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51.
高速切削是近十年来迅速崛起的一项先进制造技术,由于其突出的优点,已在航空航天、汽车工业、模具制造和其他制造业得到了越来越广泛的应用,取得了重大的技术与经济效益.本文对其应用进行了论述,并就其安全技术问题进行了探讨.  相似文献   
52.
溢流阀是液压系统中的压力控制元件,其动态性能与其结构参数有很大关系。本文利用控制系统理论,将溢流阀看成为一控制系统,通过建立液压系统压力与系统流量的关系模型,推导其动态刚度函数,以提高溢流阀的动态刚度为目标,借助于MATLAB的优化工具箱进行结构参数优化。  相似文献   
53.
在分析巨型多向模锻水压机控制系统组成及基本原理的基础上,利用故障树分析方法建立了控制系统的故障树模型,并计算了系统的平均无故障时间(MTBF),针对可靠性较薄弱环节,提出了改进控制系统结构、增加重要子系统冗余度的措施,以求较大程度的提高控制系统的可靠性,从而确保水压机的安全可靠运行.  相似文献   
54.
十种基于颜色特征图像检索算法的比较和分析   总被引:47,自引:0,他引:47  
在基于内容的图像检索中,颜色特征已得到广泛应用.本文对十种利用颜色特征进行图像检索的算法利用同一图像库进行了实验比较.实验结果表明,无论在HSI空间或MTM空间,累加直方图法均优于一般直方图法,对这一点本文还首次给出了严格的理论证明.实验结果还表明,加权距离法比欧氏距离法总体上没有明显改善,MTM空间比HSI空间也没有显出优势,而中心矩法算法简单,检索速度快,通过调整加权系数,检索精度可以接近累加直方图法.本文的实验和分析对选择和优化检索算法有一定的参考价值.  相似文献   
55.
采用等离子体增强原子层沉积技术分别以Ni(amd)2、Ni(dad)2为镍、碳前驱体,氢等离子体为还原剂成功沉积了碳化镍薄膜。两个沉积过程中,碳化镍薄膜厚度都随着反应循环次数的增加而线性增加。利用石英微晶天平技术对碳化镍薄膜的沉积过程进行了原位在线测量。初步提出碳化镍薄膜的沉积机理,其中由等离子体作用产生的氢原子对沉积过程有重要作用。一方面,在等离子体中原子氢与Ni(amd)2或Ni(dad)2发生化学反应,生成Ni、挥发性的N-叔丁基乙酰胺盐和碳氢化合物,这些镍在镍表面上有吸附和分解的趋势。此外,原子氢对吸附的碳氢化合物脱氢生成碳化镍和大量碳物种具有促进作用。另一方面,预计它还会刻蚀碳化镍表面的无定形碳和石墨,或者将碳化镍分解成具有催化活性的金属镍。  相似文献   
56.
利用颜色特征进行图象检索   总被引:2,自引:0,他引:2  
在基于内容的图象检索中,颜色作为图象的一种重要视觉信息,已得到广泛应用。对利用颜色特征进行图象检索中的三个关键问题:颜色的表示,颜色特征的提取和基于颜色的相似度量进行了讨论。在此基础上,介绍了利用颜色特征进行了图象检索的具体实例。  相似文献   
57.
通过与常规单小车桥式起重机的对比,介绍了全自动双小车集装箱岸桥的结构特点,提出了在岸桥结构设计时应注意的事项,同时对岸桥技术参数进行了优化分析,得出了一些重要的技术参数.  相似文献   
58.
钼添加量对硬质合金组织和性能的影响   总被引:2,自引:0,他引:2  
刘忠伟  刘宁 《热处理》2009,24(2):44-47
研究了钼添加量对硬质合金组织和力学性能的影响。结果表明,添加适量的钼能提高硬质合金的硬度和抗弯强度,但钼的添加却降低硬质合金的断裂韧性。  相似文献   
59.
采用23kHz脉冲电源,以六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单体,氧气为反应气体,氩气为辅助气体,利用平行板式电容耦合等离子增强化学气相沉积装置在PET基底上制备高阻隔无机氧化硅薄膜.通过等离子发射光谱及四极杆质谱仪的实时在线诊断,对等离子体中的中间产物及活性物种进行检测.沉积薄膜的化学结构采用傅里叶变换红外光谱仪进行分析,同时测量了所制备薄膜的透氧率.结果表明,随着氧气含量的增加,等离子体中的碳氢化合物及氧化物含量增加,这说明,此时等离子体中存在较强的碳氢化学反应及氧化反应.在氧气含量较高时,薄膜有机成分较少,属于无机氧化硅薄膜.薄膜透氧率测量显示,在氧气与单体比率为50%时达到最小值1.71cc·m-2·day-1·atm-1.  相似文献   
60.
In this study, argon and nitrogen were used as the discharge gases in radio-frequency (RF: 13.56 MHz) powered dielectric barrier atmospheric plasma. It was noticed that in single dielectric barrier discharge (DBD) with nitrogen as the discharge gas, or in argon plasma with a high applied power, micro-filament channels were easily formed. The channels in these two kinds of discharge were both constrictive on the bare metallic electrode and expansive on the opposite electrode covered with a quartz layer. The number of micro-channels was increased along with the input power, which caused the change in the I-V curve shape, i.e., the current kept increasing and the voltage fluctuated within a confined range. With double dielectric layers, however, no micro-channels appeared in the ICCD images, and the I-V curve demonstrated a totally different shape. It was assumed that micro-filaments exhibited a restraining effect on the discharge voltage. The mechanism of this restraining effect was explored in this work.  相似文献   
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