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基于已开发的NCCODE数控自动编程系统,利用Word和HelpWorkshop软件,开发具有Windows标准帮助文件格式的帮助系统,并用AutoCAD定制技术实现系统的联机帮助。 相似文献
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张振宇 《电子制作.电脑维护与应用》1997,(3)
单向可控硅一般资料中,只说明在平滑直流电路中,触发极加一个正向触发脉冲后,电路即行导通,触发脉冲消失,仍能维持导通,电路断开或将控制极接地即可截止。但是有一项功能在一般资料中很少提及,那就是:直流可控硅电流被正脉冲触发导通后,此时控制极为正电位并有电流流出,只有把控制极接地才可以关断。该文即根据这种功能设计的:可控硅导通时控制极向C2充电,过零时C2电荷向控制极回流维持连续导通。我认为电路设计是合理的,它的关断机 相似文献
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针对XK714铣削系统,以及AutoCAD二次开发工具ObjectARX,介绍了一种数控铣削过程计算机模拟的实现方法,采用面向对象的程序设计方法,对刀具轨迹动态模拟技术进行了分析,在数控自动编程的基础上,详细介绍了数控铣削仿真模块的实现方法,实现了可视化图形交互式数控铣削的模拟。 相似文献
25.
随着风电和光伏装机容量的快速增长,弃风和弃光问题日益突出,开展新能源消纳能力研究,建立消纳能力量化评估体系对电网调度的运行和控制工作有着重要的意义。文中提出了一种基于非时序分析模型的新能源消纳能力量化评估方法。该方法基于概率分析理论,首先利用阿基米德Copula函数构建了新能源理论出力的概率分布,通过负荷特性构建了系统新能源消纳空间的概率分布,进而得到了系统新能源弃电功率的概率分布。然后,再通过新能源弃电功率的概率分布计算得到新能源弃电率,评估系统的新能源消纳能力。最后,基于EPRI 36机组系统验证了所提方法的正确性和有效性,并分析了负荷、新能源装机容量、常规机组调峰率以及备用水平对弃电率的影响。 相似文献
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无修饰的金属疏水表面受到广泛关注,尤其是具有超高疏水性表面的制备方法逐渐被重视。通过皮秒激光烧蚀、电化学抛光和电化学沉积的顺序加工方法在铜表面制备一系列具有不同微观特征的乳突织构。系统研究激光功率、重复频率、扫描速度和扫描次数对乳突织构表面形貌及疏水性的影响,并分析表面润湿性的转化机理。研究结果表明,激光功率9 W、重复频率2 MHz、扫描速度200 mm/s、扫描次数20次时,跨尺度乳突织构表面静置30 d后可获得超高疏水性(接触角161°,滚动角1°)。储存30 d后,亲水性的Ni、CuO转化为疏水性的NiO、Ni(OH)_2、Cu_2O,以及含C有机物的吸附促成了乳突织构表面润湿性的转化。 相似文献
27.
提出了一种新方法来制备用于钯催化剂的P-γ-Al2O3涂层改性的α-Al2O3泡沫。采用聚氨酯模板法,通过优化工艺参数,使陶瓷泡沫的显气孔率达到90.28%,体积密度达到0.45 g·cm-3,且该泡沫具有可使用强度。将掺有P元素的γ-Al2O3涂层涂覆在α-Al2O3泡沫上,然后通过超声波辅助浸渍法来装载活性催化相(Pd)。结果表明,含P涂层增加了惰性泡沫的比表面积和弱酸性位点,同时减少了强酸性位点的占比。与无涂层的泡沫相比,改性的泡沫更容易装载活性相,且装载的金属Pd不容易被氧化,CO的催化转化温度(T50,T90)降低了50℃左右。该研究证明了低成本改性α-Al2O3陶瓷泡沫在钯催化剂生产中具有极大的应用潜力。 相似文献
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化学机械抛光(CMP)技术是集成电路制造中获得全局平坦化的一种重要手段,化学机械抛光液是影响抛光质量和抛光效率的关键因素之一,而抛光液中的磨粒和氧化剂决定了抛光液的各项化学机械抛光性能。将抛光液磨粒分为单一磨粒、混合磨粒以及复合磨粒,综述了近年来国内外化学机械抛光液磨粒发展现状,其中重点分析和总结了SiO2、Al2O3、CeO2三种单一磨粒,SiO2/Al2O3、SiO2/SiO2、SiO2/CeO2混合磨粒,CeO2@SiO2、PS@CeO2、PS@SiO2、sSiO2@mSiO2、PMMA@CeO2、PS@mSiO2等核-壳结构复合磨粒,Co、Cu、Fe、Ce、La、Zn、Mg、Ti、Nd等离子掺杂复合磨粒的研究和应用现状,并针对目前存在的问题进行了详细的分析。针对目前化学机械抛光液不同材料氧化剂(高锰酸钾和过氧化氢)的选择和使用进行了分析总结。此外,介绍了一种新型绿色环保抛光液的研究和使用情况,同时对化学机械抛光液存在的共性问题进行了总结,最后展望了化学机械抛光液未来的研究方向。 相似文献
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BK-1021筒式磁选机是一种多力场分选方式的新型磁选机。文章介绍了该机在南芬选厂进行工业试验情况,表明其分选效率较高,可简化生产流程,减少选别段数,提高选矿指标。 相似文献
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