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详细介绍了基于硅片CHIP中心坐标的高精度逐场调焦调平控制系统数学模型,并简要给出了系统控制算法。 相似文献
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本文介绍了参加SEMICON/WEST′91展览会所见到的国外光刻设备——新研制的制造亚微米器件(16Mb)用的半导体设备已面市。特别引人注目的是许多公司已推出它们的新型光刻设备——0.5~0.8μm硅片分布重复光刻机,如ASM公司的PAS-5500型,Ultratech公司的Ultrastep-2000型,GCA公司的XLS-7000系列,Canon公司的FPA-2000il型,Nikon公司的NSR2005G8i/i8A型依靠i线光刻的分步重复光刻机及用于生产64Mb及256Mb DRAM的有效使用准分子激光器深紫外光刻机的市场可望连续增长。 相似文献
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投影光刻机的坐标系与套刻步进模型 总被引:2,自引:0,他引:2
本文介绍 0 .35μm(亚半微米 )投影光刻机的机器、硅片、掩模、硅片对准、掩模对准等的坐标系 ,并根据各坐标系讨论套刻时硅片工件台的步进模型。 相似文献
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