全文获取类型
收费全文 | 70篇 |
免费 | 1篇 |
国内免费 | 2篇 |
专业分类
电工技术 | 2篇 |
综合类 | 5篇 |
化学工业 | 4篇 |
金属工艺 | 28篇 |
机械仪表 | 7篇 |
建筑科学 | 4篇 |
矿业工程 | 1篇 |
能源动力 | 1篇 |
轻工业 | 3篇 |
水利工程 | 1篇 |
石油天然气 | 1篇 |
无线电 | 3篇 |
一般工业技术 | 11篇 |
冶金工业 | 2篇 |
出版年
2023年 | 1篇 |
2022年 | 1篇 |
2021年 | 3篇 |
2019年 | 1篇 |
2018年 | 6篇 |
2016年 | 1篇 |
2015年 | 3篇 |
2014年 | 3篇 |
2013年 | 2篇 |
2012年 | 3篇 |
2011年 | 5篇 |
2010年 | 2篇 |
2009年 | 6篇 |
2008年 | 2篇 |
2007年 | 2篇 |
2006年 | 2篇 |
2005年 | 4篇 |
2004年 | 7篇 |
2003年 | 10篇 |
2002年 | 1篇 |
2001年 | 3篇 |
1997年 | 1篇 |
1995年 | 1篇 |
1994年 | 1篇 |
1989年 | 1篇 |
1981年 | 1篇 |
排序方式: 共有73条查询结果,搜索用时 531 毫秒
31.
32.
33.
在纯钼表面进行包埋Si-B共渗,研究B改性MoSi2涂层的结构及其在600℃下的氧化行为。利用XRD,EDS,WDS分析涂层的相组成和结构,并结合热力学计算分析涂层的组织形成。结果表明:采用16Si-4B-4NaF-76Al2O3渗剂在1100~1400℃下可制备Si-B共渗涂层,涂层由外向内可分为五层:最外层MoSi2,次外层MoSi2+MoB,第三层Mo5Si3,第四层MoB和最内层Mo2B;涂层主体为MoSi2,渗入的B在与基体反应形成Mo-B化合物层的同时,还在MoSi2中形成MoB相;涂层的生长以Si,B原子向内扩散为主;在600℃氧化时涂层中的B向表面扩散并氧化生成B2O3。 相似文献
34.
35.
36.
37.
研究了亚临界热处理对16Cr-2.5Mn高铬白口铁组织转变和性能的影响,并利用TEM、SEM、XRD和M200磨损试验机分析了其硬化机制和对耐磨性的影响.研究表明:过饱和奥氏体中固溶的Cr和C在亚临界热处理时会以(Cr,Fe)23C6形式析出,残余奥氏体发生了马氏体相变,使合金产生二次硬化;亚临界热处理中,保温时间过长,将导致(Cr,Fe)23C6向M3C原位转变发生,基体组织发生珠光体转变,导致硬度和耐磨性能不同程度降低;残余奥氏体含量为10%左右时,合金获得最高硬度和最佳耐磨性能. 相似文献
38.
Pd基光学氢敏感薄膜材料是光学氢敏感薄膜材料最为重要的一类,主要包括Pd,Pd/Ni合金,Pd/WO3,Pd/MoO3,Pd/TiOx,Pd/MoS2等薄膜材料。本文从这类薄膜材料的制备、性能及应用方面,对Pd基光学氢敏感薄膜材料的研究进展作了详细的论述。目前Pd基光学氢敏感薄膜材料的制备主要还是应用溅射法。在所有钯基氢敏感材料中以Pd膜的性能最佳,但是由于在应用过程中存在Pd膜出现表面起泡、层错和钯膜与载体结合能力下降等缺陷,因此Pd/Ni合金,Pd/WO3,Pd/MoO3,Pd/TiOx,Pd/MoS2等薄膜材料相继被开发。但目前上述薄膜材料在研究和应用中仍然存在许多问题,本文在论述中分别提出了上述材料目前研究中存在的问题以及今后的发展方向。 相似文献
39.
高铬白口铸铁耐磨性和显微组织的关系 总被引:6,自引:2,他引:6
研究了高铬白口铸铁亚临界热处理后耐磨性和显微组织的关系。结果表明,高铬铸铁在亚临界热处理过程中C和Cr以M23C6型二次碳化物的形式析出,导致奥氏体Ms点升高,使其在冷却时发生马氏体转变。马氏体的高硬度改善了合金耐磨性。合金耐磨性和合金组织中残留奥氏体含量具有相互对应关系,本试验中此含量为10%左右。当残留奥氏体含量低于10%时,由于(Fe,Cr)23C6发生向M3C型碳化物的原位转变,相应的组织转变为珠光体,导致耐磨性急剧下降。 相似文献
40.
铸造烧结VC-Fe基表面复合材料耐磨性研究 总被引:4,自引:1,他引:4
结利用对比试验,运用扫描电子显微镜、能谱仪和XRD等手段对VC-Fe基表面复合材料的耐磨性做了初步的分析研究,结果表明,V含量、VC颗粒形状及分布对表合材料耐磨性有明显的影响,含V量越高,VC颗粒越规则,近似球形并均匀分布的铁基复合材料具有良好的耐磨性。 相似文献