雷美替胺的合成路线改进

以1,2,6,7-四氢-8H-茚并[5,4-b]呋喃-8-酮为原料,经缩合、氢化两步得到外消旋中间体。再通过N-乙酰基-L-苯丙氨酸拆分获得S-型异构体中间体,最后通过丙酰氯试剂酰化生成雷美替胺原料药。改进后的工艺操作简便,条件温和,中间体和产物反应终点易于监控,总收率为13%,适合工业化生产。     

HyperSnap-DX技巧两则

快速拼接图像如果需要将抓取的不同图像拼接成一幅完整的图片,常规方法比较繁琐,HyperSnap-DX已经提供了图片即时拼接功能。在HyperSnap-DX主窗口中点击菜单“Capture/Capture Settings(抓取设定)”,在抓图设置窗口中打开“View&Edit(查看编辑)”面板(如图),选择“Paste each new capture onto the currentimage(自动添加)”项,激活HyperSnap-DX的抓图拼接功能。这样就可以对连续抓取的图像进行自由的拼接操作从而得到完美的整幅图片了。此外,还可以进一步勾选“Extend drawing space and…(扩展绘图空间)”项,设置具体的拼接位置,…     

单管油井运行创新——解决零散井、难采井正常生产的一种方法

冀中北部油田河西务构造带的油井，其开采层位与主力层不同，采出原油胶质高、油稠、油温低。由于该井区地处偏远，无法进入系统，所以采取单管、单井拉油点的方式生产，因无伴造成油井井口回压高，管线堵，热洗管线频繁，严重影响油田的原油生产。经过实验研究，应用防爆电加热器解决了单管油井的运行问题。该问题的解决，不仅有助于认识该地区的地下情况，并且在其它有类似状况的零散井上推广应用，取得了良好的经济效益。现场试验表明，     

IP网络上电路倍增设备的研究

简要介绍了通过IP网络上电路倍增设备(IP CME)的数据流的处理过程;IP CME中的复用技术;控制IP包发送的激活算法;网络发生拥塞丢包的处理方法;并在传输效率和信令处理2个方面与VOIP进行比较,可以看出IP CME具有很大的优越性和良好的发展前景。     

Ti-2.5Cu在293和77K下的力学性能和变形机制

Ti-2.5Cu合金经过固溶-时效处理后,纳米级Ti2Cu颗粒呈均匀分布,合金具有良好的综合力学性能.温度从293 K降到77 K时,合金的强度和塑性随着温度的降低而增加,77 K下低周疲劳寿命比293 K下的高.微观组织的分析表明,Ti2Cu颗粒对位错运动有阻碍作用,而对孪生切变影响较小.在293和77 K下循环变形后观察到孪晶,低温下孪晶数量增多并相互交叉.表明孪生和滑移在293和77 K下的循环变形中同时起作用.Ti-2.5Cu合金在77 K下较高的塑性和低周疲劳寿命可以用孪生诱发塑性予以解释.     

某型号前盖密封圈及壳体组件密封圈寿命研究

介绍了两种胶料的丁腈橡胶密封圈寿命研究和评估试验。试样为φ10×10小豆,其特性指标为残余变形量,将该试样在333K(60℃)、343K(70℃)、353K(80℃)、363K(90℃)及373K(100℃)五个温度下进行加速老化试验,同时,将装有上述两种密封圈的主阀在343K(70℃)下进行90天老化。根据试验结果估算了两种胶料在301K(28℃)和在323K(50℃)下的寿命,并推导出密封圈在规定使用条件下不同温度时的寿命方程。     

拍摄：疑难解答

＊ist Ds的固件升级；DV的百叶窗现象；理光R3 PK佳能S80；SIGMA 18-125mm镜头成像如何？千元以下的国产数码相机怎么样？     

我们用“脸”登录Windows AVL神奇的面容识别术

我们在科幻电影中经常看到这样的情节,先进的仪器通过对人的面容摄像分析,就可以准确地判断和识别出此人的身份,从而决定其是否有进入密室的权利。在现实生活中,随着视频聊天的流行,越来越多的电脑都配置了摄像头。如果让普通的摄像头也具有面容识别技术,那么我们就不必担心别人随意使用自己的电脑了。AlparysoftVideoLock(以下简称AVL)就是这么一款有趣的软件,AVL使用了先进的面容识别技术,能够通过摄像头判断使用者的身份,从而决定其是否有使用电脑的权利。AVL具有易于使用的特点,只需简单的操作,就能让你的面容成为开启电脑的“钥匙”。下载地址:http://www.alparysoft.com/file.php?id=47。     

高分子纳米LB膜的制备及其光刻性能研究

合成并表征了N-十六烷基丙烯酰胺（HDA）和对叔丁基苯酚甲基丙烯酸酯（BPhMA）的共聚物p（HDA-BPhMA）s。当HDA含量较高时，共聚物可在气，液界面上形成稳定，排列紧密的单分子薄膜，并可以Y型膜的方式沉积在各种固体基片上，形成多层均匀的Langrnuir-Blodgett（LB）膜。这种LB膜被成功地应用于光刻，获得了分辨率为0.5μm的LB膜图形。以该图形为抗蚀层，可将图形进一步转移至金属薄膜上，得到分辨率较高的金属图形，在图形转移的过程中，这种LB膜显示出较高的抗蚀性，有望作为纳米抗蚀薄膜材料在亚微米刻蚀领域得到应用。