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152.
在“С.И.瓦维洛夫国家光学研究所(ГОИ)”光学镀层工作是30年代在И.В.Гребевшиков院士领导下开始的。到目前为止形成一个高度熟练的专家集体。它完成同光学镀膜工艺有关的一整套的工作。在镀制中采用所有现代的光学镀层的真空方法:电阻法和在高真空中的电子束蒸发法,阴极法,离子等离子体法,磁溅射法。镀层工艺中成功地采用离子加工方法,其中包括基板的离子净化,离子辅助(ассистрование),离子涂抹(платирование)。 相似文献
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采用时间,空间分辨的等离子体光辐射诊断技术,研究了脉冲TEACO2激光诱发SiH4+CH4击穿产生的等离子体膨胀过程,得到不同空间位置,不同实验条件下等离子体发光的时间特性,证明了SiH4+CH4气体击穿产生爆燃波而后诱发激波是等离子体中基本宏观动力学过程,并在实验上分析了激波对等离体内化学反应的影响,为激光等离子体合成SiC粉末微观反应动力学过程的研究提供了参考数据。 相似文献
154.
JT-60在1989年-1991年经强电流化改造成JT-60U后,实验主要围绕着“约束性能改善”和“稳态化”两大研究课题进行。其目的是通过改善等离子体约束性能和研究托卡马克装置的稳态化,对国际热核聚变实验堆ITER物理研究的主要课题作出贡献,同时推进和实施对未来动力堆设计不可缺少的前期研究。 相似文献
155.
156.
本文介绍和评述了化学气相沉积法制备人造金刚石薄膜及其进展。重点评述了反应机理、发展历史、沉积方法、补底材料、检测手段。论述了有利于形成立方晶系金刚石材料的沉积条件。 相似文献
157.
以苯胺为单体在等离子体条件下进行聚合,测量所合成的有机膜经100keV、5×1015cm ̄(-2)Ar ̄+注入后电阻率的变化,并用FTIR、XPS和核分析方法对离子注入引起的结构和成分改变进行了探讨。结果表明,在等离子体环境下,聚合膜内仍含有大量环结构。由于Ar ̄+的注入,聚合膜表面损伤而碳化,使注入层内的体电阻率降低11个数量级。 相似文献
158.
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压缩弧光等离子束熔覆层中晶相与非晶相 总被引:11,自引:1,他引:11
用压缩弧光等离子束在 45钢表面熔覆Fe Cr Si B粉末涂层 ,采用能谱、透射电镜、电子探针对熔覆层结构进行分析。结果表明 ,熔覆层中晶相与非晶相并存 ,晶相由A(Me)、F(Me)、Me2 3 C6 等相组成 ,且 [2 11]A∥ [2 11]Me2 3 C6 ,(111) A ∥ (111) Me2 3 C6 ,(0 11) A ∥ (0 11) Me2 3 C6 ,即A与Me2 3 C6 保持共格关系 ,而[111]F∥ [32 1]Me2 3 C6 ,(10 1) F∥ (111) Me2 3 C6 。非晶相中Si、Cr等元素含量较高 ,从动力学和热力学两方面对非晶的形成进行了分析 相似文献