TiO2与MnCl2对Mg合金旧料组织性能的影响

测试了含有不同量的TiO2或MnCl2的熔剂对Mg合金废旧料的力学性能、组织、断口形貌以及腐蚀行为的影响．结果表明，TiO2和MnCl2均可以降低Mg合金废旧料中的Fe含量，TiO2的除Fle效果可达0．0053％以下，优于MnCl2的效果．通过降低Fe量可以提高试样的σb和δ，MnCl2的效果优于TiO2．采用含30％TiO2或MnCl2的熔剂对Mg合金废旧料进行净化处理后，其σb和δ可分别大于185．3MPa和3．71％，即达到了AZ91Mg合金新料的性能指标．研究还表明，Ti02或MnCl2加入量一定时，均可以提高Mg合金的耐蚀性．但当熔剂中MnCl2的含量高于30％时，Mg合金的耐蚀性反而下降．Ti02有助于使γ相成粒状或小岛状析出，并具有很好的细化晶粒的效果．     

固溶处理对消失模铸造B319合金组织及力学性能的影响

研究了固溶处理对消失模铸造B319合金析出相及力学性能的影响。结果表明,在495℃下,随着固溶时间的延长,小部分Al2Cu相会发生相断裂,并溶入Al基体中;固溶温度升高到510℃后,随着固溶时间的增加,Al2Cu相断裂及溶入Al基体中的速度明显加快;495℃或510℃下固溶处理24h,α-Fe、β-Fe相几乎没有变化;但在530℃下固溶处理16h,β相会发生断裂,且数量减少;固溶处理24h后,β-Fe相几乎消失,但α-Fe没有发生明显变化。消失模铸造慢冷条件下,B319合金采用495℃及520℃二步固溶热处理,有利于获得较佳的力学性能。     

消失模铸造AZ91镁合金组织及耐蚀性研究

通过采用金相分析、能谱分析、电子万能材料试验机、腐蚀失重法、极化测试及交流阻抗分析等手段,研究了消失模铸造AZ91镁合金的组织、力学性能及腐蚀行为,并与普通砂型铸造及金属型铸造方法进行了比较.研究结果表明,消失模铸造镁合金组织除了粗大的α相与β相外,还出现了球状的Al-Mn-Fe三元相,造成消失铸造镁合金的力学性能及耐蚀性能低于砂型铸造及金属型铸造.本试验条件下,消失模铸造AZ91合金的抗拉强度及伸长率分别为135.6MPa与1.4%.失重法测得的消失模铸造AZ91镁合金的腐蚀速率为0.64 mg/(cm2·d),为金属型铸造的2.2倍.极化曲线及交流阻抗等电化学研究表明,铸造工艺对镁合金的腐蚀行为有明显影响,消失模铸造镁合金的自腐蚀电位较低,但自腐蚀电流密度较大,分别为-1.577V与1.39×10-5Amp/cm2.     

镁合金负压消失模铸造充型过程的研究

镁合金负压消失模铸造充型过程的直接观察实验的结果表明 ,不抽真空时 ,金属前沿呈微凸形平缓地向前推进 ;抽真空时 ,因在模样分解产物的排除方向上存在一正的压力梯度 ,金属液优先沿模样壁充填型腔使流动形态呈不规则的凹形形态。提高真空度 ,不规则的流动形态的凹度更大且充型时间明显缩短。浇注方式对流动形态和充型时间的影响不大 ,与顶注和侧注相比 ,底注时充型过程最为平稳 ,且其充型时间最长。根据试验结果 ,建立了镁合金负压消失模铸造充型过程的模型     

Effects of RE on microstructure and properties of AZ91 magnesium alloy

1　ＩＮＴＲＯＤＵＣＴＩＯＮＭａｇｎｅｓｉｕｍａｌｌｏｙｓａｒｅｏｎｅｏｆｔｈｅｌｉｇｈｔｅｓｔｓｔｒｕｃ ｔｕｒａｌａｌｌｏｙｓ,ｗｈｉｃｈｈａｖｅｉｎｃｏｍｐａｒａｂｌｅｒａｔｉｏｏｆｓｔｒｅｎｇｔｈｔｏｍａｓｓ.Ｉｎｒｅｃｅｎｔｙｅａｒｓ,ｒｅｓｅａｒｃｈａｎｄｄｅｖｅｌ ｏｐｍｅｎｔｏｆｍａｇｎｅｓｉｕｍａｌｌｏｙｓｈａｖｅｂｅｅｎｇｒｅａｔｌｙ ｐｒｏ ｍｏｔｅｄｂｙｔｈｅｌｉｇｈｔｗｅｉｇｈｔｒｅｑｕｉｒｅｍｅｎｔｉｎａｕｔｏｍｏｂｉｌｅｉｎｄｕｓｔｒｙ .Ｈｏｗｅｖｅｒｔｈｅｉｒｃｏｍｍｅｒ…     

Be和Ca对 Mg-9Al-0.5Zn合金表面氧化行为的影响

镁合金熔炼时会发生剧烈的燃烧,因此必须采取有效的措施对其加以保护,合金化阻燃是一种理想的阻燃方法。从热力学角度对镁合金元素氧化方式的差异作出了解释,并采用统一的氧化模分析了两种化膜的形成过程。研究结果表明,添加少量的Ｂｅ或Ｃａ可以提高Ｍｇ－９Ａｌ－０．５Ｚｎ合金的燃点。但是,两种合金中基体元素Ｍｇ与合金元素Ｂｅ和Ｃａ的氧化方式并不相同。加入Ｂｅ后,Ｍｇ发生外氧化,Ｂｅ发生内氧化,加入Ｃａ后,Ｃａ发     

基于FPGA的LED显示屏非均匀度校正方法北大核心CSCD

发光二极管(light emitting diode, LED)显示图像的非均匀度是衡量LED显示屏质量的重要指标。LED显示模块在拼接过程中会出现灰度畸变,造成显示图像的非均匀度过高。根据理论分析LED显示图像的灰度矩阵,得到了在一个模块内只有一个像素点时的校正矩阵。给出了基于FPGA的Look-Up Table技术的非均匀度校正的设计方法及系统构成。实现了在FPGA内部进行非均匀度校正的功能,并且在QuartusⅡ进行了仿真,理论和仿真结果表明:采用该校正方法可有效降低LED显示图像的非均匀度。