解率仍达到85.24%。降解机理研究表明,h 和e-是降解MB的主要活性物质。 相似文献
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非水介质中脂肪酶催化合成正戊酸异戊酯的研究 总被引:1,自引:2,他引:1
德氏根霉菌(Rhizopusdelemar) 经固态发酵生产脂肪酶,以此酶为催化剂,在非水介质中合成了正戊酸异戊酯。研究了反应温度、溶剂、底物浓度、底物摩尔比、吸水剂用量等因素对酯化反应的影响,确定了正戊酸异戊酯的最佳合成条件为:反应温度为5 0℃,异辛烷为反应介质,底物浓度为0 15mol/L ,酸醇摩尔比为1∶1 4。在反应体系中需加入0 2 5 g/mL的5 分子筛,以吸收酯化反应生成的水。在优化的条件下,反应6h后,酯合成转化率达98%。 相似文献
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POSS/PMMA纳米复合材料的制备及性能 总被引:1,自引:0,他引:1
将笼形纳米粒子八己烯基多面低聚倍半硅氧烷(Oh-POSS)与聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)通过溶液共混法制备无机/有机纳米复合材料.利用FTIR对复合材料的结构进行表征.SEM观察结果显示:当Oh-POSS含量较小时,复合材料薄膜具有较为平整的表面,无机粒子Oh-POSS均匀地分散在PMMA基体之中;随着Oh-POSS含量的增加,Oh-POSS逐步发生聚集现象.TGA、DSC以及拉伸试验结果表明:Oh-POSS含量较低时,Oh-POSS的引入能明显改善材料的热稳定性和力学性能,但当Oh-POSS含量较高时,热学和力学性能下降. 相似文献
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以硝酸银和三聚氰胺为原料,采用原位沉淀法制备了Ag3PO4/g-C3N4复合材料,利用XRD、SEM、TEM、UV-Vis DRS和PL等技术对其进行了表征.结果显示,g-C3N4呈二维片状结构,Ag3PO4为立方晶相的类球状结构,且均匀分布在g-C3N4表面.以亚甲基蓝(MB)为模拟污染物,考察g-C3N4与Ag3PO4不同物质的量比对MB降解率的影响.结果表明,在Ag3PO4/g-C3N4物质的量比为1.00:0.70、催化剂用量为50 mg和MB质量浓度为5 mg/L时,Ag3PO4/g-C3N4复合材料的光催化活性最佳,可见光照30 min后,MB降解率达到100%.光催化剂稳定性较好,重复使用4次,MB降解率仍达到85.24%.降解机理表明,h+和e–是降解MB的主要活性物质. 相似文献