DOP对纳米ATO水性浆料稳定性和涂层性能的影响

以含邻苯二甲酸二辛酯(DOP)的去离子水为分散介质，使用机械与超声相结合的方法，制备了纳米掺锑二氧化锡(ATO)水性浆料。使用静置沉降法、激光粒度仪和紫外-可见分光光度计对该水性浆料的分散稳定性进行了表征，并研究了DOP用量对含纳米ATO的水性聚氨酯(WPU)涂层性能的影响。结果表明：DOP与异丙醇、无水乙醇相比，更能促进纳米ATO粒子的分散。当ATO、DOP与水的质量比为5∶6∶89；匀浆机转速为30 000 r/min，研磨时间为25 min，探头超声功率为600 W，离心机转速为6 000 r/min时，可得到粒径分布较窄且颗粒尺寸较小的纳米ATO水性浆料。在适宜的条件下，厚度为150μm的ATO隔热WPU涂层的可见光透过率、紫外阻隔率及隔热率分别为81.2%、21.2%和11.5%。     

不同形态石英玻璃的析晶动力学研究

应用XRD技术对三种形态（块状,粉末和纤维）石英玻璃在1200－1500℃范围内内的等温析动力学过程进行了实验研究,实验结果表明,不同形态石英玻璃的析晶产物都是低温方石英,但形态不同的石英玻璃的析昌开始温度,同一温度下的析昌量及析晶量随温度的变化关系是不同的,三种形态石英玻璃析晶动力学可较好地用Avrami方程表示,其中块状,粉末和纤维的平均n值分别为1.65,1.68和1.92,活化能分klj o 495,445和430kJ/mol,析晶中的成核为表面成核机制,晶体生长受扩散和重排双重控制,随比表面和杂质含量的增大（块状→粉末→纤维）,控制因素中扩散的比例降代,而重排的比例上升,因而n值上升而活化能下降,析晶倾向增大。     

槽沉对合成石英玻璃光学均匀性的影响

本文采用真空加压方法对合成石英玻璃进行均化处理，以提高玻璃的光学均匀性。     

Ⅳ类石英玻璃光学均匀性影响因素研究

Ⅳ类石英玻璃是一种重要的特种玻璃材料，在光学探测、惯性导航等领域内具有重要作用。光学均匀性是表征光学玻璃结构均匀性的一种重要方法，Ⅳ类石英玻璃的光学均匀性与硅氧网络结构分布一致性密切相关。本文通过四步法光学均匀性测试、紫外-可见-近红外光谱、红外反射光谱等方法，研究了羟基、金属杂质及氧缺陷的径向分布特点和硅氧键键角的径向变化，采用相关性分析研究了各影响因素对样品光学均匀性的影响。结果表明：表示玻璃光学均匀性的波前畸变t₀Δn沿玻璃半径先降低后升高；羟基的径向分布整体上与t₀Δn的径向变化相反，200 nm处透过率径向变化、硅氧键键角径向变化与t₀Δn的径向变化相近；羟基对Ⅳ类石英玻璃光学均匀性的影响较小，金属杂质、氧缺陷及硅氧键键角的径向变化是影响Ⅳ类石英玻璃光学均匀性的主要因素。