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在低频FET放大器中,电阻反馈是一种卓有成效的方法,采用这种方法能同时获得好的超宽带增益平坦度和输入、输出电压驻波比。与简单的匹配电路相结合,这种电阻反馈电路可以设计通用目的实用放大器,其芯片面积要比用通常的匹配技术的芯片面积小得多。本文所描述的电路芯片面积为1.5×1.5mm,频率为5MHz~2GHz,增益为10dB±1dB,极好的输入和输出电压驻波比,饱和输出功率大于+20dBm。最小噪声偏置下的噪声系数近似2dB,相关增益为9dB。 相似文献
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<正> 电子系统通常要求成本低、体积小、多功能的组合件。本文将描述一个4GHz全单片接收机,它作为集成电路组合件适用于各种微波系统。单片接收机做在1.6mm~2的GaAs片上,其中包括一级双平衡混频器和5级射频放大器,图1说明,当把混合电路制成单片电路便可实现大量节约。单片接收机的研制成功为微波电路的设计者提供一种方便,即在设计数字和低频模拟电路系统时,预先就可以知道集成电路的性能和优点。如图2所示,单片接收机是在未掺杂的GaAs液相外延片上采用选择离子注入技术制 相似文献
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由于同时采用了两种电介质对温度补偿量进行最佳设计,并且采用了除湿机构,从而使X波段耿振荡器在不稳定腔体中,获得了10~(-6)/度的频率稳定度。 相似文献
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本文阐述了等离子增强化学汽相淀积(PECVD)氮化硅膜的生长原理和方法;对于在不同衬底,如Si,特别是GaAs和金属膜上淀积氮化硅膜的各种影响因素进行了理论和实验分析;针对GaAs上淀积氮化硅膜的特殊现象提出了新的解释;推导出了SiN膜性能参数Si/N、折射率、Si-H键和N-H键密度等量之间关系的经验公式;研完了MNM电容上下电极对SiN性能的影响,指出用Ti-Pt-Au做下电极,Al做上电极可以提高电容耐压;确立了优化的条件,在较低温度(200~300℃)下生长出了氧含量极低、致密耐击穿电压高的优质SiN膜,该介质膜实用于半导体单片集成电路和高耐薄膜电容。 相似文献
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<正> 一、前言n 型 GaAs 材料具有特殊的双能谷能带结构,当器件的偏置电场超过阈值电场时(>3300伏/厘米),导带中的下能谷电子获得超过0.36电子伏的能量,就从下能谷跃迁到高能量状态的上能谷中去。因为上能谷具有迁移率低、有效质量大的特点,这时电子的速度就降低了,产生了负微分迁移率或称为负阻、负电导特性,从而把直流功率转换到微波射频功率。体效应振荡器件是1961年美国马拉德研究所的 B.K.Ridley 和 相似文献
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