提高EDA实验教学质量的实践与探索

介绍了一种在教学实践中总结出的行之有效的实验教学实施方式。一方面，将EDA实验教学过程分为实验预习、实验和总结提高三个阶段，为每个阶段规定了任务和要求。另一方面，为确保实验教学质量，需要明确实验任务，严格考核标准，做好讨论与总结。另外还讨论了网站等手段在EDA实验教学中的作用。     

UTRAN系统中LCS的实现方法

介绍LCS和UMTS网络架构的基础上,分析了LCS在无线接入网UTRAN系统中的结构,并探讨了UTRAN的定位过程和定位方法.     

油田采出液混合结垢原因及垢沉积规律

通过对油田集输管道结垢的垢样分析、各单井采出水分析等基础试验,分析研究了混合结垢的原因.在此基础上进行了垢的生成速度、垢的沉积速度等试验,总结了集输管道结垢规律.     

橡胶促进剂DM的合成工艺

M氧化生成DM是自由基反应机理，结合微反应器机理，采用分子氧化的反应方式，选用绿色溶剂异丙醇、环境友好型氧化剂H202，一步法制取高品质DM。对反应时间、反应温度、氧化剂用量等因素进行考察，确定最佳工艺条件为：反应时间90min，反应温度55℃，氧化剂不过量，碱过量5％，M—Na溶液M含量30％，加料时N60 min，溶剂用量为M—Na溶液质量的1．5倍，所得产品质量合格，熔点可达180℃。     

流量比对等离子体基团分布和薄膜结构的影响

使用光强标定的发射光谱(AOES)测量了CHF3／C6H6混合气体的微波电子回旋共振(ECR)放电等离子体中基团的分布状态。实验发现随着CHF3流量的增加，成膜基团CF、CF2、CH等的相对密度增大，而刻蚀基团F的密度也会增加，从而使得a—C：F薄膜的沉积速率降低。同时红外吸收谱(IR)分析表明，在高CHF3流量下沉积的a—C：F薄膜中含有更高的C—F键成分。可见在a—C：F薄膜的制备中CHF3／(CHF3 C6H6)流量比是重要的控制参量。     

微波集成电路（MIC）中Au／NiCr／Ta多层金属膜粗糙化机理的AFM研究

Au/NiCr／Ta多层金属膜通过磁控溅射沉积在Si(111)基片上。XRD分析其晶体取向，SEM观察薄膜断面形貌，AFM研究薄膜表面粗糙度。结果表明薄膜表面粗糙度与沉积温度有关，随着沉积温度100℃→250℃的改变，薄膜表面发生从粗糙→光滑→粗糙的变化过程。根据不同的沉积温度探讨了薄膜表面粗糙化机理。     

用CMOS工艺实现VSR光电集成接收机的途径

介绍了10Gbit／s速率的甚短距离光传输系统VSR(Very Short Reach)中的接收机。分析了几种有希望用于VSR系统的CMOS工艺兼容的光电探测器。提出用CMOS电路实现VSR光电集成(OEIC)接收机的可能性和实现方法。     

浅谈电视灯光设计软件

电视灯光是一门造型艺术，演播室灯光设计水平是影响电视节目质量诸多因素中极其重要的因素，本向读介绍了一种灯光设计软件，通过该软件可以实现灯光设计可视化，可大幅度提高设计的准确度和工作效率。     

循环结构——循环控制语句（1）

今天我想给大家来点快餐——用循环控制语句来编写循环结构程序。用新的方法来编写前几期一些题目的程序，这要比原来快捷得多。     

准系统也是选择——浩鑫谈如何走出PC同质化泥潭

由于贴牌,OEM,甚至由于开放和标准化,今天市场上的台式PC已经无可避免地走入了同质化泥潭。“推广准系统是一种新的选择。在我们看来,以XPC为代表的准系统产品具备功能、成本、体积三方面优势,甚至在将来可以‘取代’传统PC,”11月27日,浩鑫股份有限公