C轴择优取向ZnO薄膜的溅射工艺与结构研究

通过改变直流磁控反应溅射法的工艺条件,同时在玻璃和Si(100)、Si(111)两种硅基底上制备了ZnO薄膜。用x射线衍射方法(xRD和xRC)对薄膜结构性能进行测试表明,这些基底上生长的ZnO薄膜都得到了明显的c轴择优取向和较高的结晶度,硅基底上的薄膜结构性能普遍好于玻璃基底上淀积的薄膜。并对溅射工艺与结构的关系进行了分析。     

ZnO系薄膜对NOx气体的气敏光透射特性

用射频磁控溅射方法制备了纯氧化锌（ＺｎＯ）薄膜和掺Ａｇ、掺Ｐｔ与掺Ｐｄ的ＺｎＯ三种气敏光学薄膜。测量了这些薄膜在ＮＯｘ气体中的透射光谱,然后由透射光谱获得了灵敏度的变化规律,并用吸附平衡关系式解释了气敏光透射特性,最终优化得到一种对ＮＯｘ气体灵敏度高的掺Ａｇ氧化锌薄膜。     

帮助毁灭、伪造证据刑事责任的司法界分与立法完善

我国在行为主体、法益评价、刑罚配置等方面对帮助毁灭、伪造证据刑事责任作了立法切分。司法工作人员犯帮助毁灭、伪造证据罪从重处罚,不应以利用职务便利为必要条件。司法工作人员实施帮助毁灭、伪造证据行为构成徇私枉法罪,不应以利用具体职务便利为限。司法工作人员、辩护人、诉讼代理人、一般人员共同实施帮助毁灭、伪造证据行为的,可以根据罪刑相适应原则和共同犯罪原理,分为5种情形区别处理。未来立法在凸显对辩护人、诉讼代理人、司法工作人员从严处罚之刑事政策基础上,应当弱化一般人员与辩护人、诉讼代理人、司法工作人员实施帮助毁灭、伪造证据行为的责任差异。     

不同基底上SiO2薄膜的显微结构和力学性能

用电子束蒸发技术在K9玻璃及两种不同取向的钇铝石榴石(Y₃Al₅O₁₂, 简称YAG)晶体上沉积了SiO₂薄膜, 采用X射线衍射仪和纳米划痕仪对薄膜显微结构和力学性能进行了研究。实验结果表明: 薄膜在K9 、YAG(100) 和YAG(111)基底上分别呈现非晶态和多晶态; 沉积在不同基底上的薄膜的弹性模量并无明显差异; SiO₂薄膜在K9和YAG基底上呈现不同的划痕破坏模式, 并且YAG晶体上薄膜的粘附失效临界附着力远远小于SiO₂薄膜与K9基底的附着力。本文从薄膜的结构和弹性模量两方面分析解释了不同基底上薄膜的力学行为。     

倾斜沉积制备雕塑薄膜的研究进展

倾斜沉积是一种新型的薄膜沉积技术.通过制备过程中基片的旋转和倾斜,可以制备出斜柱状、之字形、螺旋状、S形以及C形等各种形状的雕塑薄膜.雕塑薄膜可以实现许多传统薄膜无法实现的光学性质,为光学薄膜的设计与制备开辟了新的途径.本文综述了雕塑薄膜的制备方法,分析了雕塑薄膜的结构特征及影响因素,并阐述了其在光学领域的广泛应用前景.     

光学薄膜元件的激光预处理技术

激光预处理技术作为一种提高激光约束核聚变装置中光学元件损伤阈值的有效方法,有重要的使用价值和学术价值。介绍了激光预处理的研究现状,重点介绍了小光斑光栅扫描预处理的方法及其应用,以及应注意的问题。讨论了几种被广泛认可的预处理增强机理,并对激光预处理技术进行了展望。