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1.
利用焦炭及煤焦混合物在固定床气化炉中与二氧化碳进行气化反应,用BY-4型全自动显微光度计测定焦炭气孔结构参数和光学组织,探讨无烟煤在焦炭气化反应过程中微观结构的影响。结果表明,加入无烟煤,气化过程中焦炭气孔结构受到保护,在高温、气化历时长、焦炭反应性高的情况下,保护效果明显;无烟煤对焦炭的各向同性结构保护作用显著,各向异性单元越大,受到的保护作用越小。 相似文献
2.
4.
通过对磷酸盐结合剂的高温聚合、复合、改性处理,获得了一种新型高温磷酸盐结合剂,可替代普通的低温磷酸、磷酸二氢铝结合剂,用于中频炉中性炉衬的修补料,取得了令人满意的效果。 相似文献
5.
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8.
为了提高微晶玻璃化学机械抛光(CMP)的材料去除速率(MRR),降低其表面粗糙度,利用自制的抛光液对微晶玻璃进行化学机械抛光,研究了4种含不同磨料(Si O2、Al2O3、Fe2O3、Ce O2)的抛光液对微晶玻璃化学机械抛光MRR和表面粗糙度的影响.利用纳米粒度仪检测抛光液中磨料的粒径分布和Zeta电位,利用原子力显微镜观察微晶玻璃抛光前后的表面形貌.实验结果表明,在相同条件下,采用Ce O2作为磨料进行化学机械抛光时可以获得最好的表面质量,抛光后材料的表面粗糙度Ra=0.4 nm,MRR=100.4 nm/min.进一步研究了抛光液中不同质量分数的Ce O2磨料对微晶玻璃化学机械抛光的影响,结果表明,当抛光液中Ce O2质量分数为7%时,最高MRR达到185 nm/min,表面粗糙度Ra=1.9 nm;而当抛光液中Ce O2质量分数为5%时,MRR=100.4 nm/min,表面粗糙度最低Ra=0.4 nm.Ce O2磨料抛光后的微晶玻璃能获得较低表面粗糙度和较高MRR. 相似文献
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