氮转化功能菌在有氧条件下脱氮效果的研究

本文研究了具有反硝化功能的菌群和铜绿菌种、具有硝化功能的菌群在有氧条件下除氮的效果,结果表明:硝化菌群有明显去除氨氮的作用;反硝化菌群对硝态氮的去除效果很明显,铜绿菌其次;亚硝酸盐是三个反应体系中的中间产物,然而其生成量显著低于体系中其它氮素的含量。在填料密度为20%时的总氮去除效果显著高于填料密度为10%时的效果。由水体p H值的变化表明:反硝化和铜绿菌体系存在着有氧条件下以反硝化生物反应为主导。     

溅射沉积HfON∶Tb薄膜的光致发光

用直流溅射法沉积了HfON∶Tb薄膜. 对样品在空气中进行了不同温度的退火处理. 用荧光光谱仪测试了样品的光致发光,在可见光区域观测到了强的发光峰. 发现随着样品退火温度的变化,不同位置发光峰的强度有明显不同变化，并有微弱的蓝移. 分析了发光机理,得出可见光区的发光是由于Tb离子产生的. 发光峰的强度和Tb离子的浓度有关系，在达到一定值以后会发生浓度淬灭效应.     

对比于HfO2薄膜的HfOxNy-HfO2-HfOxNy三明治堆叠的退火影响

对比研究了HfOxNy-HfO2-HfOxNy 三明治堆叠（标示为SS）薄膜和HfO2 薄膜在退火处理中的表现。AFM 形貌显示SS样品拥有更高的结晶温度和更好的表面形貌;FTIR 谱显示SS样品在退货过程中的界面氧化相对较轻;SS样品在退火过程中的驰豫和频散相对较小。 因此, SS 结构在热处理过程中,显示了比HfO2更优良的性质。同时PDA退火可以使样品的有效轨道电子迁移率和应力诱导电流得到改善。     

HfOxNy栅介质薄膜的电学特性

用直流溅射方法制备了HfOxNy薄膜,对其电学特性和导电机理进行了研究.实验结果表明,引入铪缓冲层并在氮气中退火有助于改善电学性能.研究了薄膜在电场下的漏电机理,发现在负向低电场下I-V特性遵从欧姆规律,在中强电场下导电机制遵从空间电荷限制电流理论.     

HfOxNy的场发射特性

用直流溅射和高温退火相结合的方法制备了HfOxNy薄膜并测试了其场发射性能,发现其具有较低的开启电场、较大的发射电流密度以及很好的发射稳定性.高压"锻炼"对提高HfOxNy场发射性能起着关键作用,这与高压"锻炼"下薄膜内部结构和表面性质的改变有关.对场发射机理的研究表明,HfOxNy的场发射符合经典的FN隧穿理论.