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1.
2.
X射线光电子能谱(XPS)   总被引:5,自引:0,他引:5  
在对许多材料的研究和应用中,了解其表面特性是很重要的。而要获得材料的表面特性,就需要一些特殊的仪器,对各种材料从成分和结构上进行表面表征。其中,X射线光电子能谱(XPS)由于其对材料表面化学特性的高度识别能力,成为材料表面分析的一种重要技术手段。 X射线光电子能谱的基本原理(图1)是当一束特定能量的X射线辐照样品,在样品表面发生光电效应,就会产生与被测元素内层电子能级有关的具有特征能量的光电子,对这些光电子的能量分布进行分析,便得到光电子能谱图。XPS起始于发现光电效应之后不久,1914年Rutherford即成功地表述了XPS的基本方程:  相似文献   
3.
高效率平面磁控溅射器的研制   总被引:1,自引:1,他引:0  
介绍一种新型磁控溅射装置。它采用两块极性相对的环状磁铁的设计方法,通过扩大靶表面的等离子放电区域面积,使传统磁控溅射枪使用中经常受到的两个限制──溅射速率与靶的利用率得到了较大的改善。实验中铜靶在溅射功率密度为11W/cm~2时溅射速率约为800nm/min,如果继续提高功率则可获得更高的速率。而靶的利用率可达64%左右。另外,在认为出射粒子符合cos~nθ分布的前提下,发现当n=3.3时,实验数据和理论数据符合得较好。  相似文献   
4.
汽车空调冷凝器腐蚀试验的表征与评价   总被引:3,自引:0,他引:3  
介绍了汽车空调冷凝器的腐蚀试验程度及方法,对试验后的冷凝器进行了密封性检查,并用光学显微镜和扫描电镜检测和分析了材料的显微结构,焊接质量,腐蚀性质及其腐蚀深度等。通过对冷凝器的宏微观检查与表征,评价了冷凝器质量的优劣,提出了改进措施与建议。  相似文献   
5.
用MOCVD方法生长二氧化钛膜的研究   总被引:6,自引:1,他引:5  
二氧化钛用MOCVD方法生长于硅衬底上,膜厚在0.1~1μm之间.本文考察了温度对生长速率的影响,其中生长速率与衬底温度和有机源的温度都成指数关系,并通过作图求出钛源的活化能Ea=1.05eV.TEM测试结果表明,生成的二氧化钛是多晶膜,为锐钛矿结构.将样品作XPS分析,测试出Ti3+随氧气流量的增加而减少,进一步研究表明,二氧化钛是n型半导体,它的电阻率随钛三价离子的减少而增大.  相似文献   
6.
采用真空蒸发的方法制备了PAR薄膜,研究了不同外电路参数下薄膜的电双稳特性。发现薄膜在从高阻向低阻转变时会经历一个短暂的具有非线性阻抗的中间态,并且在整个转变过程中存在一种能量效应,即当外加电压超过某一值时,完成转变所需的能量不变。  相似文献   
7.
采用真空蒸发的方法交替沉积Ag和TCNQ分子制备了Ag TCNQ金属 有机络合物薄膜 ,并研究了多种外加电压激发下膜的电阻转变特性。发现在转变过程中存在着一种能量效应 ,即当外电压超过某一阈值后 ,完成转变的能量不变。对此现象的可能解释是薄膜内分子在一定的外部电场能量诱导下发生重排 ,致使电导率发生跃变  相似文献   
8.
两种具有电双稳态的全有机络合物   总被引:9,自引:0,他引:9  
首次发现两种在室温下即具有电双稳态的全有机(有机-有机)络合物,分别称为MCA+TCNQ和BBDN+TCNQ。它们可在真空中制备成薄膜,在数伏电压的作用下,从高电阻至低电阻的跃迁时间小于100ns,因此可作为一次写入的存储器材料。根据我国目前最小刻线宽度的水平,可望在1.6cm2的SiO2平面上做出64Mb的存储器。  相似文献   
9.
光催化TiO2涂层在金属防腐蚀中的应用研究现状   总被引:8,自引:0,他引:8  
介绍了TiO2的特点、应用概况及金属光催化防腐蚀作业的原理,对光催化TiO2涂层在金属防腐蚀方面的应用研究进展进行了综述。指出了TiO2薄膜在这一领域应用中的优势及存在的问题。  相似文献   
10.
X2 0CrMoV12 1耐热合金钢广泛应用于热电厂主蒸汽管线等主要部件。经长期高温负荷运行后 ,材料性能明显退化。观察显微组织发现 ,材料性能下降是和晶界碳化物的粗化密切相关的。文章着重研究了损伤材料重新热处理后的性能和组织结构的变化 ,初步探讨了材料长期服役后通过热处理恢复其原始性能的可能性  相似文献   
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