FCC装置主风分布管喷嘴磨损的气相流场分析

用FLUENT流体计算软件对FCC装置再生器树枝状分布管喷嘴流场进行了计算,分析了喷嘴发生磨损的机理.对喷嘴流场的计算表明喷嘴磨损是催化剂颗粒造成的,属于气固两相流冲蚀磨损.由于某些喷嘴的压力降偏低和流场存在偏流,造成催化剂颗粒倒流至喷嘴内部或分布支管内部.催化剂颗粒流经喷嘴时,斜向冲击内壁产生冲蚀磨损.磨损首先发生在喷嘴内壁局部区域,形成圆弧状磨损痕迹,再将喷嘴磨穿,逐渐扩大为整个喷嘴,磨掉喷嘴.这些分析结果可为主风分布管的设计提供帮助.     

等离子体刻蚀工艺控制模型分析

讨论了主因素分析法以及神经网络法在等离子体刻蚀工艺中的应用.结果表明主元素分析法可以实现对数据的压缩,而神经网络算法则显示出比传统的统计过程控制算法更好的准确性.     

一种变步长D-Rake多用户检测器

在时变多径衰落信道下,接收到的CDMA信号功率变化较大,此时D-Rake盲自适应多用户检测器性能显著下降,将变步长LMS算法与基于主分量的相干合并引入到D-Rake(DecorrelatingRake)检测器中,构成一种变步长D-Rake,称之为VD-Rake(Variablestep-sizeDecorrelatingRake)检测器。该检测器能克服原D-Rake检测器对信号功率变化较敏感等缺点,有效地改善了D-Rake检测器的性能。     

石化企业挥发性有机物成分谱构建及溯源解析

石化企业是挥发性有机物(VOCs)的重点排放源，开展VOCs成分谱构建和溯源解析工作对石化企业进行有针对性的污染治理具有重要的意义。综述了石化企业VOCs排放特征的研究现状，重点介绍了石化企业VOCs源成分谱和溯源解析工作的研究进展和存在的问题，建议完善采样和分析方法，利用数学算法，构建基于生产工艺的源成分谱，优化解析模型，形成一套完善的溯源解析技术，从而为石化企业大气污染物溯源提供理论、技术支持，有效实现石化企业安全环保一体化监控。     

CMOS光接收机主放大器设计

利用CMOS工艺设计一种用于SDH STM 4速率级(622 Mb/s)光纤用户网的光接收机放大电路。此电路由输入/输出缓冲、主放大单元、偏置补偿电路4部分组成。通过直接耦合技术提高增益,降低功耗;利用有源电感负载提高系统带宽。采用商用SmartSpice电路仿真软件和CSMC HJ 0.6μm工艺参数对该电路进行仿真。结果表明,该电路在5 V工作电压下中频增益为81 dB,3 dB带宽为470 MHz。     

基于MODBUS协议的激光雕刻切割系统HMI人机交互设备

近年来,国内激光雕刻切割控制器技术发展迅速,基于PC的传统控制器已相当成熟.为了显著提高工业生产效率,适应工业生产规模扩张的需要以及工业对系统稳定性要求的提高,目前国内几家专业运动控制器厂家已经实现了激光雕刻切割控制器的完全脱机运行.本文针对脱机控制器的需要设计一款人机交互设备,该设备采用AT89C55WD单片机为主控制器,采用标准的MODBUS协议实现HMI与脱机控制器的可靠通讯.     

粘性土的液限、塑限及粒度成分的相关性分析

液限、塑限是粘性土处于塑态时的上下界限含水率 ,是粘性土的主要特性指标 ,文章通过对大庆地区双阳河西支右堤沿线粘土料场的 1 0 8组室实验数据进行分析并对实验数据进行回归统计分析得出液限、塑限及粒度成分的近似关系的趋势     

PCI总线主控制器IP的设计

本文讨论一个PCI总线主控制器IP核的设计与验证，描述了该IP核的控制通路和数据通路设计、电路的功能仿真、综合以及验证等过程。结果表明，该IP核在功能和时序上符合PCI技术规范2．2版本，达到了预定的目标。     

铜蒸气激光器种子注入光腔的参数计算

用矩阵光学理论计算了由主振荡器和功率放大器组成的种子注入光腔。主振荡器光腔是由曲率半径R1=-250mm,R2=5000mm,相距L=2375mm的球面镜组成的正支非稳腔;功率非稳腔是由曲率半径R3=400mm,R4=5600mm,相距S=3000mm的球面镜构成的负支非稳腔。理论计算表明,该种子注入光腔可输出光束发散角约几十微弧的激光,可满足铜蒸气激光器主振荡器功率放大器(MOPA)的技术要求。