镁合金铸锭质量控制技术

镁合金的熔炼有许多特点,它直接关系到熔体和铸锭质量.结合近年来镁合金熔铸方面的研究进展,介绍了镁合金熔炼的工艺技术,以及通过变质处理改善和提高镁合金铸锭质量的主要方法.     

轻型羽绒服防钻绒方法研究

轻型羽绒服兼具了保暖、轻便、时尚等多重性能,以轻型羽绒服的钻绒问题作为切入点,调研了当前轻型羽绒服的缝制工艺,分析了含绒量、面辅料及制作工艺对轻型羽绒服防钻绒性的影响,从面料结构设计、缝制工艺、充绒工艺及缝制手法等方面给出了轻型羽绒服防钻绒的措施。     

彩色等离子显示器的特征和前景

介绍在当前等离子体显示工业中，显示器采用的主要结构和目前达到的性能，指出制作低成本的高密度障壁和改进流明效率，是今后等离子体显示发展中有解决的问题。     

槽栅MOSFET's的阈值电压解析模型

给出了槽栅MOSFET的阈值电压解析模型,该模型反映了器件的阈值电压随不同结构和工艺参数变化的规律.分析和对比结果显示,该模型较好地表征了小尺寸槽栅器件的阈值电压特性,是一个较为理想的解析模型     

基于Ajax技术的远程教育系统研究

远程教育系统主要是针对成人教育中学生与教师相互分离、工学矛盾突出的特点而开发的。由于网速等原因在学生的管理和学习过程中经常出现异常,为了提高访问速度,确保数据正确无误,采用基于Ajax技术的DWR和Struts相结合的框架,实现浏览器与服务器的异步通讯,当页面上的少部分内容更新时不再需要传输整个页面的HTML,降低网络数据传输量,缓解网络压力。该系统已投入使用,运行良好,显著提高了学生的学习效率和管理质量。     

保护膜制备参数对其性能影响的实验研究

以电子束蒸发法制得的ＭｇＯ保护膜为例,对保护膜制备参数,例如基板温度、沉积速率等 对保护膜表面结晶结构、形貌及成分等基本特性的影响进行了研究,为保护膜制备工艺的优化提供了指导。     

凹槽拐角对深亚微米槽栅PMOSFET特性的影响

为优化槽栅器件结构 ,提高槽栅 MOSFET的性能和可靠性 ,文中用器件仿真软件对凹槽拐角对深亚微米槽栅 PMOSFET的特性影响进行了研究。研究结果表明凹槽拐角强烈影响器件的特性 :随着凹槽拐角的增大 ,阈值电压上升 ,电流驱动能力提高 ,而热载流子效应大大减弱 ,抗热载流子性能增强 ,热载流子可靠性获得提高 ;但凹槽拐角过大时 (例如 90°) ,器件特性变化有所不同     

AC PDP保持保护膜的制备方法

本文分析了ＡＣＰＤＰ保护膜对制备方法的特殊要求，描述了各种制备方法的优缺点，介绍了几种最后发展起来的新方法。提出了几种适用于ＡＣ ＰＤＰ保护膜制备的方法。     

AC PDP介质保护膜材料的选择

随着对交流等离子体显示板电压变化原因的探讨，新型表面保护材料的开发研究以及为除去污染而对制造工艺的调整，ＡＣＰＤＰ正在获得极好寿命特性。介质保护膜直接与放电气体相接触，其材料和表面状况是决定ＡＣＰＤＰ寿命及放电性的重要因素，因而保护膜材料的选择尤为重要。     

基于CPSO的无线传感器网络路由优化

研究无线传感器网络路由优化问题,由于无线传感器节点的能量受到限制,通信过程能量损耗,影响网络的性能。传统粒子群算法难以获得最优网络路由方案。为延长网络生存时间,结合粒子群的快速性和混沌的遍历性优点,提出了一种混沌粒子群(CPSO)的无线网络路由优化方法。通过粒子群算法的自组织、动态寻优能力,并通过混沌机制对粒子群进行混沌扰动,增加多样性,加快最优路由优化速度,使网络最优路由和能量消耗间尽量平衡。仿真结果表明,相对于传统优化算法,CPSO提高了无线传感器网络路由优化速度,减少网络能量消耗,有效延长了网络生存时间,为提高整个网络通信效率提供了参考。