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81.
采用氢火焰气相色谱法(GC-FID)对凝胶洗手液中乙醇含量的测试,验证凝胶洗手液中乙醇含量检测方法的适用性,采用直接法进样,色谱柱为HP-INNOWAX毛细管色谱柱(30 m×0.25 mm,0.25μm),载气为氮气,氢火焰离子化检测器,进样口温度为230℃;检测器温度为250℃;起始温度60℃保持5 min,以40℃/min升温至230℃保持8 min.乙醇含量线性范围在5~20 mg/mL,相关系数r=0.99994,加标回收率在99.6%~101.9%之间. 相似文献
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83.
84.
通过对高温燃烧红外法测煤中全硫结果的准确度和精密度检验,证明该方法完全符合并优于国标法;该方法可作为煤炭中全硫的测定方法。 相似文献
85.
论述了实验室质量体系运行所要求的培训,以及实施的证据和运行有效性的验证,提出了确保实验室质量体系持续有效运行的措施。 相似文献
86.
87.
针对气动矛在土中的面-面接触问题.运用Drucker-Prager屈服准则为判据.将土体视为DP材料,其塑性行为被假定为理想弹塑性.运用有限元分析手段,对气动矛在土中对土的作用加以研究.通过土体的应力、应变来求出气动矛在土中的受力情况;建立气动矛在土中的有限元分析模型.并通过气动矛在土中的实验来验证模型的正确性;同时.可为气动矛的设计优化和性能分析提供可靠的依据。 相似文献
88.
H.S.Sohn J.W.Butterbaugh E.D.Olson J.Diedrick N.P.Lee 《半导体技术》2005,30(4):31-35
铝线条条和硅氧化物通孔刻蚀后,传统上都是使用包含胺,重金属结合剂,表面活性剂及其他成分进行清洗.这些混合剂是用来高效去除刻蚀后残留物的,而不会对硅氧化物介质造成过量的刻蚀,也不会破坏或进一步腐蚀铝.羟胺(许多此类溶解混合物的主要成分)所带来的供应、成本和残留物等问题,促使集成电路制造商寻求可替换的清洗化学试剂. 在集成电路制造的过程中,在只使用硅和硅氧化物的时期,使用浓缩和稀释的酸混合物用来清洗硅晶已有十多年的历史了.但是,当出现了铝或其他金属后,不能使用浓缩酸进行清洗,因为会对金属产生过量的破坏.近来,稀释酸混合物已成功用来高效去除铝线条和硅氧化物通孔刻蚀后的残留物,而不会对氧化物造成过量的刻蚀,也不会破坏或进一步腐蚀铝.稀释酸混合物的特征是含有两种或两种以上的硫磺酸,双氧和氢氟酸.这些化学试剂在当今的IC制造厂很容易得到,并可采用目前的清洗设备,如FSI ZETA 系统,方便地在线混合稀释.在线混合稀释化学试剂可以明显节约成本.一个批量喷雾系统可以同时处理多达100片的200mm晶圆或50片300mm晶圆,提高了产量从而节约了成本.性价比高的铝互连线条的稀释酸刻蚀后清洗已被成功验证并用于生产中. 相似文献
89.
90.
监理工程师(单位)的选择探讨 总被引:1,自引:0,他引:1
分析了业主选择监理工程师(单位)时应考虑的因素,讨论了选择监理工程师(单位)的方式方法,建立了DARE法抉择模型并作工程验证。该模型具有广泛的应用价值。 相似文献