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轨道用磁敏定点接近开关传感器的研究 总被引:4,自引:0,他引:4
本文介绍了一种新型的轨道用接近开关传感器结构、磁路、电路及封装工艺的设计.该传感器可以用于检测由低速到高速运行列车.从根本上解决了传统的永磁体检测方法不能检测低速运行物体的问题. 相似文献
54.
称重传感器弹性体的有限元分析 总被引:4,自引:1,他引:4
刘光恒 《仪表技术与传感器》1996,(1):10-12,39
本文利用有限元法,通过对两种材料100kg称重传感器弹性体的多次有限元计算、数据的分析和整理,给出了这种传感器弹性体的应力场分布状况和变形状态,并提出了作者的几点看法,供设计制造高可靠性传感器弹性体时参考。 相似文献
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当管道同时发生多个泄漏点时,多个泄漏点的声波信号出现混叠,从而影响泄漏声信号的传播和衰减规律。在多点泄漏声波信号混叠的情况下,传统的泄漏定位方法无法对多个泄漏点进行有效定位。为此,提出了一种基于时频分析和改进差分进化的多点泄漏定位方法。由于变分模态分解(variational mode decomposing, VMD)的分解模态个数对特征提取有影响,因此采用能量函数估计分解模态个数,从而对VMD改进。然后采用改进VMD对多点泄漏声波信号进行处理。另外,通过时频分析(time-frequency analysis, TFA)估计多个泄漏点数量,从而得到多点泄漏的定位函数。差分进化(differential evolution, DE)算法易陷入局部最优,在进化后期收敛速度较慢,采用粒子群优化(particle swarm optimization, PSO)算法提高DE的全局收敛速度,并通过改进的差分进化算法估计多个泄漏点的位置。在管道现场进行多点泄漏的模拟试验,试验结果表明该方法能够准确地估计多点泄漏位置,泄漏定位的最小误差为18 m。 相似文献
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控制镀层中Re含量,获得较宽Re含量范围的Ni-Re合金镀层,可为单晶合金的高温防护提供技术支持。研究了Ni-Re合金电镀体系中镀液组分及电镀工艺条件对镀层外观、Re含量及电流效率的影响,得到最佳电镀工艺条件为电流密度Jc4~5 A/dm^2,温度60~70℃,pH=5;在该工艺条件下,保持镀液中柠檬酸与镍离子摩尔比为1.0,调整镀液中镍离子浓度(30~450 mmol/L),得到Re含量在16%~98%(质量分数)的Ni-Re合金镀层,并研究了镍离子对Re沉积的催化作用及Re含量对合金镀层微观结构的影响。结果表明:镍离子浓度为240mmol/L时对Re沉积催化效果最好,此时Re的析出电位正移40 m V,Re沉积电流效率达到66. 9%,JRe=30. 06m A/cm^2,Ni-Re合金镀层中Re含量≤43%时,镀层微观表面平整细致,其XRD谱衍射峰角度与纯镍相近,形成了以Re为溶质、Ni为溶剂的置换固溶体的晶体结构,随着合金镀层中Re含量的进一步增加,合金镀层向非晶态转变,在Re含量≥52%时,Ni-Re合金转化为非晶态镀层。 相似文献
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大片玻璃打孔机是一台硅压力传感器的生产设备。文章介绍了该设备的加工机理、设计原则、机床结构和技术指标;结合设备所采用的超声波多工具钻孔技术;解决的关键技术和整机的实用效果。 相似文献
59.
扩散硅压力传感器结构设计及封装工艺研究 总被引:3,自引:0,他引:3
本文比较详细地探讨了现今应用很广的几种扩散硅压力传感器的结构及封装工艺,提出了全固态隔离膜片结构的基本封装形式,并对传感器结构设计和封装时必须注意的问题和基本参数进行了探讨。 相似文献
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