全文获取类型
收费全文 | 275篇 |
免费 | 17篇 |
国内免费 | 13篇 |
专业分类
电工技术 | 11篇 |
综合类 | 11篇 |
化学工业 | 41篇 |
金属工艺 | 9篇 |
机械仪表 | 22篇 |
建筑科学 | 34篇 |
矿业工程 | 1篇 |
能源动力 | 2篇 |
轻工业 | 24篇 |
水利工程 | 2篇 |
石油天然气 | 10篇 |
武器工业 | 6篇 |
无线电 | 93篇 |
一般工业技术 | 7篇 |
原子能技术 | 1篇 |
自动化技术 | 31篇 |
出版年
2024年 | 3篇 |
2023年 | 8篇 |
2022年 | 8篇 |
2021年 | 6篇 |
2020年 | 8篇 |
2019年 | 15篇 |
2018年 | 9篇 |
2017年 | 5篇 |
2016年 | 9篇 |
2015年 | 9篇 |
2014年 | 19篇 |
2013年 | 10篇 |
2012年 | 14篇 |
2011年 | 21篇 |
2010年 | 22篇 |
2009年 | 23篇 |
2008年 | 28篇 |
2007年 | 28篇 |
2006年 | 9篇 |
2005年 | 8篇 |
2004年 | 8篇 |
2003年 | 8篇 |
2002年 | 5篇 |
2001年 | 6篇 |
2000年 | 4篇 |
1999年 | 2篇 |
1997年 | 5篇 |
1996年 | 3篇 |
1995年 | 1篇 |
1983年 | 1篇 |
排序方式: 共有305条查询结果,搜索用时 515 毫秒
11.
本文介绍了如何利用前人优秀的理论去改善双极型晶体管参数的课题:氧化硅作为优秀的绝缘材料覆盖在发射极多晶硅表面,确保了砷在快速热处理后的轮廓分布,从而使NPN型晶体管的放大倍数降低的同时增加了扩散致窄电阻的阻值;不连续的氧化硅作为宽禁带半导体材料被加在多晶硅和单晶硅的界面处,有效的提高了横向PNP晶体管的放大倍数。 相似文献
12.
在半导体制造工艺中,湿法清洗和刻蚀技术是其中重要的组成部分。文章着重介绍了半导体湿法清洗和刻蚀技术中化学品的化学配比和相关用途,并且重点讲述了化学品浓度控制的重要性及其常用的控制方式。 相似文献
13.
目前中国电信光缆维护主要以专业化和属地化两种维护体制为代表,各有优势,但总体而言,传输设备与线路分离,机线维护的综合优势难以发挥。中国电信江西公司结合本省实际,在"机线一体化"传输维护体制方面进行了有益的探索。 相似文献
14.
访客的网络评论具有内容丰富、客观真实等特点。剖析网络评论,能为综合公园的网络形象提升以及未来规划发展提供科学的理论依据。文章以南京市玄武湖公园为例,采集去哪儿网的相关评论数据,结合ROST CM6等软件,进行定性和定量分析,从不同角度和层次分析访客评论内容。结果显示,访客对公园的整体评价较高,对公园中的自然景观关注度最高,对公园内的服务收费措施不太满意。公园在以后的建设管理中,应采取改善公园的管理服务,打造独特自然景观等措施,以此进一步提高公园的建设水平。 相似文献
15.
针对北京农村地区建筑采暖系统投资大、供暖效果差等问题,对被动式阳光间进行了一系列的优化设计,实现对太阳能的有效利用,并通过实例进行测试分析,为被动式太阳能利用技术提供借鉴和参考。 相似文献
16.
17.
随着超大规模集成电路特征尺寸不断缩小,多层cu互连之间的RC延迟成为一个越来越严重的问题.由于低介电常数(low-k)材料配合空气隙(air gap)结构可用于降低Cu互连导线间的耦合电容从而改善RC延迟特性,建立了单层和多层空气隙Cu互连结构的有限元分析模型,以研究空气隙结构尺寸与互连介质等效介电常数的关系.结果表明,在单层空气隙Cu互连结构中,通过增加互连导线间空气隙的结构尺寸可以减小Cu互连结构中的耦合电容,进而改善RC延迟特性;在多层空气隙Cu互连结构中,通过改变IMD和ILD中空气隙的尺寸结构可以得到RC延迟性能优化的多层空气隙Cu互连结构. 相似文献
18.
19.