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6种光稳定剂对那他霉素抗光解的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
[目的]那他霉素作为抗真菌剂具有广谱、高效、安全、不易获得抗性的优点,但其在紫外光下容易降解的弱点限制了它在田间的应用,通过添加光稳定剂可提高它的光稳定性.[方法]以水为药剂和光稳定剂的载体,采用抑菌圈法和盆栽法测定光稳定剂对药剂稳定性的影响.[结果]紫外吸收剂UV-234、UV-531、UV-1164和光屏蔽剂SiO2有抑制那他霉素光解的作用,其中紫外吸收剂的效果优于SiO2,在一定时间内可显著抑制光解;自由基捕获剂T-123和抗氧剂1010没有任何作用;30 mg/L那他霉素分别与3种紫外吸收剂(3 g/L)混用防治番茄灰霉病的效果可达72.9%~78.1%,而单用30 g/L那他霉素的防效仅为35.2%.[结论]适宜的紫外吸收剂可显著提高那他霉素的光稳定性,提高防治番茄灰霉病的效果. 相似文献
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采用等离子体增强化学气相沉积法制备了不同硼掺杂比的P型a-Si:H系列薄膜。研究了硼掺杂比对P型a-Si:H薄膜微结构和光/电学性能的影响;同时,对最优掺杂比下的P型a-Si:H薄膜进行了真空退火处理,以研究薄膜晶体结构的改变对其光/电学性能的影响。结果表明:随着硼掺杂比的增加,P型a-Si:H薄膜的非晶结构没有实质改变,但其光学带隙及电学性能均有明显变化,总结出最佳硼掺杂比为1.0%。经真空退火处理后,P型a-Si:H薄膜的有序程度明显提高,光学带隙从1.81eV降低到1.72eV,电导率提高3个数量级。薄膜的晶体结构比硼掺杂量对薄膜电学性能的改善更为显著。 相似文献
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