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171.
172.
铜的表面含硅渗层的结构与性能   总被引:7,自引:1,他引:6  
本文综述了利用SiH4/H2混合气体在纯铅铜表面获得的含硅渗层的结构和性能。试验结果表明:通过纯铜表面气体渗硅定 新的化学热处理方法,其表面获得含硅渗层,可以改善2铜的表面摩擦磨损,冲蚀磨损及耐高温腐蚀等表面性能。  相似文献   
173.
174.
175.
不同硅质原料对水化硅酸钙形成的影响   总被引:2,自引:1,他引:1  
  相似文献   
176.
本文主要介绍了硅中硼离子注入校准样品的制备与研究。分别用三台SIMS仪器对样品进行了深度剖析与比对,并对用作校准目的的样品主要参数进行了定值。  相似文献   
177.
178.
支婷婷  陈兰荣 《激光技术》1991,15(5):274-277
采用再生放大腔内的短程放大,利用硅光导开关的长的复合时间,实现光导后产生快上升和下降时间、宽度可调的千伏电脉冲,完成从锁模脉冲序列中先后选出两个单脉冲,这两个单脉冲同步精度高、运转稳定。  相似文献   
179.
周有田  阎冰夷 《铁合金》1991,(1):33-35,55
本文论述了以白云石为原料,直接冶炼稀土硅镁合金进行的一系列研究。通过实践,寻求到一种合理且操作简易的新工艺,从而解决了目前稀土硅镁合金生产中存在的问题。  相似文献   
180.
间接加热技术在烧结法脱硅系统中的应用   总被引:4,自引:1,他引:3  
朱应宝 《轻金属》2003,11(4):12-14
本文介绍了脱硅过程在烧结法氧化铝生产中的地位。通过对水合铝硅酸钠和水合铝硅酸钙生成机理的探讨认为一次脱硅过程采用间接加热方式是可行的,并对中州分公司采用这一工艺所取得的效果进行了介绍。  相似文献   
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