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31.
采用RF磁控溅射技术在石英衬底上生长了厚度可调的锐钛矿相TiO2薄膜,继而采用光刻技术在薄膜上生长了Ag叉指电极,获得了MSM结构TiO2基紫外探测器。I-V特性测试结果表明Ag与TiO2之间表现出优良的欧姆接触特性,所制备探测器为欧姆接触。此外,TiO2薄膜厚度对探测器的光电性能影响显著,当薄膜厚度达到197 nm时,光电性能达到最高。此时,光电流高出暗电流近2.5个数量级,紫外光区的响应度高出可见光区近2个数量级。所制备Ag/TiO2MSM紫外探测器表现出高灵敏度和可见盲特性。 相似文献
32.
为了解决典型宽禁带半导体光电探测器件的工作波段限制材料禁带宽度的问题,对基于表面等离激元热电子效应的光电晶体管进行了制备和光电性能研究,提出一种采用重掺杂的硅片作为背栅极、二氧化硅(SiO_2)氧化层作为绝缘层,且能利用等离激元热电子效应的光电晶体管,有望实现响应光谱的调控。利用热退火方法在绝缘层表面修饰金纳米颗粒,并结合射频溅射、物理掩模和真空热蒸镀的方法实现了热电子效应铟镓锌氧化物(IGZO)光电晶体管。器件的光学和电学性能测试结果表明:修饰金纳米颗粒的光电晶体管在658nm红光入射下产生明显的光电响应,外加90V栅极偏压时,光电流提升约为2.2倍。金纳米颗粒修饰的等离激元热电子结构有效调控了该型晶体管的响应光谱范围,不受材料禁带宽度的限制,而且晶体管的背栅调控进一步放大光电流,提高了器件的量子效率。 相似文献
33.
34.
Si-APD单光子探测器的全主动抑制技术 总被引:2,自引:0,他引:2
为了缩短单光子探测器工作的死时间,提高单光子计数率,在分析单光子探测器被动抑制工作模式的基础上,针对硅雪崩光电二极管的工作特点,实验设计了精密快速的抑制电路,用以控制探测器的雪崩淬灭和电压恢复,实施了主动淬灭与快恢复相结合的全主动抑制技术。结果表明,该技术使探测器工作在更加安全高效的全主动抑制模式下,最后实验测得探测器总的死时间由原被动抑制模式下大于2μs缩短至120ns,单光子计数率由被动模式下低于1MHz上升到8MHz以上,从而达到了提高计数率的目的,满足一些单光子高效检测和计数的需要。 相似文献
35.
关于数码相机的技术和市场 总被引:1,自引:0,他引:1
数码相机是在现代信息技术和传统相机的基础上发展起来的一代相机。本文概述了数码相机的特点、成像原理,及技术进展并介绍了市场状况。 相似文献
36.
37.
38.
39.
光电子成像:回顾和展望 总被引:1,自引:0,他引:1
周立伟 《中国计量学院学报》2001,12(2):25-29
本文回顾半个世纪以来光电子成像 (包括微光成像和热成像 )的进展 .在微光成像技术方面 ,叙述了一代、二代和三代像增强技术、真空和固体微光摄像技术、光子成像计数技术的现状和发展 ;在热成像技术方面 ,叙述了致冷型一代、二代和三代热成像技术和非致冷型阵列热成像的现状和发展 .文中对新世纪的微光四代像增强技术、新型微光摄像技术和热成像技术的发展作了展望 . 相似文献
40.
变结构PI控制器的设计及其在光电跟踪系统中的应用 总被引:3,自引:2,他引:1
为了给光电跟踪系统提供高性能的伺服控制,基于传统的PI控制器原理,结合变结构的思想,设计了一种变结构PI控制器(VSPI)。介绍了该控制器的工作原理并讨论了设计参数的选择。基于某型号光电跟踪系统,分别对采用了VSPI、抗积分饱和PI控制器(AWPI)和积分分离PI控制器(ISPI)作为位置回路控制器的伺服控制系统进行了仿真和实验。实验结果表明,采用了VSPI的光电跟踪系统基本无超调,上升时间为0.378s,稳定时间为0.488s,跟踪精度为1.26″。该系统结构简单,能实现嵌入式实时控制;与其他两种控制器相比综合性能更好,完全满足光电跟踪系统精度高、响应快的要求。 相似文献