离子注入提高金属表面硬度的研究

本文应用“20～420keV离子注入机”对铁,镍,18Cr-8Ni不锈钢进行了硼离子能量为100keV,剂量分别为4×10~(15)离子/cm~2及1×10~(16)离子/cm~2的注入试验。对铍进行硼离子能量为80keV及剂量为2×10~(17)离子/cm~2的注入,并经620℃一小时的真空退火处理。通过离子探针(IMS)分析,证明硼在这些金属中的纵向浓度,近似的呈高斯分布。经显微硬度的测量,Fe、Ni、18Cr-8Ni经注入B~ 后,金属的表面显微硬度伍都得到不同程度的提高。特别是金属铍注硼后,再经过真空退火,其表面硬度从HV300kg/mm~2提高到HV≥2318kg/mm~2。     

Preparation of TiAl3-Al composite coating by cold spraying

TiAl₃-Al coating was deposited on orthorhombic Ti₂AlNb alloy substrate by cold spraying with the mixture of pure Al and Ti as the feedstock powder at a fixed molar ratio of 3:1 when the spraying distance, gas temperature and gas pressure for the process were 10 mm, 250 °C and 1.8 MPa, respectively. The as-sprayed coating was then subjected to heat treatment at 630 °C in argon atmosphere for 5 h at a heating rate of 3 °C/min and an argon gas flow rate of 40 mL/min. The obtained TiAl₃-Al composite coating is about 212 μm with a density of 3.16 g/cm³ and a porosity of 14.69% in general. The microhardness and bonding strength for the composite coating are HV525 and 27.12 MPa.     

AlN颗粒增强Cu基复合材料内氧化的研究

对预置AlN微粒铜基复合材料内氧化前后进行了组织形貌观察和性能测试。结果表明：在高纯氮气体介质中可实现预置微粒Cu基复合材料的内氧化,内氧化物在弥散分布的原预置微粒处形核、长大,充满于整个复合材料之中;复合材料抗压强度的提高来自于晶粒细化和第二相弥散强化的共同作用;内氧化使复合材料致密化程度提高,并增加了粒子与基体之间界面的结合强度,是改善耐磨性的主要原因。     

声发射和激光拉曼在研究高温合金氧化膜粘附性中的应用

用热重分析TGA及扫描电镜SEM对Co-40Cr合金及其表面离子注入3×10     

喇曼光谱方法测量金属表面氧化膜的残余应力

利用表面增强激光喇曼光谱仪测量了Fecrallor（Fe－22Cr－5Al－0．3Y）合金表面Al2O3膜及Co－40－Cr合金表面Cr2O3膜的残余应力．实验条件下,两种氧化膜残余应力值分别为2GPa和1．7GPa．如果Co－40Cr合金离子注入3×1017Y ／cm2;或者Cr2O3膜发生破裂,Cr2O3膜的残余应力值显著降低．该测试方法简便,并可用于测量氧化膜内微区应力及应力分布,还可实现高温下原位测量氧化股应力．     

氧化膜应力研究进展

综述了氧化膜应力产生与释放机理,重点介绍了氧化膜应力原位测试技术的新进展及稀土绎氧化膜和的影响,探讨了氧化膜应力研究的发展方向。     

Q235钢热浸铝初期镀层组织结构的变化

研究了Ｑ２３５钢热浸铝初期镀层的微观结构变化及形成机制。结果表明,浸铝的初始阶段铝表层与基体之间产生连续的ＦｅＡｌ３薄层。随时间延长,斜方Ｆｅ２Ａｌ５相的快速生长,抑制了ＦｅＡｌ３相生长,并使ＦｅＡｌ３相的连续性被破坏,Ｆｅ２Ａｌ５相呈不均匀的齿状垂直于基体表面生长。采用ＡｌＫα元素的面分布分析及透射电镜分析了镀层初期形成过程,并提出了镀层的结构模型。     

难熔金属及其合金低温流床硅化物防护层

在700—1050℃温度的流床中,W、Nb和Ta的硅化物层生长速率单调地随温度上升而增加。流床法获得的硅化物层与其它方法得到的相类似。 Mo及Mo—Ti、Mo—Ti—C和Mo—Ti—Zr—C合金的硅化行为则不同,在较低的温度区域内,它们的硅化物层生长速率出现反常高的峰值,该峰的出现伴随着形成一个在现有的二元Mo—Si系相图中没有报导过的新相组成的硅化产物。X-射线分析确定,该相具有典型的六角C_(40)型结构,点阵常数为:a=4.580,c=6.477,c/a=1.41。它是通常四角的MoSi_2相的一个不稳定的低温变体。硅化后经高温真空处理时,六角的MoSi_2迅速地和不可逆地转变为四角的MoSi_2。 在出现反常高增重峰的温度下,Mo一0.5Ti合金硅化物层生长遵守直线规律,其硅化层主要为六角的MoSi_2。而纯Mo仅在硅化初期服从直线规律,而后过渡为抛物线规律,其硅化产物通常为六角的MoSi_2,随后转变为四角的MoSi_2。两种结构的硅化物层在高温时的氧化行为相同。