光学薄膜消偏振技术及进展

光线倾斜入射时,膜层不可避免地会产生偏振效应。对于大部分实际应用,此现象带来的是系统性能的劣变,必须予以消除或减少。光学薄膜的消偏振是一个非常棘手的薄膜设计问题,目前仍然缺乏一种普遍适用的一般性方法。许多论文曾致力于这一问题的研究,文章较全面地叙述了这一领域研究过程中所提出的方法,包括单波长和宽波段的消偏振技术研究的现状和进展。这些方法可以在一定条件一定程度上取得比较好的消偏振效果,具有比较重要的理论意义。     

一种立方棱镜带通滤光片的设计

提出了低偏振分离的立方棱镜带通滤光片的设计方法。为减小光在立方棱镜中s、p偏振光的偏振分离,采用三种材料来构成带通滤光片的反射镜,并采用不同折射率排列的反射镜结构构成嵌入式的多个带通滤光片,既提高了s、p偏振光的通带透射率,又减小了s、p偏振光在通带中的偏振分离和偏振位相差。通过改变反射镜的基本周期数和滤光片的周期数,可以调节滤光片的通带宽度和截止度,经膜厚优化,得到满意的设计结果。     

磁光存储多层膜系统的光学与热分析方法

采用光学转移矩阵法计算激光照射下磁光存储多层膜的磁光及光学响应，光强分布及焦耳热损失分布，再用有限元方法求解在这种多层膜中的热传导方程，从而得到激光照射下多层膜系统中的温度场分布，这种方法可用于磁光光盘的光学与热学设计。     

（英）退火温度对电子束蒸发沉积硅薄膜结构和光学性能的影响

系统研究了退火温度对硅薄膜结构和光学性能的影响。通过电子束蒸发工艺制备硅薄膜,然后在氮气保护下对薄膜样品在200~500°C范围内进行退火处理。使用XRD、拉曼光谱、电子自旋共振和透射光谱测量等方法对薄膜样品进行了表征。结果显示,随着退火温度的升高,非晶硅薄膜结构有序度在短程和中程范围内得到改善,同时缺陷密度显著降低-。当样品在400°C退火后,消光系数k由6.14×10^-3下降到最小值1.02×10~3(1000 nm),这是由于此时硅薄膜缺陷密度也降到最低,约为沉积态薄膜的五分之一。试验结果表明,硅薄膜在适当的温度下退火可以有效地降低近红外区膜层的光学吸收,这对硅薄膜在光学薄膜器件研制中具有重要应用。     

云南北方驰宏光电有限公司

<正>超高纯二氧化锗、区熔锗、锗毛坯非球面镜片、高精度光学元器件、各种材料口径整流罩、高精度对样板连续变焦红外光学镜头,30mm～90mm,F/1.0;37.5 mm～150mm,F/1.2;50mm～200mm,F/1.0;25mm～100mm,F/1.0;25mm～75mm,F/1.0系列化温度自适应红外光学镜头,典型的为f6.3mm、fl9mm、f21mm、f25mm、f45mm、f50mm f75mm f 100mm系列化红外双视场镜头,典型的有f45mm/f 135mm F/1.0,f90mm/f 180mm F/1.0红外显微镜、镜头倍率有1倍、3倍、5倍、10倍高性能     

AEE先电技术公司宣布其高性能压敏胶带已成功推向市场

近日，亚洲首屈一指的光学薄膜、特种胶带及高性能技术薄膜制造商AEE先电技术公司宣布采用威格斯APTIV^TM薄膜的高性能压敏胶带产品（Pressure Senstative Tape）已成功推向市场。     

卤钨灯

052391 光学薄膜在照明领域的应用[刊]，052392 舞台影视卤钨光源的改进[刊]，052393 气体压力与卤钨循环原理推论[刊]，052394 防爆高压单端卤素灯泡[专利]。     

CO2 激光辐照下光学薄膜的热畸变研究

采用夏克- 哈特曼波前传感器对不同基底材料、不同厚度单层光学薄膜以及不同膜系 的多层光学薄膜样品在10. 6μm激光辐照下的热畸变进行了实验研究。     

新型光学薄膜研究及发展现状

综述了近年来国内外在新型光学薄膜如高强度激光膜、金刚石及类金刚石膜、软X射线多层膜、太阳能选择性吸收膜和光通信用光学膜的制备及其在器件方面的研究和应用情况，并对光学薄膜的研究进行了展望。     

Damage Mechanism of Optical Films by High—power Laser

From several models about damage mechanis,the damage mecanism of optical films and the factors which affect the damage threshold are described experi-mentally and theoretically.Some reasonable proposals are given is this paper on how to select the high-threshold fimls.