掺镍碳气凝胶的特性研究

以间苯二酚-甲醛为原料,添加水溶性镍盐,利用溶胶-凝胶法制备了具有纳米多孔结构的掺镍碳气凝胶.通过X射线衍射及透射电镜表征了掺镍碳气凝胶的结构.用比表面积测试及孔径分布测试等手段研究了碳气凝胶的多孔特性,研究表明纯碳气凝胶的比表面积为487.3m2/g,掺杂后提高到593.3m2/g.掺镍碳气凝胶的电导率比未掺杂样品有很大的提高.     

纳米孔超级绝热材料气凝胶的制备与热学特性

以正硅酸四乙酯(TEOS)为硅源，通过溶胶–凝胶及超临界干燥过程制备了SiO2气凝胶. 同时，采用相对廉价的多聚硅(E–40)为硅源，以三甲基氯硅烷(TMCS)为表面修饰剂，硅油为干燥介质, 在常压条件下制备了同样具有纳米多孔结构的SiO2气凝胶. 用透射电镜、扫描电镜及孔径分布仪对其结构进行了表征，并用动态热线法对其热学特性进行了测试. 结果表明: 两种方法制备的气凝胶均是典型的纳米孔超级绝热材料，后者热导率略高但成本低许多，所以更具应用推广潜力.     

SiO2气凝胶柔性保温隔热薄膜

由SiO2气凝胶、聚酰亚胺和镀铝层(SiO2／PI／Al)组成的柔性多层薄膜具有很好的保温隔热特性和广泛的应用前景。采用溶胶-凝胶方法制备的SiO2气凝胶具有很高的气孔率和很低的体积密度，尝试了在溶胶-凝胶过程申先酸性后碱性的二步法催化．使孔洞率提高到97％，体积密度降低为50kg／m^3，成为优秀的保温隔热的主体材料。选择柔性耐温隔热的聚酰亚胺作为骨架材料，并用真空蒸发镀制上金属铝膜与多孔SiO2气凝胶复合成保温隔热薄膜。当薄膜叠加到10层时其保温隔热效果可提高5倍。     

水玻璃为源的超疏水型SiO2气凝胶块体制备与表征

采用廉价的水玻璃为硅源,通过乙醇溶剂替换及六甲基二硅醚和盐酸混合液对湿凝胶的表面基团改性,常压干燥出疏水介孔的SiO2气凝胶块体。制得的SiO2气凝胶块体具有超疏水性,在0～400℃附近,疏水角约155°～130°,其密度为80～200 mg/cm3,比表面积为568 m2/g,孔体积为2.9cm3/g,其室温下的热导率为0.026W/（m K）。     

热氧化处理对铋薄膜光学性能的影响

对通过蒸发获得的金属铋薄膜经加热氧化处理并与直接蒸发氧化铋获得的薄膜比较和进行光学性能测量，发现都能获得β相氧化铋薄膜。但是由于热氧化与蒸发的过程或速率不同，出现化学计量偏离，薄膜结构和光学性能变化。热氧化不够或低速率蒸发形成薄膜富铋，出现无定型或其它相结构，光学吸收限变宽，移向低能处。过氧化则会使薄膜富氧，同样使结构变化，吸收限变宽而向高能方向移动。实验表明蒸发金属铋薄膜然后经３５０℃，３小时热氧化是比较合适的制备氧化铋薄膜的条件。     

热氧化处理对铋薄膜光学性能的影响

对通过蒸发获得的金属铋薄膜经热氧化处理并与直接蒸发氧化铋获得的薄膜比较和进行不学性能测量，发现都能获得β相氧化铋薄膜。     

等离子体聚合有机硅（HMDSN）薄膜及其特性研究

等离子体聚合有机化合物六甲基二硅胺烷（HMDSN）讨论了等离子体聚合有机硅薄膜聚合过程和有关机理，在高频等离子体聚合系统中合成的聚合条件是高频电源功率为100V，频率为5.4Hz，用电感偶合到真空放电管，氩（Ar)气和有机硅单体的比例为1：2。有机硅热玻璃基片上的聚合速率为2.5-5nm/min。聚合薄膜无色透明，折射率1.1；介电常数3.2；窠质损耗正切0.04，随温度而变化，电阻率为10^14Ω.cm。用红外吸收光谱检测表明薄膜分支少，聚合度高。     

全固态电致色灵巧窗材料

回顾了以WO_3为核心的Li离子导体全固态灵巧窗的结构和性能及其实用性。并着重讨论了WO_3电致色膜,有机和无机Li离子导体和反电极材料的特性。还介绍了全固态电致色灵巧窗的研究现状及其发展趋势。     

二氧化钼薄膜的结构和电致色性质的热处理效应

本文用真空热蒸发方法在Ｉｎ２Ｏ３导电玻璃上制备了ＭｏＯ３薄膜，并在１００～４００℃的空气环境中将薄膜进行了热处理．分别用ＳＥＭ、ＸＲＤ观察了薄膜的表面形貌，分析了薄膜的微观结构，用二电极和标准三电极电化学方法测量了薄膜的Ｔ—Ｑ关系和Ｉ—ｔ曲线．分析了热处理温度对薄膜的结构和电致色性质的影响以及致色的动力学机制，并讨论了薄膜的致色机理．     

溶胶凝胶制备纳米多孔SiO2光学增透薄膜耐磨特性强化研究

在溶胶－凝胶基础上,采用碱／酸两步法和浸渍镀膜技术制备出纳米多孔SiO2薄膜,并将该薄膜在空气和氨气与水蒸气的混合气体中热处理。使用透射电子显微镜、原子力显微镜、傅立叶红外光谱仪、椭偏仪、分光光度计等分析了薄膜的特性。实验结果表明：采用碱／酸两步催化法能够明显提高纳米多孔SiO2光学增透薄膜的力学特性,混合气体中的热处理又使其力学性能得到进一步改善。薄膜耐磨等力学性能增强归因于SiO2颗粒间更多的化学键合。在力学性能增强的同时,薄膜折射率仍保持约1．24的较低值,光学增透效果良好,透射率≥99．5％。