新型光刻技术研究进展

集成电路光刻作为传统光刻技术的典型代表，支撑着集成电路芯片的快速发展。新一代光刻技术具有工艺多样化、光刻精度高、光刻效率高的优点，在研发新型光电子器件、实现3维微纳结构、构建有序纳米孔通道等方面有很大的潜力。回顾了近些年来涌现的多种新型光刻技术，分析了各自的特征及在新型纳米电子、光子器件、能源、传感等领域中的应用。对未来光刻技术的发展方向进行了展望。     

超快激光在纳米溶液中的超连续光丝光谱技术

为了产生宽谱带超连续白光光谱，将飞秒激光聚焦到纳米溶液中形成光丝，最终产生出400～950 nm的超连续白光光谱。采用集成CCD的显微镜装置对伴随光丝的气泡进行拍摄，并研究了气泡定向运动的规律。计算表明，气泡的运动速度可以达到0.16 m/s，这表明水流也可以达到相应的速度。这种由光丝导致的高速水流，可对微流控技术的研究起到积极的作用。     

分层反压注射成型厚壁光学透镜的工艺分析

为了研究反压压力对成型厚壁光学透镜的影响，利用自行开发的分层反压注射成型厚壁光学透镜的实验方案，通过正交实验优化设计开展了工艺参数优化实验，研究了在不同分层方式下内外层反压压力对对厚壁光学透镜光学性能的影响，从而根据正交优化参数组合成型具有优异光学性能的理想厚壁光学透镜。 正交实验研究结果表明，使用聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）为厚壁光学透镜的原材料进行分层反压注射成型，能够有效减少厚壁光学透镜收缩率，同时随着内外层反压压力的提高，厚壁光学透镜的透光率和折射率均不同程度的得到提高，透镜光学性能优异。     

B2O3-K2O-Sb2O3系统玻璃的光学折射率及带隙

高折射率和非线性光学玻璃可以用于高速光开关、光学存储器、新型光纤和光学运算元件等，其研究受到各国科技工作者的高度重视，本文采用熔融淬冷法制备了组成为(85-x)B₂O₃-15K₂O-xSb₂O₃(x=70, 75, 80, 85)的4组玻璃，测试了玻璃样品的密度、折射率、热学性能、拉曼光谱和吸收光谱，利用玻璃样品的吸收光谱计算了其直接允许光学带隙、间接允许光学带隙及Urbach能量。结果表明：随着Sb₂O₃含量的增加，玻璃样品的密度从4.445g/cm³逐渐增加到4.767g/cm³，折射率从1.9438增加到2.0058，玻璃转变温度从291℃降低到260℃，玻璃析晶温度从463℃降低到370℃，直接光学带隙从3.2775eV降低到3.1379eV，间接光学带隙从3.1444eV降低到3.0256eV，Urbach能量从0.137eV逐渐减小到0.107eV。说明Sb₂O₃-K₂O-B₂O₃系统玻璃可以作为新型的非线性光学玻璃候选材料之一。     

大口径光学元件装夹转运结构设计及分析

为了实现大口径光学元件的安全装夹、转运,通过光学元件开槽与不开槽两种装夹方式的分析,得出开槽夹紧转运方式将带来微裂纹、应力集中、成本高等缺陷,提出了利用摩擦力克服光学零件的重力和惯性力的低应力装夹转运方案。通过对光学元件低应力夹紧结构设计,并利用有限元分析方法,得到不开槽装夹方式下,光学元件的最大主应力为1.11 MPa,最大切应力为0.73 MPa,远低于光学元件破坏的强度极限,且受力均匀,无应力集中现象。     

投稿须知

《光电子·激光》是反映中国光学(光子学)和光电子学领域优秀研究成果的全国性核心学术期刊;由天津理工大学和中国光学学会主办;国内外公开发行。感谢您对本刊的关注和投稿。1征稿内容征集在当前国际背景下,具有创新性和先进性,能在某一方面反映我国光学-光子学-光电子学的最新发展,并未曾公开发表过的学术论文、研究快报(通信)等形式的重要研究成果。     

飞行时间质谱和高性能电子学控制技术

飞行时间质量分离器是飞行时间质谱仪的主要组成部分。飞行时间质谱（TOF MS）具有分析质量范围宽、分析速度快、仪器结构简单等优点，但离子初始动能和初始位置容易分散是影响其分辨率的核心因素。本综述根据本课题组多年的研制经验，着重介绍离子束垂直引入方式的反射式有栅网飞行时间质谱的离子光学以及相关电子学控制的核心技术原理。离子光学核心技术涉及到离子加速场和离子反射场的机械加工控制和精密装配控制等，电子学控制核心技术主要包括高压电源和高压脉冲电源的精密制作。