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1.
2.
用化学溶液沉积法,尤其是金属有机物沉积法(MOD)制备第二代超导带材,包括缓冲层和YBaCuO涂层,在当前超导带材研究中具有重要的意义.因为其成本低、操作简单、便于规模化生产,可能成为制备高温超导带材最有前途的方法.文内详述了用化学气相沉积,化学溶液沉积,电泳共沉积以及超声雾化热分解等方法制备YBaCuO超导涂层的国内外进展,介绍了在LaAlO3单晶上以及金属基带上制备钙钛矿结构缓冲层的主要种类和特征,也介绍了当前研究的热点之一,导电缓冲层的作用、制备方法和研究进展.  相似文献   
3.
以聚笨硫醚(PPS)和聚酰亚胺(PI)为复合粘结剂与聚四氟乙烯(PTFE)混合于合适的溶剂中,制成含PTFE的涂料。分别研究了复合粘结剂中PPS和PI的配比以及涂料中PTFE与复合粘结荆的配比对涂膜性能的影响。结果表明,当复合粘结剂中m(PPS):m(PI)=75:25,涂料中m(PIFE):m(复合粘结剂)=65:35时,所得涂膜性能优良:附着力1级,柔韧性1mm,冲击强度大于500 N/cm2。经过100℃,200℃和250℃的加热-淬冷以及十次加热-淬冷循环实验后,涂膜的物理性能不改变。  相似文献   
4.
稳恒磁场下Ni-W合金镀膜的制备与耐蚀性   总被引:3,自引:0,他引:3  
研究了施加稳恒磁场(0~1 T)对电镀Ni-W合金的影响。测定不同方向、不同强度稳恒磁场下的电流效率、合金组成及镀层的耐蚀性,并用扫描电镜和X射线衍射对镀层的微观形貌及结构进行了观察和分析。对实验结果进行了分析讨论,找出稳恒磁场对这些性能指标的影响规律。结果表明:与不施加磁场相比,施加磁场后镀层的表面更均匀、细致、平整;镀层的含钨量上升:当B⊥J,B=1.0 T时,含钨量上升了约7%;当B∥J,B=1.0 T时,含钨量上升了约9%;镀膜的非晶化程度增强;镀膜的耐蚀性提高;但Ni-W合金电镀的电流效率降低。  相似文献   
5.
介绍了MgB2超导线带材的制备及影响线带材临界电流密度的因素.MgB2超导线带材的主要制备方法是先位粉末套管法和原位粉末套管法.MgB2超导线带材的临界电流密度受多种因素影响,包括外包套金属材料、初始粉末粒度、掺杂元素、形变和热处理等.通过研究这些因素,能有效改善MgB2的临界电流密度.  相似文献   
6.
YBCO textured thick film was prepared by direct periteetic growth method. Microstructure of the film was characterized. Electron backscattered diffraction (EBSD) technique was applied to the film for quantitative texture analysis. The main difficulty in resolving the ori-entation of YBCO pseudo-cubic structure was investigated. Automated orientation mapping was performed on YBCO thick film. Local tex-ture was presented in the form of orientation maps. Misorientation distribution and crystal growth characterization in the YBCO thick film were revealed. Large domains with well-aligned YBCO grains were formed. Each domain presented clear in-plane and out-plane textures.  相似文献   
7.
电沉积制备CuCo颗粒膜微观结构和巨磁电阻效应研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用电化学的方法在半导体Si表面沉积了CuCo颗粒膜.研究了膜层电沉积过程中颗粒膜生长的显微结构及热处理过程颗粒膜元素的分布情况.经过450℃退火处理1h后Cu80Co20薄膜GMR达到最大值,随着温度的升高膜层的电阻率也随之下降.面扫描元素分析和XRD分析表明经过退火处理膜层中出现Co粒子的析出,出现了局部富钴的区域.磁阻测量表明此时有利于提高膜层的GMR值.更高温度的退火处理使GMR值降低.磁性能测量发现随着退火温度的提高膜层的饱和磁化强度Ms、矫顽力Hc和剩余磁化强度Mr也随着变大.  相似文献   
8.
ComparedwithYBaCuOsuperconductor ,theNdBaCuOhashighercriticalcurrentdensity (Jc)inhighmagneticfield[1] .Jc equalsabout 1× 10 3A·cm- 2 in 10TfieldforNdBaCuOwhereasforYBaCuOitis 1× 10 2 A·cm- 2 atthesamefieldatliquidnitro gentemperature .NdBaCuOshowedhighergrowthspeedwhenBridgmenmethodwasusedtopreparetheorientedmaterial[2 ] .Ataspeedof 5 0mm·h- 1,thesamplecouldstillgethighdegreeoforientationforNdBaCuO ,butforYBaCuOthegrowthspeedwaslim itedtoonly 1or 2mm·h- 1.Becauseofitshighcr…  相似文献   
9.
对45钢进行了单元渗硼与硼稀土共渗,观察了渗硼层的组织、厚度,测试了各渗硼样品显微硬度、耐磨性和耐蚀性等性能.结果表明,加入稀土元素以后,渗硼层基本为单相的Fe2B,硼针变长,取向明显.在950 ℃×5 h渗硼条件下,稀土氧化物质量分数在8%~9%时,渗层厚度最大.质量分数为9%稀土-硼共渗可以提高硼原子的渗入深度约1.5倍.与单元渗硼样品相比,硼稀土共渗样品具有较高的硬度、耐磨性能和耐酸、碱、盐腐蚀性能.  相似文献   
10.
实验通过无氟的金属有机物液相沉积法在单晶LaAlO3(LA0)基底上生长La1-xSrxTiO3缓冲层,之后在其上生长YBa2Cu3O7-σ(YBCO)超导层,这种制备方法与真空沉积法和三氟乙酸金属有机物沉积法相比,具有成本低、效率高和环境友好等优点,对YBCO涂层导体的实际应用更具有研究价值。X射线衍射(xRD)结果表明,在LAo基底上生成了纯净的La1-xSrxTiO3膜,在La1-xSrxTiO3/LAO结构上生成了单相的YBCO膜,构成两种膜的晶粒均具有沿垂直于基底表面的C轴方向择优生长;通过半定量的能谱分析(EDS)确定缓冲层La1-xSrxTiO3为La0.47Sr0.53TiO3相,表明部分La元素挥发;扫描电子显微镜(SEM)结果表明在LAO基底上生成的La0.47Sr0.53TiO3膜平整光滑;在La0.47Sr0.53TiO3/LAO结构上生长的YBCO成膜颗粒聚集成片状,相互叠加生长,形成平行于基底表面的超导层。  相似文献   
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