智能光网络技术及其在SNl6000中的应用

自动交换光网络 (ASON)技术是如今电信领域的一个热点话题 ,它的诞生首次将光网络由传统的静态租赁式的网络结构转变为动态交换式的网络结构 ,这个转变给运营商带来的不仅是投资的节省、维护的简化 ,更重要的是带来了新的服务业务和网络安全性的大幅提升。1ASON技术的探讨ASON技术是从MPLS(MultiprotocolLabelSwitching)开始 ,后发展到带流量工程的MPLS_TE ,到如今最流行的GMPLS(GeneralizedMPLS) ,其技术一直在发展。由于ASON最初诞生于MPLS ,而MPLS在最初即有基于IP的应用和基于ATM的应用 ,因此在相关信令上就衍生了…     

VCSEL的发展现状和市场应用

近年来由于高速光网络的快速发展，使人们对一种新型的半导体激光器——垂直腔面发射激光器(VCSEL)给予了更多的关注，已成为研究开发的热点。本介绍了VCSEL的发展进程、基本结构及较之于侧面发射激光器(包括与LED作比较)的优势，以及近期出现的新技术和封装手段，详细叙述了各波段VCSEL所用的材料、技术、市场应用。最后简述了VCSEL基光收发机的市场状况。     

单光纤传输光推动便携式压力测量仪的研究

介绍了用单根光纤传输测量信号和功率信号的光功率推动液体压力测量仪及其工作原理。该仪器以电容式压力传感器的δ元件作为压力检测元件，采用低功耗前置器电路和简单直杆结构，实现了便携式测量。测量范围为O～100kPa，精度为O．01kPa。     

利用CWDM技术升级HFC网络

针对HFC光网络的回传升级改造，提出了“采用CWDM技术升级HFC网络”的建议。文章介绍、分析WDM／DWDM／CWDM技术的技术背景、技术特点；介绍了CWDM技术的特点和在回传光发射机中的应用；针对HFC回传光网络的升级改造介绍了如何利用CWDM技术升级改造HFC光网络。     

SOI光开关速度和损耗的研究

速度和损耗是光开关的两项重要特性指标。章在介绍SOI热光型和电光型开关工作原理的基础上，分析了波导层和埋层二氧化硅厚度、电极材料、载流子寿命以及掺杂、界面质量、模式失配度和对准性等等因素对于速度和损耗的影响，并相应的提出了一些改善方案。     

WDM网络光层保护新算法的探讨

首先介绍了几种按照不同标准划分的WDM网络光层保护方法,然后提出了三种实现光层保护的新算法,对它们的内容和性能做了详细描述。按照提出的算法所求得的解,可以为WDM网络提供新的光层保护方式。     

智能光网络控制平面技术

光网络的智能化是下一代光网络发展的主要趋势,在对智能光网络发展背景进行分析的基础上,对光网络控制平面技术进行了讨论,重点分析了光网络控制平面的功能模型、主要功能、应用协议和控制平面的可靠性等问题。     

区熔硅近表面洁净区和体内微缺陷的形成

中子辐照区熔(氢)硅片经退火后在近表面形成洁净区,在硅片内部形成体内微缺陷.微缺陷的形成与中子辐照造成的损伤及单晶硅内氢杂质的催化加速有关,还与后续退火条件有关.第一步退火的温度对微缺陷的尺度有很大的影响,中低温要比高温所形成的微缺陷小.在退火过程中微缺陷有一个生长过程,1100℃退火2h微缺陷已达最大.硅片表面的粗糙度影响表面洁净区的形成,洁净区出现在未抛光面,双面抛光硅片不会形成表面洁净区.     

PMN-PT陶瓷中的氧缺位及其消除

研究了组成中Pb含量的变化对组成为Pbx(Mg1/3Nb2/3)0.65Ti0.35O3的铌镁酸铅-钛酸铅(PMN-PT)陶瓷压电性能的影响,发现化学计量比组成(x=1)的Pbx(Mg1/3Nb2/3)0.65Ti0.35O3陶瓷经常出现压电性能的大幅度退化现象,而A位适量缺Pb能稳定地获得高性能的Pbx(Mg1/3Nb2/3)0.65Ti0.35O3陶瓷。XPS元素价态分析的结果表明,化学计量比的Pbx(Mg1/3Nb2/3)0.65Ti0.35O3陶瓷中含有较多的氧缺位,氧缺位的产生源于MgNb2O6(MN)合成过程中的气氛差异,A位适量缺Pb能有效地消除这种氧缺位而稳定地获得正常的压电性能,其机理被认为是氧缺位与铅缺位的复合。