工艺参数对含钛高炉渣合成(Ca,Mg)α''-Sialon-AlN-TiN粉的影响

以含钛高炉渣、硅灰、高铝矾土熟料和炭黑为原料,采用碳热还原氮化法合成了(Ca,Mg)α'-SialonAlN-TiN粉.用X射线衍射法测定了产物相组成及相对含量,研究了合成温度和恒温时间对反应过程的影响,并对合成机理进行了探讨.结果表明:合成温度对(Ca,Mg)α'-Sialon-AlN-TiN粉的合成过程影响显著,随着合成温度升高,产物中α'-Sialon相含量增大,1 480℃时α'-Sialon含量达最大,是最佳的合成温度.恒温时间对产物相组成的影响不十分显著,但较长的恒温时间可使还原氮化反应进行得更充分,恒温8 h的试样中α'-Sialon含量最高,是较理想的恒温时间.合成过程中SiO的挥发导致试样较大的质量损失,且随着合成温度升高和恒温时间延长而增大.     

硼及其硼化物的应用现状与研究进展

硼及其硼化物在现代工业中有着广阔的应用前景.分析了我国硼矿资源的分布和特点,着重阐述了硼及其硼化合物综合利用的途径及现状,总结了硼及其硼化合物在冶金工业、陶瓷工业、永磁材料、超导材料、晶须材料、稀土材料等领域的应用情况,并对今后的发展趋势进行了探讨.     

冶金炉渣中钛氧化物的热力学评述

全面分析了近三十年来国内外有关熔渣中钛氧化物的热力学研究,评价了所涉及的实验方法,并对研究工作中存在的问题进行了讨论.     

刚玉莫来石砖在CaO-MgO-Al_2O_3-SiO_2渣中的侵蚀

采用旋转法于1450℃和1500℃下研究了刚玉莫来石砖在Al2O3含量不同的CaO-MgO-Al2O3－SiO2渣中的侵蚀过程。结果表明：此过程为准零级;表观侵蚀速率随渣中Al2O3含量的减少和温度的升高而增大;在1450℃含Al2O36％～8％的现场渣中的表观侵蚀速率最小。     

CaO-SiO2-TiO2-Al2O3-MgO炉渣中三价和四价Ti氧化物的氧化还原平衡

实验研究了ＣａＯ－ＳｉＯ２－Ａｌ２Ｏ３－ＭｇＯ炉渣在不同温度和氧分压下,三价和四价Ｔｉ氧化物间的氧化还原平衡。结果表明：在ωＣａＯωＳ〈２时,ωＴｉ＾４＋ωＴｉ＾４＋＋ωＴｉ＾３＋与ωＣａＯωＳｉＯ２近似呈线性关系,并可用ωＴｉ＾４＋ωＴｉ＾４＋＋ωＴｉ＾３＋来判断炉渣碱度;ｘＴｉ＾３＋ｘＴｉ＾４＋随全二氧化钛摩尔分数ｘＴｉＯ２,Ｔｏｔ的增大而增大;升高温度有利于渣中高价Ｔｉ氧化物的还原（ω为质量     

透辉石矿物合成及其光催化性实验

固相烧结合成透辉石矿物,用X射线衍射(XRD)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)和紫外可见漫反射光谱(UV-vis)对不同温度下的合成产物进行表征,并将合成透辉石矿物用于紫外光照射条件下进行亚甲基蓝降解的实验研究,探讨其光催化性能.结果表明:1 400℃保温3 h的条件下合成纯透辉石;合成纯透辉石矿物具有光催化性,效率较低,催化剂样品质量浓度为2 g/L,亚甲基蓝初始质量浓度为0.8 mg/L,室温下光催化反应4 h,其降解率为16%.     

含钛高炉渣光催化降解邻硝基酚的实验研究

研究了用处理过的含钛高炉渣作为光催化材料光催化降解邻硝基酚溶液,并探讨了影响其光催化性的多种影响因素,以寻求含钛高炉渣综合利用的新途径.实验结果表明:含钛高炉渣作为光催化材料对邻硝基酚溶液有降解作用;邻硝基酚溶液的浓度越低,降解率越高.本实验中,用负载于玻璃片的含钛高炉渣降解邻硝基酚溶液时,最佳溶液浓度为15mg/L;邻硝基酚溶液的pH值为3.0时降解率最大;对邻硝基酚溶液施加电压可提高光催化效率,降解率随电压的增大而增大.     

石墨化度对自焙碳块性能的影响

在实验室制备不同石墨化度的自焙碳块,并研究了石墨化度对自焙碳块的结构性质、高温冶金性能（包括恒压比热容、热扩散率、导热性、热膨胀性、抗热震性）、抗铁水和熔渣侵蚀性能及铁水渗透的影响。     

配料组成和氮气流量对高钛渣合成TiN／β＇-sialon粉体的影响

在热力学分析的基础上,以高钛渣为主要原料,采用碳热还原氮化法合成了TiN／β＇-sialon导电陶瓷粉体。利用XRD、SEM和EDS检测手段研究了氮气流量、TiO2加入量、配碳量对合成过程的影响,并对最佳工艺参数下的合成粉体进行了表征分析。结果表明：TiO2加入量、氮气流量对合成产物影响显著,基体相β＇-sialon与功能相TiN的比例可通过TiO2加入量调节,1400℃、恒温2h、氮气流量400ml／min、等理论值配碳为最佳的工艺参数。此时,产物中主要相组成为β＇Lsialon和TiN及少量的15R和Al2O3,β＇-sialon晶粒多呈长柱状,TiN为细小粒状。     

TiO2/O''''-Sialon界面反应过程

以反应烧结的O'-Sialon和金红石型TiO2为研究对象,设计制备了TiO2/O'-Sialon扩散偶,采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)及电子探针微区分析(EPMA)等方法,对扩散偶的扩散界面及垂直于界面的断面进行了物相分析、形貌观察及元素面分布分析,并在此基础上探讨了TiO2/O'-Sialon界面反应过程.XRD结果表明:TiO2与O'-Sialon在界面处发生反应生成TiN和SiO2,但在1 200℃时扩散反应程度微弱,界面处存在Sm2O3偏析,并且与SiO2生成Sm2Si2O7;SEM照片显示TiO2/O'-Sialon界面处存在不规则硅酸盐熔融层;EPMA元素面分布分析表明Ti、Si等元素富集于硅酸盐熔融层内,只有微量元素扩散至基体内.综合分析结果得出,TiO2/O'-Sialon界面反应过程可分为三个阶段:物理接触阶段、熔融层形成及元素富集阶段、熔融层增长阶段.