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随着计算机视觉技术的发展,在人工智能领域也开展了很多以行人为目标的研究。本文基于深度学习,对行人进行人脸检测和姿态估计,为行人过街意图的进一步研究分析打下基础。本研究利用TensorFlow-SSD进行行人目标检测,分为两部分内容。一是检测行人目标,进行姿态估计分析动作,二是检测行人脸部,用来配合姿态估计对行人运动方向进行分析。采集数据后上传至服务平台后端,其调用OpenCV读取图片,通过TensorFlow提供的api读取pb文件,传递给训练好的检测模型,然后进行人脸检测和人体姿态检测与估计。 相似文献
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以建筑垃圾、矿渣为原料,以硅酸钠为碱激发剂制备地聚合物材料,考察硅酸钠模数、建筑垃圾/矿渣重量比、水胶比及硅酸钠用量等因素对地聚合物初凝时间、抗压强度和抗折强度的影响规律。结果显示:当硅酸钠模数为1.0,建筑垃圾/矿渣重量比为0.5,水胶比为0.26,硅酸钠用量为10%时,地聚合物综合性能最佳:初凝时间65min;7d(28d)抗压强度33.3MPa(45.6MPa);7d(28d)抗折强度6.0MPa(4.5MPa)。SEM分析显示建筑垃圾包覆在地聚合物材料中,界面结合紧密。 相似文献
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从单个供应商和单个零售商组成的二级服装供应链出发,研究供应商不提供和提供回购契约时供应链整体和各参与成员的效益变化情况;根据供应链中零售商地位的不同,分别研究了Stackelberg博弈模型和Nash协商均衡博弈模型的回购契约。通过算例的数值计算,验证了当供应商提供Nash协商均衡博弈模型的回购契约时,供应链的效益会得到最合理的提升。 相似文献
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利用恒电位聚合法合成了1,4-二乙氧基苯(DEB)与3,4-亚乙基二氧噻吩(EDOT)的共聚物。单体浓度为DEB 0.1 mol·L-1,EDOT 0.01 mol·L-1,溶液为乙腈,四丁基高氯酸铵(TBAP)为支持电解质。研究不同电位下聚合的共聚物的电化学性能。并用扫描电子显微镜观察了共聚物在ITO玻璃上的成膜情况。结果表明EDOT的加入可提高DEB的电化学活性以及在ITO玻璃电极上的成膜性能。荧光光谱显示出共聚物在402 nm和530 nm有较强的发射峰,说明EDOT的加入成功调节了聚1,4-二乙氧基苯(PDEB)的发光波长(399 nm)。 相似文献
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采用Hummers法制备了氧化石墨烯(GO)。X射线衍射(XRD)、红外光谱和拉曼光谱等表征结果表明,产物成分较纯且含有较多的活性基团;将其超声分散在邻苯二甲酸丁苄酯中,采用拉伸和粘接性能测试研究其对聚硫胶力学性能的影响。结果表明,随氧化石墨烯含量增加,拉伸强度和粘接强度先增后减;加入0.2 phr氧化石墨烯增强效果最为显著,拉伸强度由1.71MPa提高到2.12MPa,粘接强度由1.06MPa提高到1.29MPa,断裂伸长率变化较小。 相似文献
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以添加表面活性剂的水为溶剂,采用溶剂混合法制备纳米 Al2 O3填充聚四氟乙烯(PTFE)复合材料,研究其力学性能和摩擦学性能,并与乙醇中分别制备纳米 Al2 O3填充 PTFE 复合材料进行比较。结果表明:在相同 Al2 O3填充比例下,水中制备的复合材料的拉伸强度和硬度要低于乙醇中制备的复合材料,而断裂伸长率却要高于乙醇中制备的复合材料。在200 N 和干摩擦条件下,当纳米 Al2 O3质量分数为1%~5%时,水中制备的复合材料的磨耗量要低于乙醇中制备的复合材料,并较纯 PTFE 磨耗量下降了1~2个数量级;且水中制备的复合材料的摩擦因数也要低于乙醇中制备的复合材料。复合材料磨痕处 SEM显示复合材料的磨损机制为黏着磨损和磨粒磨损。 相似文献
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聚合物基阻尼材料研究进展 总被引:18,自引:0,他引:18
阻尼材料广泛应用于交通工具、产业机械、建筑土木、家用电器、精密仪器和军事装备等领域的减振降噪.聚合物是一类传统的阻尼材料,当其受到外部交变应力时,通过高分子链内部或链之间的内摩擦将机械能转化为热能而消耗,从而达到减振降噪的目的.阐述了聚合物材料的阻尼机理与阻尼结构,介绍了几种常用的阻尼改性方法,综述了国内外互穿网络(IPN)结构、导电压电型阻尼、有机杂化等新型聚合物基阻尼材料的研究现状,并展望了聚合物基阻尼材料研究的发展趋势和前景. 相似文献
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以硝酸钴、硝酸铝为原料,NaOH或尿素为沉淀剂,采用共沉淀法制备纳米钴蓝。考察了Co/Al摩尔比、沉淀剂种类和煅烧温度等因素对纳米钻蓝呈色性能影响,采用包括可见光分度计等多种方法表征了纳米钴蓝的结构及形貌特征及纳米钴蓝色度值。研究结果表明:(1)煅烧温度为1000℃时,当Co/Al摩尔比从1∶3升至1∶1,钴蓝颜色从蓝色依次向蓝绿色、暗绿色转变,同时,以NaOH为沉淀剂制备的钴蓝其亮度比以尿素为沉淀剂制备的钴蓝高;(2)以NaOH为沉淀剂,Co/Al摩尔比为1∶3时,当煅烧温度为900℃,钴蓝呈蓝绿色,当煅烧温度为1000-1100℃,钴蓝呈蓝色;(3)钴蓝不同制备工艺会改变钴d电子层状态,导致钴蓝呈现不同颜色,最终优化工艺制备的纳米钴蓝粒径为45-65nm,呈尖晶石型晶体结构,色度值为CIE(35.86,-12.63,-34.83)。 相似文献