旋轮轨迹和工艺参数对多道次拉深旋压成形质量的影响研究

多道次拉深旋压成形工艺复杂,旋轮轨迹与工艺参数的选取及其之间的匹配直接影响旋压件的成形质量和尺寸精度。因此,研究不同的旋轮轨迹和工艺参数对多道次拉深旋压成形的影响具有重要的意义。以Al6061和SPCC材料为研究对象,通过试验对比研究了不同轨迹的道次曲线和工艺参数对多道次拉深旋压成形质量的影响。结果表明:在其它工艺参数相同的情况下,采用凸凹圆弧往返进给无道次贴模推进的旋轮轨迹时,所获得的旋压件壁厚最均匀;采用此种旋轮轨迹时,旋轮安装角和进给比越大工件越容易起皱。     

7075铝合金化学镀Ni-P/Ni-W-P双层镀层研究

以7075铝合金为基体,采用直接连续化学镀法制备Ni-P/Ni-W-P双层膜,并采用SEM,EPMA,XRD和显微硬度计、电化学工作站等对膜层热处理前后的表(断)面形貌、成分、结构、硬度和耐腐蚀等性能进行了研究。结果表明:获得了致密无孔且与基体及层间相互结合紧密的非晶态Ni-P/Ni-W-P膜;热处理后,镀层硬度提高,而耐蚀性略有降低。     

用直流等离子化学气相沉积法在硬质合金上沉积氮化钛膜的研究

用直流等离子气相色沉法在硬质合金上沉积ＴｉＮ膜，研究了沉积工艺参数对膜层结构，膜层的成分，断口形貌和膜层硬度的影响，结果表明，在５００～７００℃温度范围内，可以沉积出单相的ＴｉＮ膜，膜层结构致密，硬度可达Ｈｖ２１５６０Ｎ／ｍｍ＾２，在５００片刀片炉量情况下，沉积室中不同部位的刀片均可得相同结构和优异性能的膜层，因此采用此沉积法实现批量化生产。     

RF-PECVD工艺参数对DLC膜结构及性能的影响

用射频等离子增强化学气相沉积(RF-PECVD)法,在常温下实现在载玻片和单晶硅基片上沉积类金刚石(DLC)薄膜。研究结果表明,工艺参数(功率密度、氩气分压、丁烷分压和极间距)的变化对薄膜硬度和透过率影响较大。薄膜硬度随着功率密度的增加而增加;随着氩气分压或丁烷分压的增加,薄膜硬度降低。薄膜的透过率随着氩气分压先增后减;丁烷分压为0.42～0.7Pa或板极间距为4.5～8cm时,薄膜的透过率均达到90%。     

卡通型开瓶器多工位级进模设计研究

介绍一个卡通外形开瓶器的模具设计,采用多工位级进模模式设计制作一套模具并应用实际生产,产品质量好且生产效率高,取得了较好的技术经济效宜。     

浅谈学生课外实践活动的指导

在学校组织的"学生研究计划"(SRP)活动中,学生在老师指导下成功设计和制作了一套多工位级进模具。通过该项科研活动的学习和锻炼,不仅提高了学生的创新意识和动手能力,而且有助于对学生工程实践的认识和了解。     

解读机械设计中的几个问题

总结了机械设计教学中几个比较突出的重点难点问题,通过具体的实例从较高的专业水平解读机械设计教材中普遍存在的几个问题,使学生从较深层次理解教材中未能解释清楚的内容。     

铝合金化学镀镍复合层工艺及性能研究

先将铝合金样品阳极氧化30 min,然后电镀铜5 min,最后化学镀镍30 min,可以在铝合金表面获得颜色稳定、结合性能良好的复合层,且复合层致密,厚度可达20μm以上,复合层的硬度HV0.025/20达到450以上.阳极氧化和电镀铜所用溶液相同,给生产带来了方便.     

等离子体化学气相沉积的布气装置之设计

推导了在设计真空镀膜设备时,计算镀膜室内布气管的直径和出气孔孔径的公式,di=[d-41-D-4L∑im=2(n+1-m)/(h+10-6Bq)]-1/4,以达到均匀布气的目的.给出了在等离子体化学气相沉积设备中的计算实例及应用情况,实践证明,用此公式设计真空镀膜均匀布气装置是可行的.     

基于数值模拟的小应变差筒形件旋压成形方法研究

为了获得变形均匀的筒形件,提出采用有限元数值模拟方法对错距旋压、等距旋压和对轮旋压三种强力旋压成形工艺方案进行分析,介绍了三种强力旋压成形工艺方法及其原理,并制定了相应的成形工艺方案。以20钢筒形件为研究对象,采用MSC.MARC有限元软件,对三种不同的强力旋压成形过程进行了数值模拟。结果表明,旋压成形后工件的内外表面存在一定的应力及应变差;采用对轮旋压所获得筒形件内外表面应力应变差远小于错距旋压及等距旋压,采用等距旋压成形时筒形件内外表面应力应变差最大。