涂层工艺对聚碳酸亚乙酯载药涂层性能和体外释放动力学的影响

为了考察不同涂层工艺对冠脉支架涂层的影响,分别采用手动浸涂和自动超声喷涂法在316L不锈钢冠脉支架基体表面制备含雷帕霉素的聚碳酸亚乙酯(PEC)涂层。首先对PEC进行了凝胶渗透色谱(GPC)、差示扫描量热(DSC)以及拉伸实验测试,初步证明其物理化学性质适合作支架可降解涂层材料。然后用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、接触角测定仪、球囊扩张法等对涂层表面的形貌、亲水性以及涂层和支架基体的结合力进行分析,并在PBS(pH=7.4)模拟体液中测试上述两种工艺方法制备的药物洗脱支架体外药物释放动力学曲线。结果表明,上述两种方法制备的药物涂层在微观结构、亲水性以及与支架的结合力方面存在一定差异,药物释放速率和释放趋势也有所不同,超声喷涂法制备的药物洗脱支架释放速率和释放趋势较稳定。     

“十五”863特种功能材料技术主题成果

1：12型稀土铁氮新材料体系、新型烯烃聚合催化剂、磷酸铁锂等新型正极材料、二氧化碳共聚物的工业化合成、超分子插层无机功能材料5项原创性成果在国际上产生重要影响；稀土永磁材料、锂离子电池、片式元器件、镀膜玻璃、稀土发光材料、催化技术应用等领域突破多项关键技术，引导、促进形成6个年产值达数十亿元的大型新材料产业集团，特种功能材料走出了一条以自主创新带动产业发展的新道路。     

纳米科技--21世纪的机遇与挑战

纳米科技是近年来发展迅速、多学科交叉的前沿高科技领域，对人类生产和生活方式特产生广泛而深刻的影响。因此，纳米科技的兴起和发展，将奠定21世纪社会和经济可持续发展的重要基础。钢铁研究总院从事纳米材料的研究开发已有30余年的历史，在纳米金属材料领域已经形成综合优势。全面正确地认识纳米科技，明确未来发展方向，对促进材料科学和材料产业的快速发展至关重要。本文阐述了纳米科技的有关概念和内涵，简要分析了国内外发展态势，介绍了所涉及的主要研究领域，并对今后发展方向和应该着重解决的问题进行了初步讨论。     

复杂拓扑结构光储型微电网黑启动策略

随着微电网大力发展,逐渐形成了结构及控制模式更加复杂的微电网。针对较具推广价值的光储型微电网,研究安全有效的黑启动方案对提高其供电可靠性具有重要意义。在分析具有复杂拓扑的光储型微电网及控制系统的基础上,提出一种基于分层控制的光储型微电网黑启动策略。综合考虑多个储能系统当前状态以选定黑启动主电源,结合光伏发电系统多种运行状态,以网架串行恢复形式进行分层分级黑启动。经仿真验证,所提方法可安全有效地完成复杂拓扑结构的光储型微电网黑启动,为相应实际微网工程黑启动方式提供一定的借鉴意义。     

热处理温度对Cu-In薄膜微观结构的影响

采用电镀工艺制备了CIS太阳能电池的Cu-In预制薄膜,通过分析不同温度热处理后材料结构的变化,研究了Cu-In预制层薄膜的相变规律及其表面特征.实验结果表明:在433K温度下进行热处理后,Cu-In薄膜由单质In及少量Cu11In9构成,此时单质In熔化,凝固后其表面In颗粒长大;当热处理温度高于577K时,在表面富In区发生固液转变,薄膜表面更加致密.随着Cu和In原子相互扩散加剧,Cu11In9最终完全转变为Cu16In9.     

硫化温度对CuInS2吸收层薄膜微结构的影响

采用电沉积-硫化法制备了CuInS2(CIS)薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和能谱仪(EDS)等实验手段对CIS薄膜的晶体结构、形貌和组分进行了表征.结果表明:在500～560℃硫化温度范围内制备的CIS薄膜表面均生成金属性CuxS二元相,后续的KCN刻蚀处理CuxS二元相可去除.硫化温度为540℃制得的CIS薄膜高质量结晶、具有[112]择优取向,适合于制备CIS薄膜太阳能电池吸收层.     

电沉积Ni-20%Fe(质量)磁性合金箔工艺的研究

在硫酸盐-氯化物溶液体系中采用电沉积法制得了光亮Ni-Fe软磁合金箔,研究了n(Ni2 )/n(Fe2 )摩尔比,电流密度,镀液pH,镀液温度对电沉积Ni-Fe合金箔的铁含量的影响规律,确定了最佳工艺条件.验证性实验结果表明,在最佳工艺条件下制备的Ni-Fe合金箔是纳米晶合金,其Ni,Fe含量分别为80.4%(质量)和19.6%(质量).这种合金箔外观平整、致密,具有明显的层状结构,其饱和磁通密度(Ms)为94.23emu/g,剩余磁通密度(Mr)为4.33emu/g,矫顽力(Hc)为5.08Oe.     

工艺因素对氨基磺酸盐镀铟阴极电流效率的影响

对氨基磺酸盐体系镀铟阴极电流效率的影响因素及其规律进行了系统的研究,通过分析镀液pH值、电流密度、镀液温度、添加剂以及电镀时间与阴极电流效率的关系,确定了镀铟最佳工艺参数.结果表明:当pH值为1.8～2.0,电流密度为1.8～2.2 A/dm2,温度为20～30 ℃,胺类添加剂加入量少于0.2g/L,电沉积1min,可以获得银白色的铟镀层,且阴极电流效率达到80%以上.     

Oxidation behavior of single crystal TMS-82＋ superalloy in air

The oxidation behavior of the single crystal Ni-based superalloy TMS-82＋ was studied under cyclic condition at 900 and 1 000℃ for 200 h in air. The oxidation kinetics for the superalloy at both exposure temperatures was explained by the subparabolic relationship. The results show that increasing the exposure temperattire from 900 to 1 000℃, the amounts of α-Al2O3, （Ni, Co）Al2O4 and NiCr2O4 increase, resulting in a higher mass gain. The oxides consist of （Ni, Co）O, CrTaO4, AITaO4, Cr2O3, θ-,_ α-Al2O3 and （Ni, Co）Al2O4 in the specimen at 900 ℃, but NiCr204 spinel forms for the specimen exposed at 1 000℃ except the above mentioned oxides. A continuous α-Al2O3 layer is responsible for a slow growth rate of the scale after an initial rapid oxidation of NiO.