BPxN1-x薄膜的制备及磷元素对其光学能隙的影响

本文从应用出发，选择光学石英为衬底，采用热丝辅助射频化学气相沉积的方法沉积BPxN1—x薄膜，对样品进行了X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外—可见等测试。XRD、SEM结果显示薄膜多晶态，表面形貌随时间变化，最终为胞状；紫外—可见光光谱结果显示BPxN1—x薄膜的紫外吸收边随沉积时间的加长、PH3流量的增加而向长波长方向移动。因此，该材料的光学能隙可以通过生长工艺适当调整。另外，BPxN1—x薄膜与液晶层能较好匹配等特性更使其适用于紫外空间光调制器。     

塔里木盆地西部层序地层格架控制下的石炭系沉积成岩演化特征

根据高频旋回层序在长周期旋回层序内的有序叠加方式可在研究区石炭系中划分出3个Ⅲ级旋回层序和2个Ⅱ级旋回层序.其中Ⅲ₃和Ⅲ₃旋回层序为海侵体系域,Ⅲ₂为高水位体系域,它们共同构成了研究区的层序地层格架并且控制着沉积相和生储盖组合的时空展布特征.由于受成岩历史差异性和不同成岩环境的影响,石炭系碎屑岩和碳酸盐岩储集岩成岩特征和储集性能在巴楚隆起区和麦盖提斜坡区均存在明显差异,且分布在斜坡区的储层物性明显优于隆起区同层位的储层,是近期有利的的勘探区域.      

用浓密排放法处置铀水冶厂尾矿的研究

本文叙述了浓密排放法的基本原理,介绍了增浓尾矿的基本方法,模拟实际堆坝条件确定了E厂尾矿的不分选浓度,并测定了沉积坡坡度及堆积体不同部位的粒度组成和其他主要物理力学性质以及加石灰、絮凝剂后,对堆积体各种性能的影响。探讨了尾矿浓密后的沉积、团结、渗透和流变特性及水力输送等方面的基本规律,阐述了将尾矿浓密、浓矿浆水力输送、堆坝等一系列措施用于E厂以解决老尾矿池因渗漏而影响厂区安全的技术可能性和经济合理性,为设计提供了依据。试验表明,浓密尾矿输送和堆坝在节能、节省投资、减少占地和保护环境方面都具有特殊的优点,是铀尾矿处置的一种新的值得重视的方法。     

高效率平面磁控溅射器的研制

介绍一种新型磁控溅射装置。它采用两块极性相对的环状磁铁的设计方法，通过扩大靶表面的等离子放电区域面积，使传统磁控溅射枪使用中经常受到的两个限制──溅射速率与靶的利用率得到了较大的改善。实验中铜靶在溅射功率密度为11W／cm~2时溅射速率约为800nm／min，如果继续提高功率则可获得更高的速率。而靶的利用率可达64％左右。另外，在认为出射粒子符合cos~nθ分布的前提下，发现当n＝3．3时，实验数据和理论数据符合得较好。     

潮水盆地北部亚盆地中侏罗统层序地层及沉积演化特征

在系统分析研究区地表露头、岩心、测井和地震资料的基础上,运用层序地层学理论和方法,针对陆相盆地层序地层分析的实际,将湖水盆地北部亚盆地中讲罗统龙凤山组划分为4个三级层序和2个二级层序.通过系统的沉积体系及沉积淀化分析,发现从一个三级层序到另一个三级层序,或物源区有很大变化,或沉积作用方式发生变化;物源区随时间的变化,反映了构造的控制作用.      

溅射——气体——聚集共沉积法制备金属／金属（介质）复合团簇镶嵌薄膜

提出了溅射－气体－聚集共沉积制备金属／金属（介质）复合团簇镶嵌薄膜的新方法，并利用该方法成功地在方华膜衬底上制备了系列Ｆｅ／Ａｇ及ＣａＦ２复合团簇镶嵌薄膜样品。透射电镜分析结果表明，样品中Ｆｅ（Ｃｕ）团簇都较好地镶嵌于Ａｇ（ＣａＦ２）基质中，其结构为两种材料的多晶共存形态。进一步分析发现，与块材相比，Ｆｅ／Ａｇ样品中Ｆｅ团簇晶格常数呈现出不同程度的收缩，而Ｃｕ／ＣａＦ２样品中Ｃｕ团簇晶格常数则呈现出不同程度的膨胀。运用附加压力的模型对该现象进行了解释。     

复兴场地区新沟咀组油砂体地质模型描述

综合运用地质录井、测井、地质分析化验、实验等多项资料，对复兴场地区新沟咀组下段几种主要微相类型的油砂体进行宏观和微观的综合描述。通过描述认为区内水下分流河道主体部位中部、河口坝中心上部储层物性最好。砂坝中心上部储层物性较好。     

镍钴合金镀层的电沉积及其耐蚀性的研究

研究了Ｎｉ－Ｃｏ合金的电积过程，讨论了电镀工艺条件的改变对合金镀层钴含量的影响。实验结果表明，选择适当的阴极电流密度、电解液温度和镀液ＰＨ值等，可以获得表面光洁、平整和致密的耐蚀性能比镍镀层更好的合金镀层。     

轰击能量对离子束增强沉积Cr—N薄膜微观结构和硬度的影响

采用离子束增强沉积（ＩＢＥＤ）技术，在不同能量氮离子的轴助轰击下制备了Ｃｒ－Ｎ薄膜，通过ＳＥＭ观察、ＸＲＤ分析和显微硬度测定，发现离子轰击能量对Ｃｒ－Ｎ薄膜的表面形貌、相组成和硬度有显著的影响；随着能量的升高，膜表明形貌由岛形颗粒状转变成蜂窝状；一定能量轰击下获得的Ｃｒ２Ｎ和ＣｒＮ混相结合有最高的薄膜硬度；高达１６ｋｅＶ的氮离子轰击可诱发非晶化的出现，并对膜有一定的强化作用。在此基础上探讨了离子轰     

离子束辅助沉积技术及其进展

本文介绍了离子束辅助沉积技术的基本原理，主要工作特点，设备及主要影响因素，综 利用该技术在制备各种新膜层方面研究的新进展，并指出该技术的不足及未来发展方向。