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51.
影响并发程序复杂性的最重要因素是任务之间的通讯和同步行为。我们认为这些行为表现为Ada程序中的会合和会合之间的关系。在这项系列研究里,我们要考察Ada程序中的会合、会合之间的关系和关系的分类,深入研究会合接续和嵌套关系,为接续关系引入接续图,为嵌套关系引入嵌套树,并给出构造这些图和树的方法和它们的一些性质。最后,我们建议Ada程序P的并发复杂性CC(P)是接续复杂性SC(P)的嵌套复杂性NC(P)的加权和;SC(P)是可从Ada程序正文静态识别的会合关系构成的诸会合接续图的边数之和,NC(P)是诸嵌套树的加权节点数之和。文中还给出若干可静态断言程序死锁的充分条件。本文第一部分讨论Ada会合、会合关系和会合关系的分类。 相似文献
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53.
走上成功之路──全省建材工业工作会议侧评成功,是人皆所望,通向成功有其必由之路,这路可能曲折坎坷,亦可能笔直平坦,只是世上确有其路,人若获得成功,必先走上成功之路。一个资源优势产业,如何成为经济优势产业,走上成为全省支柱产业的成功之路,这是近期召开的... 相似文献
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56.
57.
采用光电化学方法对纯铁在pH=8.4的硼酸-硼砂缓冲液中的孔蚀现象及缓蚀剂PC-604的作用进行了研究。结果表明,加入不同量的缓蚀剂后,铁表面钝化膜的禁带宽度没有发生变化,但是光电流信号却随缓蚀剂量的增加而增大了。从光电流暂态谱的研究中首次提出了钝化膜的膜参数的概念,并用以衡量钝化膜的抗孔蚀能力。 相似文献
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(Ti,Al)N涂层的微观组织和性能 总被引:3,自引:1,他引:3
采用EPMA、XRD、SEM、TEM、HR-TEM、EDX、纳米压痕、氧化实验和切削实验研究了磁控溅射在硬质合金基体上沉积TiN涂层和(Ti,Al)N涂层的微观组织结构和性能。结果表明:TiN涂层晶粒为喇叭口柱状晶,(Ti,Al)N涂层为面心立方平直柱状晶,由于固溶了Al元素,(Ti,A l)N涂层呈(200)面择优生长;(Ti,Al)N涂层在硬质合金基体上无外延生长;(Ti,Al)N涂层在800℃氧化后形成Al2O3/TiO2/(Ti,Al)N的分层结构;(Ti,Al)N涂层具有更高的硬度和更好的切削性能。 相似文献
59.
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正一大波有关"智能"的话题和产品"来袭"。3月初,让全行业瞩目的中国家电及消费电子博览会(A W E)还未正式拉开帷幕,各个企业接二连三的产品发布已经让"智能"变得炙手可热。虽然各个企业推出的新品各不相同,但不约而同都以"智能"为发布主题。除此之外,在AWE期间以及AWE开幕前两天,企业的多场发布会也均以"智能"为主打。毫无疑问,各大企业在AWE展出的产品,"智能"将占据最"耀眼"的位置。加之AWE推出的智能主题馆以及AWE主办方举办的两场以"智能"为话题的研讨会(中国家电互联网发展战略论坛和中国智 相似文献