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993.
Elena Albanell Josefina Plaixats Alfred Ferret Lluis Bosch Francesc Casaas 《Journal of the science of food and agriculture》1995,69(3):269-273
Near-infrared reflectance spectroscopy (NIRS) analysis was investigated as a means of predicting quality parameters in semi-exotic maize stover. These parameters included crude protein (CP), neutral detergent fibre, acid detergent fibre and in vitro dry matter digestibility (IVDMD). Samples of semi-exotic maize stover were collected during three growing seasons (1989, 1990, 1991) from three locations in Catalonia, Spain. Calibration equations were obtained by multiple linear regression of conventional laboratory values on NIRS data from 84 samples and verified with 20 additional samples. Separate NIRS calibration were developed also within year (1989 and 1990, respectively). A Bran + Luebbe InfraAnalyzer model 450 was used for the study. In the multi-year calibration the coefficients of squared multiple correlation (R2) ranged from 0–81 for IVDMD to 0–92 for CP and the standard errors of calibration (SEC) ranged from 0–35 for CP to 1–46 for IVDMD. The study showed that NIRS analysis can be used to evaluate the quality of semi-exotic maize in breeding programmes. 相似文献
994.
研究了在多室环流反应器(MALR)中用模拟催化裂化干气和空气制乙醛的过程,考察了MALR中气含率和液体循环速率与上升室表观气速之间关系的同时,还考察了反应温度、反应压力、原料气中乙烯含量及催化剂溶液中Pd2+含量对乙烯单程转化率和乙醛选择性的影响。实验结果表明,MALR中气体流速在0.461~0.545cm/s内气含率较大,液体循环速率仅在2.5~3.2cm/s较窄的范围内变化;合成乙醛的最佳条件为:反应温度100~120℃、反应压力0.5~0.6M Pa、催化剂溶液中Pd2+质量浓度0.6~0.9g/L。 相似文献
995.
高速公路路基的质量检测 总被引:2,自引:0,他引:2
指出压实度是路基填筑质量和强度的重要指标,针对南通地区填筑土方性质的复杂性、标准干容重选择的差异性、密实度控制质量可能失真的现状,探讨了用弯沉和密实度两指标进行“双控”,以控制路基的质量。 相似文献
996.
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1000.
Jacobs R. N. Stoltz A. J. Robinson E. W. Boyd P. R. Almeida L. A. Dinan J. H. Salamanca-Riba L. 《Journal of Electronic Materials》2004,33(6):538-542
The vision of achieving a completely in-vacuum process for fabricating HgCdTe detector arrays is contingent on the availability
of a vacuumcompatible photolithography technology. One such technology for vacuum photolithography involves the use of amorphous-hydrogenated
Si (a-Si:H) as a photoresist. In this work, we deposit a-Si:H resists via plasma-enhanced chemical-vapor deposition (PECVD)
using an Ar-diluted silane precursor. The resists are then patterned via excimer laser exposure and development etched in
a hydrogen plasma where etch selectivities between unexposed and exposed regions exceed 600:1. To determine the best conditions
for the technique, we investigate the effects of different exposure environments and carry out an analysis of the a-Si:H surfaces
before and after development etching. Analysis via transmission electron microscopy (TEM) reveals that the excimer-exposed
surfaces are polycrystalline in nature, indicating that the mechanism for pattern generation in this study is based on melting
and crystallization. To demonstrate pattern transfer, underlying CdTe films were etched (after development of the resist)
in an electron cyclotron resonance (ECR) plasma, where etch selectivities of approximately 8:1 have been achieved. The significance
of this work is the demonstration of laser-induced poly-Si as an etching mask for vacuum-compatible photolithography. 相似文献