空间的催化——天津“星耀五洲”改造札记

正设计单位天作建筑建筑师张伶伶、蔡新冬、陈磐、巴音布拉格、钟兆康地点天津津南设计/2018年/竣工/2020年业主融创中国华北区域集团设计团队侯旭龙、张民意、白晓伟(城市设计);李辰琦(彩门意向);郑勇(景观);郑治、郭昌锋(结构)基地面积规划总用地面积273.3 hm~2改造完成用地面积4.7 hm~2规划总建筑面积393.8万m~2结构形式五彩门:无铰钢架结构1整体与局部2020年"五一"劳动节,位于区域入口湖面的"五彩门"竣工,标志着2018年     

基于解析分区法设计闪耀全息凹面光栅

研究了制备闪耀凹面光栅的离子束刻蚀工艺,提出了用“解析分区法”设计闪耀凹面光栅的衍射效率.该方法能通过确定离子束入射角,在实验前定量给出平行离子束刻蚀后光栅衍射效率的设计结果.经过理论设计计算出所需波长衍射效率较高的凹面闪耀光栅中心闪耀角,利用刻蚀模拟软件BLAZING计算出离子束刻蚀参数及光刻胶掩模参数;以计算结果为依据,利用全息-离子束刻蚀工艺制作出尺寸为45 mm×40 mm2,曲率半径为224 mm的凹面闪耀光栅,其中心闪耀角约为9.21°,峰值衍射效率为54.8％@300 nm,250 nm处衍射效率为50％,与“解析分区法”计算结果符合较好.实验结果表明,利用“解析分区法”进行凹面闪耀光栅衍射效率设计的方法简单易行,能够有效指导平行离子束刻蚀闪耀凹面光栅工艺,完成高衍射效率凹面闪耀光栅的制作.     

10.6μm激光器一级输出高衍射效率闪耀光栅的研制

建立了实际刻划光栅的物理模型,给出了相应的衍射效率表达式,并研制出了在Littrow安装下一级衍射效率达到97．2％的大功率10．6μm红外激光器用反射式闪耀光栅。实际刻划光栅通常都存在零级面,采用傅里叶分析方法可以推导出计算带有零级面的闪耀光栅衍射效率的一般表达式,由理论分析可知,零级面是造成闪耀光栅衍射效率下降的原因之一。在工艺过程中．通过加大刻划负载使零级面减小,加大侧向压力强化对闪耀面的抛光等,是提高光栅刻槽质量和衍射效率的有效途径。     

响应面试验优化紫薯皮色素提取工艺及其稳定性分析

通过Box-Behnken试验设计和响应面分析法,对紫薯皮色素的提取条件进行了优化,并且研究了各种物理及化学因素对紫薯皮色素稳定性的影响。结果,得出最佳提取条件为：酸醇体积比1∶1（0.5%柠檬酸酸化）、料液比1∶60（g/mL）、提取温度50 ℃、提取时间20 min。在此优化方案条件下,理论吸光度预测值为0.843,实际吸光度为0.838。紫薯皮色素的稳定性研究结果显示：日光暴晒条件下光稳定性比较差,自然光和避光条件下,稳定性良好;4～60 ℃的温度范围内具有非常好的热稳定性;紫薯皮色素在含有K＋、Ca2＋、Na＋、Zn2＋等金属离子的溶液中表现比较稳定的状态,在含有Mg2＋、Cu2＋、Mn2＋、Fe3＋等金属离子的溶液中产生沉淀;酸性条件有利于紫薯皮色素的稳定性,而碱性条件不利于紫薯皮色素的稳定性;最大安全使用范围内,紫薯皮色素稳定性几乎不会受到苯甲酸、山梨酸等一系列常用食品添加剂溶液的影响,可作为食品着色剂。     

The compensability between the longitudinal and transverse mismachining tolerance of grating in the optical pick-up head

In this paper numeric analysis is made to the influence of the longitudinal mismachining tolerance (LMT)and the transverse mismachining tolerance (TMT) of the grating in the optical pick-up head (GOPH) of VCD, DVD, and CD-ROM on the transmissivity and the intensity ratio of the auxiliary light beam to the main read-write light beam (IRAM) by using the general expression of diffraction efficiency obtained from the scalar diffraction theory. On solving GOPH problem, the scalar diffraction theory and the vector diffraction theory are coincident, and the scalar diffraction theory is reliable. The result shows that LMT and TMT can compensate for the inverse effect of IRAM, however, at the expense of reducing transmissivity. As far as GOPH is concerned, the goodness that LMT and TMT can be effectively compensated for is very advantageous in manufacturing of the grating.     

高职高专计算机课程教学方法探讨

正确理解案例教学法、分层次教学法两种教学法可谓是近几年来教学方法研讨的热点。本文对两种教学法在高职高专计算机课程教学的应用进行了详细的探讨。     

光谱宽度与光束截面因子对平面光栅衍射效率测量的影响

为了进一步提高平面光栅衍射效率测试仪的测量精度,分析了影响平面光栅衍射效率测量值的主要因素。根据平面光栅相对衍射效率测量原理,提出光束截面因子的概念并推导出了平面光栅光束截面因子k(θ)的解析表达式。进一步分析了影响衍射效率测量值的因素(光谱宽度与光束截面因子),并结合衍射效率测量值定义了两个用于回归分析的自变量。针对作为因变量的理论值与所定义自变量之间存在的非线性关系,提出了采用二次完全式回归分析的数学方法,进而建立了提高衍射效率测量精度的修正公式。结果表明:对平面光栅衍射效率测量值进行修正后,修正值与理论值之间的误差可控制在±0.5%以内,提高了衍射效率的测量精度,改进了衍射效率测试仪的整机性能。     

闪耀全息光栅离子束刻蚀工艺模拟及实验验证

依据特征曲线法推导了非晶体表面的离子束刻蚀模拟方程,结合全息光栅的刻蚀特点开发出离子束刻蚀模拟程序,并通过实验数据分析并优化了非晶体材料刻蚀速率与离子束入射角的关系方程,最后利用离子束刻蚀实验对所开发的离子束刻蚀模拟程序进行了实验验证.调节掩模与基底材料的刻蚀速率比为2∶1至1∶2,制作了线密度为1 200 1/mm,闪耀角为～8.6°,非闪耀角为34°～98°的4种闪耀光栅,与刻蚀模拟程序的结果进行对比,模拟误差＜5％;控制离子束刻蚀时间为6～14 min,制作了线密度为1 200 1/mm,闪耀角为～8.6°,顶角平台横向尺寸为0～211 nm的6种光栅,与刻蚀模拟程序的模拟结果进行对比,模拟误差＜1％.比较实验及离子束刻蚀模拟结果表明,离子束刻蚀模拟程序获得的模拟刻蚀轮廓曲线与实际刻蚀轮廓曲线的误差＜5％;模拟刻蚀截止点与实际刻蚀截止点误差＜1％.实验表明,提出的模拟方程可以准确地描述不同工艺过程和工艺参数对最终刻蚀结果的影响,进而可预知和控制离子束刻蚀过程.     

入湖水量对艾比湖生态环境的影响

入湖水量的大小决定了艾比湖水面面积的大小，湖面面积的变化直接影响到湖滨植被、气候、土壤、湖泊水质的变化，入湖水量是艾比湖生态环境变化的核心。