首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   45篇
  免费   0篇
电工技术   3篇
综合类   1篇
化学工业   5篇
机械仪表   8篇
无线电   17篇
一般工业技术   3篇
自动化技术   8篇
  2016年   1篇
  2015年   1篇
  2011年   1篇
  2010年   2篇
  2009年   4篇
  2008年   2篇
  2007年   4篇
  2006年   5篇
  2005年   7篇
  2004年   4篇
  2003年   3篇
  2002年   2篇
  2001年   4篇
  2000年   2篇
  1999年   3篇
排序方式: 共有45条查询结果,搜索用时 312 毫秒
1.
本文在Bresenham算法的基础上,提出一种圆生成算法,这种算法应用于电子束曝光机基于DSP芯片的新型图形发生器中。它通过实时计数,可以快速、准确的得到圆上各象素点的坐标。简化了数据处理过程,提高了处理速度,并大大提高了圆生成的精确度。  相似文献   
2.
国内外超声波电动机驱动技术的最新进展   总被引:5,自引:0,他引:5  
叙述了国内外在超声波电动机驱动技术领域所取得的最新研究成果,重点介绍了直接数字频率合成技术(DDS)、双电感双电容谐振技术(LLCC)和压电变压器技术在该领域中的应用,并指出了驱动电源在今后的发展方向和趋势。  相似文献   
3.
为实现电子束曝光机扫描场的线性畸变校正,设计了图形发生器的成像系统,该系统包括硬件和软件两部分。硬件设计上使用了高速、高精度模数转换器,并对其工作方式及图像采集流程做了具体阐述。软件设计上利用点阵成像的原理,把采集到的图像信号转变成相应的灰度值,并按点阵排列,将最终获得的图像显示在计算机屏幕上,以实现校正。同时还给出了对图像进行局部放大的方法及计算公式。实验证明,该成像系统工作正常,可以获得清晰的图像。  相似文献   
4.
介绍了基于扫描电镜的电子束曝光机对准系统的原理,详细分析了此系统的硬件设计、软件设计以及扫描场的校正过程。利用硬件获取扫描图像,并进行实时标记校正,利用软件进行标记位置识别和校正参数计算,满足了曝光机对准系统在性能和精度上的要求。在100μm扫描场下进行拼接曝光实验,达到了77.3 nm(2σ)的拼接精度。  相似文献   
5.
介绍了一套基于数字图像处理技术和OpenGL技术的数据可视化方案。该方案可以用于各种类型的SPM仪器的二维和三维成像处理。针对SPM应用首次提出了“高度剔除”去噪算法以及“水平线最小二乘调整”高度再调整算法,实验表明,这些算法对于增强高度数据成像对比度以及降低从高度数据到图像映射造成的细节损失可以起到有效的作用。详细地讨论了三维成像中的关键问题———顶点颜色的计算,并通过OpenGL的纹理映射技术获得了逼真的三维形貌图。另外,该套可视化方案数据流明确,可视化效果好,可以为其它类型的数据可视化提供有益的参考。  相似文献   
6.
为满足快速扫描大面积图形的需要,设计了基于扫描电镜的高速图形检测系统。该系统采用快速硬件扫描方式来提高图形检测的速度,可应用于对芯片质量、内部线路状况的检测。介绍了以现场可编程逻辑门阵列(FPGA)为逻辑控制核心的图形检测系统的硬件结构及其工作流程,主要阐述了系统中的D/A转换部分电路的组成和工作原理、图形校正的原理以及系统设计时的注意事项。同时还给出了FPGA在系统中的主要功能以及程序流程图(程序采用VHDL(硬件描述语言)编写)。  相似文献   
7.
传统的以PC机为控制核心的AFM(atomic force microscope)越来越无法满足快速成像的要求,具有先进控制系统的高速AFM正成为国内外的一个研究热点.本文介绍了一种以DSP(digital signal processor)为控制核心的AFM系统.在该系统中,自动进针/退针、扫描电压的产生、A/D采样、D/A输出以及数字闭环反馈控制等任务均在DSP控制下完成;在分辨率为512×512时,可以获得行频55 Hz的扫描速度.实验表明,即便在这样高速扫描的情况下,该系统仍具有良好的成像性能.  相似文献   
8.
介绍了一种电子束曝光机图形发生器模数转换器的设计方案,该设计方案以ADI公司的模数转换芯片AD9223为核心,根据电子束曝光机背散射信号的特点,设计了合理的前端放大器和驱动电路及基准源。这样,提供了与DSP的无缝接口并提高了转换速度。该模数转换器可用于电子束和离子束曝光机中的图形发生器采集标记数据和图像数据信息,同时也可用于原子力显微镜采集图像数据信息。  相似文献   
9.
阐述了超声电机的驱动原理,在此基础上设计了一种驱动电源。针对该电源,尤其是分频、移相和功率放大部分,进行了详细的电路分析。文章最后给出了实验结果,指出了对该方案进一步进行研究的方向。  相似文献   
10.
基于扫描电镜(SEM)的纳米级电子束曝光系统能够以较低成本满足科研单位对纳米加工设备的需求.在电子束曝光系统中,需要快速束闸控制电子束通断以实现纳米图像的多场曝光.从安装位置、机械结构和驱动器等方面讨论快速束闸的设计.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号