双面打印也要追求一步到位

由于工作的需要,办公室的小秦经常要进行双面打印的操作。苦恼的是激光打印机并不支持双面打印,因此每次只能选择"手动双面打印",一面打印结束之后,必须将1、3、5、7…等奇数页重新排序,也就是说将1放在最下面,最大的奇数页放在最上面,然后再继     

为酷我列表打造强力保险箱

很多时候,由于收听习惯的问题,我们需要将酷我音乐的播放列表保存下来,生成一个歌曲单方便用户以后收藏或向其他朋友分享。在播放器中手工导出虽然可行,但显然比较麻烦。其实,我们可以将酷我的播放列表保存在云端,这样不仅可以在PC端、笔记本端、智能手机、平板电脑等不同的设备直接从云端调用播放列表,而且还可以根据实际情况还原不同版本。要使用这一功能,首先请从主菜单下打开设置窗口,切换     

手工清理Windows Live Messenger的动态更新

使用Windows Live Messenger的用户会发现,自己所有更新的动态都会在"我自己"选项卡中显示出来,但如果以前写过泄露自己隐私的信息,在公共场合登录时     

KCaPO4:Tb3+绿色荧光粉的发光特性

采用高温固相法合成了KCaPO4:Tb3+绿色荧光粉,并研究了材料的发光性质.KCaPO4:Tb什材料呈多峰发射,发射峰为437、490、545、587和623nm,分别对应Tb3+的5D3→F4和5D4→FJ=615,4,3跃迁发射,主峰为545nm;监测545nm发射峰,所得激发光谱由4f7 5d1宽带吸收(200...     

行业协同商业模式存忧 运营商试点紧扣三大诉求

若运营商及产业链各方,能达成一个协议、使用一个标准、具有一个共识,这样朝一个方向前进,对所有各方均有利。     

Eu^2＋在KCaPO4中的发光及晶体学格位

采用高温固相法制备了KCaPO4：Eu^2＋蓝绿色荧光粉,研究了材料的发光特性。在400 nm近紫外光激发下,材料呈非对称的单峰发射,主峰位于487 nm。监测487 nm发射峰,对应的激发光谱覆盖300-450 nm,说明材料能够很好的吸收紫外-近紫外光,发射蓝绿色光。利用van Uitert公式计算了Eu^2＋取代...     

药型罩参数对周向MEFP成型的影响

采用ANSYS/LSDYNA有限元软件数值模拟研究了药型罩参数对周向MEFP成型的影响.通过对成型后的集群EFP性能统计分析,得到药型罩曲率半径、壁厚和口径对周向MEFP成型性能的影响规律和参数之间的合理匹配关系.结果表明,在爆炸载荷作用下,周向MEFP装药形成的中间层EFP速度明显大于边缘上下层EFP速度;而且当药型...     

Openstack Trove与沃云数据库即服务对比

Trove作为Openstack的数据库即服务组件,致力于实现高可用的资源隔离和数据库实例管理工作。文章对Openstack Trove和沃云数据库即服务平台的架构、组件及功能进行了全面综述,对Openstack Trove和沃云数据库即服务平台在数据库实例管理、元数据管理、备份功能等方面的差异进行对比,并指出Openstack Trove和沃云数据库即服务平台的演进趋势。     

新型移动互联网流量差异化集中计费架构及技术研究

引入新型移动互联网流量差异化集中计费方式,采用网络旁路方式,对用户上网内容采集、进行差异化标识,并集中在一点批价计费,实现基于特定应用、特定APN及特定时间段等流量差异化集中计费,为用户提供更透明、简单和易于理解的计费方式,给运营商带来更灵活的流量经营策略,为内容提供商创造有益的竞争环境。同时,通过集中计费处理方式,有效降低投资和维护成本。     

因瓦合金纳米抛光材料去除机理的分子动力学模拟∗

因瓦合金作为一种独特的低膨胀材料已广泛用于航空航天等高科技领域,但目前还鲜有对其超精密加工理论和技术的研究,而纳米抛光是因瓦合金超精密加工的一种重要手段。 针对纳米抛光过程中因瓦合金的材料去除机理,基于分子动力学模拟研究抛光速度对材料去除效率、亚表面损伤和抛光表面平整度的影响。 通过对磨屑、能量、抛光力、位错运动等方面的分析揭示因瓦合金的变形损伤机制。 研究结果表明:材料去除效率随着抛光速度将达到一个临界值,当抛光速度低于 100 m/ s 时,磨削热促使位错形核,亚表面损伤厚度增加;当抛光速度高于 100 m/ s 时,应变速率急剧增大导致位错运动受限,使得亚表面损伤厚度得以降低。 为实现因瓦合金高效率和低损伤加工机制提供理论依据和技术支持。