高氟水治理方法分析

除氟的方法有多种,国内外常用的方法大致分为两类,即沉淀法和吸附法.除这两类工艺外,还有冷冻法、离子交换树脂法、活性炭法、超滤法、电渗析法,但后述几种方法很少推广应用于除氟工艺,主要因其成本高、除氟率低.下面对近年国内外常用的化学沉淀、絮凝沉淀、吸附3种处理工艺的研究现状及工程应用作一分析.     

GY-340厌氧胶的技术发展回顾

本文是关于GY-340厌氧胶及其相关产品的一些研制情况回顾和评论，并介绍了用组合引发剂的厌氧胶可以获得较好的固化和贮存性能。     

MTJ MRAM的特性分析与设计

对 MTJ(磁隧道结 )的 GMR(巨磁阻 )效应进行了分析。 MTJ的结构、形态和工作条件会对 GMR效应产生不同的影响。提出了一种 4× 1位 MTJMRAM(磁存储器 )的电路结构 ,每个 MRAM的存储单元由一个MTJ和一个 MOSFET构成 ,用 MTJ两磁极磁化方向的相对取向表示所存储的数据 ,数字线和位线电流产生磁场的共同作用可完成 MRAM数据的写入。     

CLBO晶体化学机械抛光技术的研究

介绍了硼酸锂铯(CLBO)晶体的应用前景及在化学机械抛光过程中存在的问题,简要分析了晶体在常温下开裂的机理,选用无水溶剂对晶体进行化学机械抛光以防止加工过程中晶体的潮解开裂。分析了抛光液、压力、温度、pH值参数对抛光过程的影响,通过合适配比使速率可达1.5～2μm/min,且表面质量较好。     

高密度互连印制板

本文阐述了RCC材料与化学蚀刻法制作高密度互连印制板的工序和详细方法,意在探寻最为经济、简单而又行 之有效的工艺。     

CMP系统技术与市场

概述了CMP系统技术的发展历史、发展趋势以及在IC生产中的重要性,介绍了国外CMP设备主要制造厂家的设备型号和性能及CMP设备市场分布和需求,阐述了CMP系统技术的基础研究、关键技术和国内研究概况。     

化学基础课程改革的实践与深化

设计了以基本理论为基础，化学实验为支柱的化学教育的改革模型。对教学内容进行整体设计与优化，重新组合与更新，构建了化学原理为先导，理工融合的课程、教材新体系及三级实验教学新模式。经过试点班连续4届的实践，效果良好，新体系是可行和有效的，并已在全院推广。     

溶胶-凝胶法合成纳米多孔SiO2-TiO2块材的化学稳定性

以正硅酸乙酯、钛酸正丁酯和聚乙二醇等为主要原料，采用溶胶-凝胶法成功合成了多孔SiO2-TiO2系块状材料。500℃焙烧2h后材料呈现非晶态结构。引入较多钛量时，使材料的孔径分布变窄、平均孔径下降，但增加了比表面积。在80℃热水中浸泡72小时以后，吸附一脱附曲线的类型和形状几乎没有变化；随着Ti含量的增加，比表面积和孔容积的变化率减小。多孔材料在98℃的20％硫酸溶液中重量损失率随Ti含量变化不大，Ti引入并不能提高材料在酸液中的耐蚀性；但引入Ti使多孔材料在95℃NaOH碱液中的耐蚀性明显改善。