一种液晶显示器高可靠性光学模组设计

光学模组是液晶显示器的重要组成部分,本文介绍了光学模组中各种光学膜的结构及功能,提出了一种高可靠性光学模组设计方法,试验测试表明,此方法显著增强了液晶显示器光学模组的可靠性。     

SiO2/Si膜厚标准样品校准相调制型光谱椭偏仪研究

椭圆偏振仪(或简称椭偏仪)在薄膜研究领域应用广泛.文章主要研究了相调制型光谱椭偏仪光路准直及参数优化过程,并通过硅上二氧化硅膜厚标准样品测量及数据拟合处理对光谱椭圆偏振仪进行校准.经过光路准直调整和参数优化后的椭圆偏振仪测量膜厚标准样品,拟合测量数据并将显示测量厚度值与标准样品厚度值比较,测量值在不确定范围内.     

不同(001)晶面暴露比例的锐钛矿二氧化钛的可控合成研究

使用P25(Degussa)二氧化钛作为钛源,二乙醇胺作为形貌控制剂,通过两步水热法制备了含有不同比例的高能(001)晶面的锐钛矿二氧化钛。实验探究了水热温度、二乙醇胺的用量对产物(001)晶面暴露比例的影响。用X-射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)对所制备含有不同比例(001)晶面产物的物相和形貌进行表征分析,计算了不同产物含有的(001)晶面的比例。实验结果表明,二乙醇胺的用量对(001)晶面的暴露比例有很大影响,增加二乙醇胺的用量,产物的(001)面增多。通过控制反应中二乙醇胺的用量,制备出(001)晶面暴露比例为15%~80%的产物。     

纳米尺度HfO_2薄膜的光谱椭偏模型建立

为了建立厚度为1 nm左右HfO_2超薄膜的光谱椭偏测量方法,采用掠入射X射线反射技术进行国家/地区实验室间比对认证,其膜厚准确量值作为参比值,建立了HfO_2超薄膜的光谱椭偏结构拟合模型。研究了HfO_2超薄膜的光谱椭偏色散模型和拟合参数,最后确定了拟合色散模型为Tauc-Lorentz 3,拟合光谱范围为3.45~4.35 eV,表面污染层孔隙比例为60:40。     

聚合物分子量测量方法研究进展

聚合物材料的性质对其分子量及分子量分布有着很强的依赖性,因此对二者进行准确测量具有重要意义。本文分别归纳总结了测量聚合物重均、数均、黏均分子量的一些常规技术,阐述了其测量技术原理及测量过程中进行的如仪器校准、选择最优测量方法等可保证测量准确性的程序,特别强调了这些过程中对不同分子量标准物质的需求。     

集成数控（INC）系统模式研究及实践

1.DNC系统概述 随着计算机技术的发展与应用的普及,在数控(NC)工艺中采用计算机与数控机床组成直接数控系统(DNC)已被广泛采用,目前国外生产的数控机床中,已不再设置普通的NC系统,只设置伺服控制驱     

PC机上数控加工应用软件二次开发探讨

本文简述了PC机上数控软件二次开发重要性，笔者根据自己开发软件实践与体会，介绍了引进的美国Esprit-X11数控加工软件二次开发设计思想，系统结构，应注意事项，对加工回转体零件软件二次开发具有一定的参考意义。     

330MW氢冷发电机氢气置换耗时计算

针对电厂氢冷发电机氢气置换操作所需时间都长短不一且差别很大的现状,以华能济宁运河电厂330MW氢冷发电机为例,分充氢、升氢压、排氢等三个阶段阐述一种氢冷发电机氢气置换耗时计算方法,可以有效指导电厂对氢冷发电机氢气置换的实际操作,减少安全隐患。     

Visual Basic在数控“钻群孔”中的应用

本文论述了管板数控工程序的编制、设计思想及主要功能。