晶体传感器使扫描探测显微技术达到纳米级水平

美国加利福尼亚州的太平洋纳米技术公司（PNI）研制出品体传感器，该产品是高质量扫描探测显微技术（SPM）的关键。在晶体传感器上，图像探测器装在一个小的石英晶体振荡器的共振臂顶端。当成像时，振幅小于0.3nm，探测表面力小于0．3nN（纳牛），这样可确保形成高质量的清晰图像。在PNI的纳米R型和纳米I型扫描探测显微镜中都使用了晶体传感器。     

201Cu不锈钢热轧开裂原因分析

本文利用金相显微镜和扫描电镜对201Cu不锈钢热轧开裂的原因进行了分析，得出连铸坯中存在大型夹杂物是其开裂的主要原因。     

Mn含量对超细晶C-Mn钢显微组织和力学性能的影响

石油压力容器在焊后热处理（PWHT）时存在一些热损失问题，诸如奥氏体不锈钢堆焊中σ相变和2．25Cr-1Mo钢的基本金属和堆焊界面问的碳化物析出等。另外，在诸如高温和高压氢气环境等工作状态发生氢脆。日本制钢所茅野林造等人。通过缺口拉伸试验对压力容器钢中的热脆和氢脆程度进行了测定。通过提高PWHT时的回火参数来降低抗拉强度和断裂延性。用光学显微镜观察拉伸试验试样横截面以检验PWHT后覆盖焊缝中的σ相变，通过对试样的显微组织和断口组织的观察来检验界面处的碳化物析出和氢脆。已经证实因为氢脆导致界面处碳化物层附近堆焊中裂纹穿过奥氏体晶界扩散。     

一种新型Si电子束蒸发器的研制及其应用研究

我们成功地设计出一种新型的Si电子束蒸发器,并将它应用于Ge/Si(111)量子点的生长.由于采用悬臂式设计,它完全克服了高压短路的问题.电子束蒸发器的性能试验表明,稳定输出功率可以控制输出稳定的Si束流.应用这种电子束蒸发器可以在700 ℃,成功沉积出平整的单晶Si薄膜.进一步的试验表明,在这种缓冲层表面可以自组装生长出Ge量子点.     

中子束显微镜可观察到纳米颗粒

美国Adclphia工艺公司在国家标准与工艺研究所（NIST）展示了一种显微镜，代替光线用于放大影像的是中子。中子显微镜的优点是对比度均好于光学、X光和电子成像装置。     

扫描探针显微镜在锆合金氧化膜显微组织研究中的应用

Zr-4合金在高压釜中经360 ℃高温水腐蚀后,用扫描探针显微镜(SPM)研究了氧化膜中的显微组织和晶粒形貌.由于SPM具有很高的水平和垂直分辨率,适合于观察表面只有微小起伏的显微组织,所以能够清晰地观察到氧化膜中的裂纹、空洞和晶粒等显微组织.测试样品的制备方法简便.     

钛酸锶钡(BST)薄膜晶化过程研究

采用射频磁控溅RF-magnetron sputting)法制备了钛酸锶钡(BST)薄膜,用快速热处理(RTA)和常缮规热处理(CFA)对薄膜进行晶化.利用AFM、XRD等技术分析了钛酸锶钡薄膜的晶化过程,以及不同退火温度和退火方法下薄膜的晶粒、晶相特性.实验表明:钛酸锶钡薄膜在500℃开始结晶,到700℃左右时结晶比较完善,晶化过程中没有出现择优取向;从表面形貌和X射线衍射图综合分析,快速退火的晶化效果要优于常规退火.     

倾斜溅射制备TbFe薄膜的磁力显微镜研究

磁力显微镜(MFM)作为研究表面磁结构的有力工具广泛地应用于磁性薄膜的研究中.TbFe磁致伸缩薄膜在实际应用中要求易磁化轴平行于膜面,以具有较低的面内饱和场Hs,传统的成膜技术难以实现这一目标,采用倾斜溅射方法制备TbFe薄膜可有效降低面内饱和场Hs.通过测量样品的磁滞回线可以发现,易磁化轴随着溅射角度的增加逐渐偏离样品的法线方向,而取向于平行膜面.本研究工作利用MFM研究了不同溅射角度得到的TbFe薄膜的磁畴结构.发现薄膜的磁畴结构随着溅射角度的增加逐渐由垂直畴转化为水平畴,与磁滞回线测量得到的易轴方向发生偏转的结果相吻合.     

万能工具显微镜测量数据自动采集及处理系统

应用计算机技术对万能工具显微镜进行改造 ,实现了测量数据的自动采集及处理。本文说明了该系统的软硬件实现方法     

纳米样板的制备及其精度分析

介绍了纳米样板的研究现状及制备工艺，特别对扫描探针显微镜(SPM)表面局域氧化反应工艺进行了详述；分析了原子力显微镜(AFM)探针诱导局域氧化工艺的原理及其影响参数，原理为高度局域化的电化学反应，影响参数包括探针上所施加的电压、扫描速度、探针曲率半径、相对湿度以及氧化物厚度等；用该方法分别制备了5条栅线和7条栅线的一维纳米结构样板，并对7条栅线的纳米结构样板的精度和不确定度影响因素进行了分析。