铜钴镍离子对镁合金微弧氧化膜的影响

目的提高镁合金微弧氧化膜的耐蚀性。方法在Na_2SiO_3-NaOH-Na_2B_4O_7组成的电解液体系中,分别加入铜离子、钴离子和镍离子对AZ91D镁合金进行微弧氧化,研究离子种类和组成对膜层性能的影响。采用点滴实验测试膜层的耐蚀性,采用电化学工作站测试膜层的电化学性能,采用扫描电子显微镜(SEM)和能谱分析(EDS)对微弧氧化膜层的表面形貌和元素组成进行分析。结果电解溶液中加入钴离子、铜离子、镍离子后,镁合金微弧氧化膜的耐腐蚀性能均有提高。其中铜离子的影响最大,加入1.5 g/L的铜离子后,镁合金微弧氧化膜的点滴时间提高了77.3 s,膜层耐腐蚀性能显著提高。电化学测试结果得出,不加金属离子的氧化膜的腐蚀电流密度为1.092×10~(-5) A/cm~2,腐蚀电位为-1.487 V;加入钴、铜、镍离子浓度分别为2、1.5、3 mol/L时,腐蚀电流密度分别为3.912×10~(-6)、6.027×10~(-6)、2.167×10~(-6) A/cm~2,腐蚀电位分别为-1.412、-0.832、-1.047 V;加入金属离子制得的微弧氧化膜的腐蚀电流密度均降低了1个数量级,腐蚀电位不同程度地正移,其中加入铜离子后腐蚀电位提高了0.655 V。加入金属离子后,陶瓷膜表面空隙和孔洞数量不同程度地变浅和减少,增加了膜层的致密性和均匀性。结论电解液中添加一定量的铜、钴、镍离子均能够提高AZ91D镁合金微弧氧化膜层的耐蚀性,其中铜离子的效果最明显。     

浅谈建筑交往空间及其设计理念

建筑空间设计最基本的目的是满足使用对象,提高人其工作效率和生活舒适度,达到人本主义设计的标准,现代建筑的公共交流空间设计方法应该处理好人与环境之间的关系,将空间合理地运用到设计中去,这对现代社会发展起着举足轻重的作用.     

添加不同种类镍粉体对镁合金微弧氧化膜性能的影响

在微弧氧化基础电解液中分别添加磁性镍粉体和镍包覆碳化硅粉体,研究不同种类镍粉体对微弧氧化膜性能的影响。结果表明:添加磁性镍粉体的试片表面更加平整,覆盖性好,并且点滴时间长。磁性镍粉体的最佳质量浓度为4g/L,此条件下自腐蚀电流为4.682×10~(-7) A,自腐蚀电位为-0.843V;镍包覆碳化硅粉体的最佳质量浓度同样为4g/L,此条件下自腐蚀电流为1.548×10~(-6) A,自腐蚀电位为-0.913V。添加磁性镍粉体使镁合金微弧氧化膜的性能变得更好。     

ZnO的电化学制备及银修饰对其光催化的影响

目的优化ZnO电化学制备工艺,使用银修饰提高薄膜的光催化性能。方法采用单因素实验,对薄膜的活性和稳定性进行评价,研究电化学和光催化沉积银的氧化锌薄膜的光催化活性和稳定性,研究空穴剂、光催化时间、硝酸银的浓度对氧化锌薄膜的影响。使用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)对膜层进行表征。结果电流密度为3.33 m A/cm2,电解10 min时,制备的纯氧化锌薄膜金橙II脱色率最好,且脱色时间与脱色率成正相关。电化学沉积银的薄膜有严重的脱落现象,误差较大。加入0.05 mol/m L的硝酸银,光催化10 min的光催化沉积氧化锌薄膜的稳定性、去除率较好,脱色率最小。选取的空穴清除剂中,加入0.05 mol/m L乙醇时,薄膜没有脱落现象,脱色率较低。光催化沉积银的氧化锌薄膜在2θ=30.92°和26.3°处有ZnO的最强峰,在2θ=37.9°处有Ag的最强峰。结论电流强度为20 m A,电解时间为10 min,硝酸锌浓度为0.5 mol/m L,硝酸银浓度为0.05 mol/m L,空穴清除剂乙醇浓度为0.05 mol/m L,光催化时间为10 min时,制备的薄膜最适宜。经过银修饰的氧化锌薄膜明显比纯氧化锌薄膜光催化效果好。在制备银修饰氧化锌薄膜时加入空穴清除剂,其光催化效果明显又比不加空穴清除剂的光催化效果好。