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<正> 一、前言 电子陶瓷薄膜基片的生产,长期以来国内一直采用滚轧法生产。它的生产效率低、成本高、产品质量差,工人劳动条件差(冬夏用电扇吹风),不能满足大生产的要求。 相似文献
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阮世池 《电子科技大学学报(自然科学版)》1998,27(6):605-608
电子探针显微分析法(EPMA)能把试样微区形貌分析与微区成分分析有机地结合起来。利用这一特点,文中对Au/Cr/Bi12GeO20声表面波器件作了显微分析研究,探明了薄膜电极脱落发生在Cr膜与Bi12GeO20基片的界面上。由于Cr膜与基片间是弱的简单附着机制,并且Cr膜承受着强烈的内应力,最终导致薄膜电极脱落。 相似文献
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66.
王洪宇 《电子工业专用设备》2010,39(8):49-51
低温共烧陶瓷技术(Low Temperature Co-fired Ceramic LTCC)是近年来兴起的一种相当令人瞩目的多学科交叉的整合组件技术,广泛用于基板、封装及微波器件等领域。主要介绍当前广泛用于检测混合电路板、LTCC陶瓷基板、PCB裸板故障的飞针测试设备在陶瓷基片测试中的工艺研究。 相似文献
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SiO2抛光液对A1N基片抛光性能的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
针对AlN基片CMP平坦性问题,从pH值、磨料粒度以及磨料的质量分数等方面研究了抛光液参数对抛光效果的影响。通过对AlN基片进行抛光实验,确定pH为10.5~11.5时,采用大粒径、高质量分数纳米SiO2溶胶作为磨料,有利于抛光速率的提高。利用纳米SiO2溶胶、去离子水、pH调节剂和稳定剂自主配制抛光液A,与纯水按质量比1∶5稀释后,在压力1.8MPa、转速60r/min、流速340mL/min条件下,对AlN基片进行抛光,抛光速率为0.5μm/min。抛光1.5h后,AlN基片的表面粗糙度可达28nm,表面无划痕。 相似文献
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本文提出并设计了一种新型的折叠半模基片集成波导(Folded Half-Mode Substrate Integrated Waveguide: FHMSIW)宽带带通滤波器,并给出了FHMSIW上层金属层槽缝式和中间金属层槽缝式宽带滤波器的仿真和测试结果。相对于半模基片集成波导(Half-Mode Substrate Integrated Waveguide: HMSIW)槽缝式滤波器,由双层PCB制作的FHMSIW槽缝式滤波器的尺寸减小了约一半。同时测试结果和仿真结果表明该宽带滤波器具有损耗小、带外抑制好等特性。 相似文献
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叙述了采用精制棉浆粕,生产用于铅酸蓄电池中作为电子迁移介质的棉纤维隔板的纸基的工艺过程和工艺技术条件及主要技术性能。棉纤维隔板原纸是一种疏松多孔,组织均匀,绝缘性和耐腐蚀性好的纸质材料。在生产过程中,原料的洁净度和抄纸匀度对终端产品──棉纤维隔板产生极为重要的影响,孔径和孔率则由打浆工艺和抄纸压榨压力控制。 相似文献