低熔点Sn-Ag无铅钎料力学性能回归分析

首次运用Matlsb回归分析的方法研究不同成分的无铅钎料的力学性能,从而得到成分与相关力学性能的定量关系,为拟订科学合适无铅钎料配方提供可靠的理论指导.     

Fe基合金薄带磁畴结构的磁力显微镜观察

采用单辊快焠法制备Fe_(73.3)Cu_1Nb_3Si_(13.5)B_9非晶合金薄带,经550℃自由退火和171 MPa张应力退火处理,利用磁力显微镜(MFM)观察了自由退火和应力退火薄带表面磁畴结构及横断面介观结构。结果表明,自由退火样品具有均匀分布的纳米晶粒及易磁化方向随机分布的迷宫畴,应力退火样品具有方向优势的颗粒团聚及易磁化轴在面内的带状畴,这两种磁畴结构的形成可能与晶粒的晶化行为密切相关。     

纳米高温耐磨复合涂层的性能研究

利用纳米材料高的比表面能和表面活性开发电站高温耐磨涂料。试验在普通粉料FM650中添加纳米材料制成涂料，对涂层的结合强度、耐磨性和热震性分别进行了试验。结果表明：FM650涂层的结合强度从2.90MPa提高到了3.49MPa采用单面涂层降低气孔的影响则涂层强度从6.26MPa提高到了10.43MPa；耐磨性和致密性均有很大提高；纳米Al2O3/SiO2的加入改善了涂层与钢的膨胀系数匹配程度，不经低温80℃/150℃处理涂层仍具有良好的耐热震性能。     

基于投资单元的国际油气勘探开发规划及实践

基于投资单元的油气勘探开发规划方法能够较好地适应国际业务的需要,国际油气勘探开发规划应当考虑与国内业务不同的特点。通过引入投资单元,可以较好地识别和刻画油气资源投资机会。对投资单元进行统一参数下增量法的前瞻性经济评价,然后利用经济评价结果分类进行投资组合优化,能够实现在投资规模约束下的投资效率最大化。实践证明,通过以上分类和优化方法,既可以鼓励下属企业实现资源价值的最大化,也有利于实行决策门限管理体系,切实做到长远规划和年度投资安排的有机结合。     

人工快速渗滤系统处理含盐生活污水可行性初探

将人工快速渗滤系统(CRI)应用于处理含盐生活污水,考察了不同进水盐度下CRI系统的运行效果及脱氮微生物的空间分布特征。结果表明,进水盐度(NaCl的质量分数)在0.75%及以下时,COD、NH_4+-N去除效果受盐度影响较小,去除率分别保持在83%、90%以上;进水盐度在0.5%及以下时,CRI系统对TN的去除率较不含盐时提高7~12.9个百分点,盐度对反硝化细菌的抑制作用强于硝化细菌、对亚硝酸盐氧化菌(NOB)的抑制作用强于氨氧化菌(AOB);进水盐度对TP的去除影响不大,这与CRI系统除磷过程主要依靠填料吸附和化学沉淀有关。初步证明了采用CRI系统处理盐度在0.5%及以下的生活污水是可行的,该盐度还可作为CRI系统实现短程硝化的理想盐度。     

铝合金搅拌摩擦焊焊核紊流区及性能分析

采用搅拌摩擦焊方法对2219-T6铝合金进行焊接,对焊接接头的宏观形貌、微观组织、抗拉强度进行了分析,并通过对焊核塑性金属的流动状态进行分析,研究了搅拌摩擦焊接头强度弱化的原因. 结果表明,焊核根据流态可分为3个不同的区域,其中靠前进侧存在一个性能薄弱的B区域,该区的产生是抽吸挤压作用不平衡的结果,也是塑性金属向上回流通道. 该区具有较大的塑性损伤,易产生疏松缺陷及界面突变,晶粒具有较大的热不稳定性,是造成接头强度低于母材的主要原因之一. 通过高温短时的再结晶热处理工艺可以恢复该区域的强韧性,消除弱化问题.     

焊接工艺对22mm壁厚X80管道环焊缝冲击韧性的影响

为了优化22 mm壁厚X80管道施工中环焊缝焊接工艺,采用管线铺设过程中常用的自保护药芯焊丝半自动焊接工艺,研究了不同焊接热输入及焊道排列对焊缝组织和冲击韧性的影响。结果显示,在所研究的热输入范围内,焊道排列对焊缝组织和冲击韧性影响不大;焊接热输入在16 k J/cm以上时,焊缝金属的冲击韧性急剧下降;焊接热输入在10 k J/cm时,焊缝金属的冲击韧性波动较大;热输入在12~15 k J/cm时,焊缝金属的冲击性能最佳。研究表明,X80自保护药芯焊丝对焊接热输入较为敏感,采用12~15 k J/cm的热输入施焊,可确保焊缝金属的冲击韧性满足工程技术要求,此时焊道排列对焊缝金属的冲击韧性无影响。     

依法治企 人和企兴

多年来,云南省个旧供电局针对电力行业的特点,始终把法制教育放在重要位置来抓。做到把法制化管理作为企业管理的重要手段,在把握时效性、注重准确性、突出针对性、增强灵活性上下功夫,形成了一整套依法治企的特色方法,有效地预防了案件事故的发生,确保了滇南电网的安全、稳定运行。     

快速预热处理对大直径CZ-Si中FPDs及清洁区的影响

研究了不同气氛下快速预热处理(RTA)后,硅片中的流动图形缺陷(FPDs)密度和随后两步热处理形成的魔幻清洁区(MDZ)之间的关系.硅片经过高温快速预热处理后,再经过800℃(4h)+1000℃(16h)常规退火,以形成MDZ.研究发现,当硅片在Ar气氛或N2/O2(9%)混合气氛下RTA预处理后,FPDs密度较低,随后热处理出现的氧沉淀诱生缺陷密度较高、清洁区较宽.对于N2/O2混和气氛,随着O2含量的增加,FPDs和氧沉淀诱生缺陷密度变小,纯O2气氛下预处理后硅片中FPDs和氧沉淀诱生缺陷密度最低.因此,可以通过调节N2/O2混合气氛中两种气氛的比例来控制空洞型微缺陷和硅片体内氧沉淀诱生缺陷的密度.