基于TrustZone的移动云环境指纹认证终端APP的设计和实现

针对指纹等生物特征在云环境下存在泄露的安全隐患,以及已有的生物特征认证方案安全性或便利性不足的问题,设计并实现了基于正交分解和TrustZone的可信指纹认证终端APP。利用TrustZone的硬件隔离机制,在可信执行环境中完成指纹特征提取、指纹模板生成等敏感操作,与普通执行环境中的应用隔离,从而抵挡恶意程序的攻击,保证认证过程的安全性。基于正交分解算法生成的指纹模板在保证可匹配性的同时融合了随机噪声,可以在一定程度上抵挡针对特征模板的攻击,使得指纹模板可以在云环境下存储和传输,解除用户与设备的绑定,提升了生物认证的便利性。实验和理论分析表明,指纹模板的相关性和随机性比原始特征和随机映射算法更高,有更强的安全性;另外时间和存储开销、识别的准确性的实验结果表明,所设计APP兼顾便利性和安全性,满足移动云环境下安全认证的需求。     

钙基膨润土半干法钠化吸附含油废水试验研究

分别选用NaOH、NaCl和Na_2CO_3 3种钠化剂进行半干法钠化试验,确定最优钠化剂为Na_2CO_3。在不同条件下分别进行钠化改型试验研究,当Na_2CO_3用量为膨润土的2.0%,补加水量为20%时,钠化效果最佳。吸附含油废水结果表明,吸附剂用量为4 g/200m L,p H值为6.05,吸附时间120 min时,除油率最佳。     

平面压边拉深工艺参数对内皱影响及试验研究

曲面零件拉深时悬空区易发生内皱,增加压边力可防止内皱的产生,而临界压边力的大小则受到各工艺参数的影响.根据平面压边拉深的变形特点,进行了内皱临界计算,获得锥形件和球形件曲面零件不起内皱的临界条件.以锥形件为例,通过试验方法研究了材料性质、相对厚度、拉深系数及凸凹模半径比等主要参数对内皱发生时刻的影响.研究结果表明,当材料硬化指数、凸凹模半径比和相对厚度减小时,内皱发生时刻提前,而当减小拉深系数时,可延缓起皱的发生.因此,合理的选择工艺参数将有效地防止曲面零件拉深时内皱的发生.     

浮选机叶轮结构设计研究

浮选机的核心部件就是叶轮——定子结构系统,叶轮的结构及工作条件直接影响浮选机的选别效果.随着世界范围内资源的枯竭和原生矿石不断的贫、细、杂化,对浮选机的研制提出了新的要求.而传统设计方法都是根据理论和经验设计,然后通过样机试验进行调整改进,设计周期长、费用大.利用pro/e的运动仿真和强大的分析功能,可以优化设计方案缩短设计周期,降低设计试验费用,实现浮选机叶轮的优化设计,获得更好的经济效益.     

增大压边力对带槛拉深克服内皱效果的分析

通过对增大压边力的带槛拉深与压边力等于上浮力的带槛拉深进行理论分析,给出各自的应力分布规律,求解了二者间的应力差值,分析了增大压边力对克服内皱效果的影响趋势,从而为实际应用提供了理论依据。     

影响拉深筋结构及应用的因素分析

对于易起内皱的回转体零件，常使用环形拉深筋。本文根据此类零件的变形特点，在试验研究基础上，对拉深筋的阻力构成，筋的结构及位置等进行了机理分析，并结合应用提出了思考问题的途径。     

高效精确的创新AOCV芯片设计流程

由于工艺的偏差主导了大部分器件的长度和宽度,所以这种偏差在更先进的工艺节点上尤其重要。传统的片上偏差(on-chip variation,OCV)已经使用了一个下降因子(derating factor)在所有的时序路径上,去模仿工艺变化,这样对于增加工艺偏差来说太悲观了。对比与传统的片上偏差,先进的片上偏差(Advanced OCV,AOCV)在不同的时序路径上给出了不同的下降因子。这样就可以减轻由于下降和减少过度设计和时序收敛周期而引起的过度悲观。这篇文章中我们介绍了一种创新的AOCV芯片设计流程,包括AOCV表格生成,执行和si gn-of f阶段。在AOCV表格生成中,我们重点介绍如何选择设计相关的工艺偏差参数。执行相关的AOCV表格可以加快转换周期,而且EDA时序修改工具能支持AOCV表格。在sign-of f阶段,我们对比了Synopsys Primetime基于路径分析AOCV的实验结果,表明误差在1%以内。     

基于金属催化化学腐蚀的硅纳米线可控制备

硅纳米线由于其独特的光电特性,被认为是最具前景的光电材料之一。本文关注于使用金属催化化学腐蚀法制备硅纳米线当中各种可控参数的影响,成功地完成了硅纳米线制备。研究发现,高电镀液浓度与长电镀时间都会形成小密度的硅纳米线阵列;而腐蚀液浓度控制着腐蚀速率与硅纳米线的形貌。腐蚀时间对硅纳米线长度和密度都具有一定的影响;而使用氮气干燥能够改善硅纳米线的聚集情况。